看了无掩模光刻机/直写光刻机的用户又看了
Nikon NSR G线步进式光刻机是一款专为半导体制造设计的高精度设备，该机型采用 G 线光源和先进的步进光刻技术，能够实现高分辨率和精确的图案转移，广泛应用于集成电路（IC）、微处理器和存储器等电子元件的制造。凭借其良好的成像质量和快速的曝光速度，NSR G线非常适合大批量生产，同时其用户友好的操作界面和自动化功能大大提升了生产效率。这使得 Nikon NSR G线成为现代半导体制造过程中不可或缺的重要工具，满足行业对高质量和高效率的需求。
该设备通过高强度的 G 线光源将掩模上的图案逐步投影到涂有光刻胶的晶圆表面。光源发出特定波长的光线，经过高分辨率光学系统，精确地将掩模图案投影到晶圆上进行曝光。曝光后，光刻胶的化学性质发生变化，接着进行显影，去除未曝光或已曝光的光刻胶，从而形成所需的图案。随后，采用刻蚀工艺将图案转移到晶圆材料上，最后去除残留的光刻胶。这一系列步骤使得 Nikon NSR G线能够高效地实现复杂图形的精确转移，满足现代半导体制造的高标准要求。
分辨率 | 0.65µm |
N.A. | 0.6 |
曝光光源 | 436nm |
倍率 | 5:1 |
大曝光现场 | 15mm*15mm |
对准精度 | 140nm |
Nikon NSR G线步进式光刻机
光源波长436nm
分辨率优于0.65µm
主要用于2寸、4寸、6寸生产线
广泛应用于化合物半导体、MEMS、LED等
产品货期: 60天
整机质保期: 1年
培训服务: 安装调试现场免费培训
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