无掩膜激光直写纳米光刻机

DALI是由Aresis、CENN  Nano  center  和  LPKF  联合研发的高精度无掩膜纳米光刻机，是一款性能稳定，操作简单，对环境要求低，界面友好，零维护的桌面型高精度激光直写设备。其采用的是AOD声光调制器来控制激光进行高精度光刻，可以实现优于80nm平滑的边缘结构，100-150nm最小结构间距，最高400nm套刻精度，是实验室级微纳加工与器件制作不二选择。DALI凭借优异的性能，目前已广泛应用到微电子、微器件、纳米光学、材料科学、自旋电子学等研究领域。

先进的AOD技术，定位分辨率优于0.1nm

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  A. 可以获得任意平滑、锐利的结构边缘

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  B. 可高分辨调整特征结构间的距离

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  C. 可以实现亚微米级精细结构的构建

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主要特点：

# 最小特征结构小于1μm

# 针对I-line光刻胶进行优化（SU-8，AZ，……）

# 超快与超高精度定位，光斑定位分辨率＜1nm

# 可构建高深宽比结构（可达10:1）

# 12nm-1μm光斑间距调节以获得超高平滑度

# 100-150nm最小结构间距

# 最高400nm套刻精度

# 适用于从CAD设计到各种结构的快捷构建

# 具备非平表面直写能力

产品优势

1. 超稳定，长寿命375nm激光器

相对于其它各种光源，在精密光学仪器应用中，激光光源在光束质量，稳定性，耐用性等方面具有无与伦比的优越性。DaLI无掩膜纳米光刻机采用最优的激光光源，以保证超一流的性能和用户体验。

2. 广泛的适应性

DaLI无掩膜纳米光刻机广泛适用于各种I-line光刻胶，AZ系列正胶，SU-8系列负胶等，在各种厚胶与薄胶应用中有着出色的表现。

3. 非平表面直写功能

4. 整机恒温系统，保证最佳的性能

DaLI无掩膜纳米光刻机采用了超越光刻技术极限的亚纳米级AOD激光操控技术，光斑定位精度可达0.1nm。为充分发挥AOD技术的优势，我们建立了整机恒温系统，控温精度可达±0.1℃，将设备所有部件和温差形变和热漂移降到最低，从而实现真正的高精度光刻。

5. 准确的图形结构

6. 工作范围与曝光拼接

大光斑直写工具单个工作区域 为 900μm X 900μm；

小光斑直写工具单个工作区域为 300μm X 300μm

工作区域100mm X 100mm 工作区域间的平滑过渡机制（软拼接与硬拼接）；DaLI的软拼接可以将曝光扫描线延伸到临近区域，并梯度降低激光强度（红线）。在临近区域，激光强度梯度增加（蓝线），从而获得干净均一的拼接图案

7. 用户友好的操作软件

DaLI控制软件通过USB接口与设备快速通讯，可以对设计图中的区块和每一个微结构的曝光参数进行设置，对图形设计的预览和快速栅格化，对样品的观察、准直、调平等。该软件具备图形设计和展示功能，可选用多种绘图工具，支持对 dxf, gerber, bm 等格式文件的导入与修改。

8. 更好的深宽比