形貌仪

仪器信息网形貌仪专题为您提供2024年最新形貌仪价格报价、厂家品牌的相关信息, 包括形貌仪参数、型号等,不管是国产,还是进口品牌的形貌仪您都可以在这里找到。 除此之外,仪器信息网还免费为您整合形貌仪相关的耗材配件、试剂标物,还有形貌仪相关的最新资讯、资料,以及形貌仪相关的解决方案。
当前位置: 仪器信息网 > 行业主题 > >

形貌仪相关的厂商

  • 400-860-5168转2125
    KLA是全球半导体在线检测设备供应商。KLA于2018年3月从安捷伦Keysight Technologies公司收购了行业的龙头产品——高精度原位微纳米力学测试系统——Nano Indenter G200 和高精度微纳米拉伸系统Nano UTM T150;该力学设备的工厂是全球较大的高精度力学测试系统的供应商,1983年成功制造了第一台商用Nano Indenter;该力学设备的工厂是业内罕有达到40年Nano Measurement Tool生产和研究经验的供应商,成熟的工艺保证了新一代Nano Measurement Tool具有相当好的稳定性和可靠性。该力学设备的工厂拥有广泛的顾客群,在高端力学测试系统领域内拥有很高的市场占有率。 KLA是形貌学测试仪的发明者,经过近30年的技术创新和产品更新换代,一直保持着形貌学测试技术的领导地位。KLA形貌学测试设备的工厂是业内罕有超过30年形貌仪台阶仪生产和研究经验的供应商,成熟的工艺保证了新一代仪器具有好的稳定性和可靠性。该形貌学设备的工厂拥有广泛的顾客群,在高端形貌学测试系统领域内拥有相当高的市场占有率。 1. 产品技术水平 KLA公司拥有很多Nano Measurement Tool的核心技术, 并不断推出更多更新更便于操作的纳米测量产品。纳米拉伸测试系统Nano UTM T150,就是基于KLA(科磊半导体)的技术开发的,适用于对多种材料进行高精度拉伸压缩测试分析,对样品的多种力学性能进行快速、实时分析,包括弹性模量、屈服强度、极限抗拉强度,疲劳特性等等。在许多应用研究领域,Nano UTM T150都表现出其无与伦比的杰出性能,诸如:生命科学、材料科学、聚合物材料、交叉学科纳米尺度的研究等。 KLA公司拥有很多Nano Indenter的核心技术,包括已成为业界标准的连续刚度测量功能、接触刚度成像功能以及快速纳米压入测试技术等等;KLA公司的连续刚度测量功能已经成为薄膜、涂层、多相材料等样品检测常用的测试技术,并已经录入各种力学领域的国际标准和中国国家标准内。KLA拥有快速压痕测试技术,最快可达到 1 压痕点/秒。 KLA公司拥有很多形貌学核心技术, 并不断推出更多更新更便于操作的形貌学测量产品。形貌学测试系统D-系列、P-系列和Zeta-系列都是基于KLA的技术开发的,适用于对多种材料进行高精度形貌学测试分析,对样品的多种形貌学性能进行快速、实时分析,包括台阶高度、表面粗糙度、表面形貌,表面内应力分布等等。在半导体科学、材料科学、聚合物材料、生命科学、交叉学科纳米尺度的研究等诸多领域,D-系列、P-系列和Zeta-系列都表现出杰出的性能特征。 2. 售后服务和技术支持 KLA公司在中国有超过600名员工,在国内配备本土Nano Indenter方面的技术专家,在业内拥有非常好的口碑; KLA公司在中国拥有自己的纳米科学示范实验室,并有专职的应用专家在实验室工作,负责用户的应用技术支持工作; KLA公司还定期举办高级用户培训班,由公司的应用科学家为不同学科的用户进行各个领域应用的深层次培训。
    留言咨询
  • 优可测 金牌2年
    400-860-5168转5924
    优可测是板石智能旗下专注于高精度检测领域的国产自主品牌,致力为客户提供更好、更先进的三维形貌测量解决方案及技术。优可测拥有白光干涉三维形貌系列、3D线激光工业在线测量系列、光谱共焦位移传感器系列等产品线,提供从微米到纳米到亚纳米精密光学测量仪器,满足材料/物体表面3D形貌、粗糙度、3D轮廓、几何图形、尺寸、平面度、台阶高度等特征测量。 优可测旗舰产品——AM7000白光干涉三维形貌测量系列最高测量精度达到0.002nm,产品性能可满足同类国际产品的国产替代化需求,广泛应用于半导体、光学、3C制造、精密加工、航空航天、医疗器械等行业领域。业内首创的SST及GAT算法,搭配创新硬体设计,使产品达到体积更小、易用性更佳、精度更高的行业领先水平。优可测总部位于广东深圳,在华东,华中设有办事处,并在美国拥有联合研发中心。
    留言咨询
  • 上海明古嘉科技专注于为微纳米科学领域提供综合性解决方案,为全国各大高校、科研院所及企事业单位提供先进的微纳米科学仪器。与Park公司形成战略合作,Park始终致力于纳米领域的形貌&力学测量和半导体先进制成工艺的计量的新技术新产品的开发。独有的技术是将XY和Z扫描器分离,实现探针与样品间的真正非接触,避免形貌扫描过程中因探针磨损带来的图像失真,快速成像还可以大大提高测试效率,降低实验测试成本。 公司成立以来始终为客户解决各种技术难题,提供最完善的解决方案。
    留言咨询

形貌仪相关的仪器

  • 随着半导体技术的电子技术工艺的发展,电子产品都往小型化,轻薄化发展。iWatch的一经推出,穿戴电子产品成为了一个新的电子设备应用潮流。随着电子产品的小型化,器件体积越做越小,空间就紧凑起来,这对器件加工尺寸及工艺的容差要求就越来越高。如何管控器件的尺寸及加工工艺对检测手段提出了新的挑战。原来很多制程工序只要管控2D的尺寸,现在需要管控3D的尺寸,而且精度要求都在微米级别,这就需要一个高速、高精度的测量手段来管控生产品质。卓立汉光的3D形貌测试仪应运而生,这款仪器采用非接触式线光谱共焦快速扫描技术,能够高精度还原产品的3D结构,对肉眼不可见的结构缺陷都能准确检测。因为具有较快的扫描速度,微米级别的精度和超强的稳定性,一经推出立马成为精密生产商的新宠。在精密铸件、精密点胶、3D玻璃,半导体缺陷检测和多层光学薄膜厚度检测,就是这款产品的主要应用领域。 卓立汉光长期专注于光谱技术的应用研发,3D形貌测试仪就是常年实践积累的成果(利号:CN207556477U)。该项技术,具有以下优点:技术线性共焦光谱技术点测技术激光扫描3D相机速度1000 line/s1000 point/s1000 line/s多角度拍照快扫描宽度6.5mm/20mm点可选大分辨率1um1um30um100um界面层数多层多层表面表面建模否否否是数据量大大少少 鹰眼系列3D形貌测试仪主要特点有:1、非接触性测量;2、线扫描,高效率;3、微米级精度;4、满足透明面及高对比度表面测试;5、支持二次开发; 鹰眼系列3D形貌测试仪主要应用1、精密部件3D尺寸及段差测试;2、精密点胶胶线截面、胶线宽度、胶线高度测试;3、3D玻璃缺陷检测;4、半导体表面缺陷测试;5、多层薄膜厚度测试; 3D形貌测试仪产品型号及规格HawkEye-1300HawkEye-5000方式共焦光谱共焦光谱精度1um8um重复性±0.3um±4um线扫宽度6.5mm20mmZ轴量程范围1.3mm5mm扫描速度300line/s(Max:1000line/s)300line/s(max:1000line/s)重量5Kg8Kg尺寸460X300X140mm460X300X140mm
    留言咨询
  • 三维形貌仪/台阶仪 400-860-5168转1329
    三维形貌仪概述Rtec 形貌仪在加利福尼亚硅谷制造。已被多个知名实验室、大学和行业使用。UP系列在一个头上组合了4种成像模式。能够在同一测试平台上运行多种测试,只需单击按钮,就能转换成像模式。这种组合可以轻松地对任何表面进行成像如透明、平坦、黑暗、扁平、弯曲的表面等。每种成像模式都具有各自的优势,并且各项技术彼此互补。该项整合技术不仅有利于数据的综合分析,也可以减少维护成本,从而提高效率。 3D光学轮廓仪组合l白光干涉仪l旋转盘共聚焦显微镜 l暗视野显微镜l明视野显微镜 主要平台规格 产品规格l标准电动平台150x150mm(可选210x310mm)l标准转塔,电动转塔可选l垂直范围可达100mml倾斜阶段6度lXY舞台分辨率0.1uml自动拼接楷模lSigma头 - 白光干涉仪lLambda头 - 白光干涉仪+共焦+暗场+明场 应用 ●粗糙度 ●体积磨损 ●台阶高度 ●薄膜厚度 ●形貌 测试图像示例 DLC涂层球 粗糙涂层表面 圆球磨斑 金刚石 生物膜 微流体通道 聚合物涂层 墨痕 硬币 研磨垫 铝的失效痕迹 划痕 涂层失效痕迹 芯片通道 晶圆 以上为双模式三维表面轮廓仪拍出的样品形貌。在同一平台上结合使用多种光学技术,测试仪可以测量几乎任何类型的nm分辨率样品。该表面轮廓仪配有功能强大的分析软件,符合多种标准。双模式三维表面轮廓仪能够在同一测试平台上运行多种测试,产品的组合可根据不同的技术应用要求而改变。针对样品的同一区域可进行不同模式的实验检测,模式切换可实现自动化。多项技术的整合能够使不同技术在同一检测仪上充分发挥各自的优势。该项整合技术不仅有利于数据的综合分析,也可以减少维护成本,从而提高效率。
    留言咨询
  • 可与Theta光学接触角仪联用的3D形貌模块----引领涂层和表面研发迈入新阶段可与Attension Theta光学接触角仪联用的的3D形貌模块是第一款能够同时提供3D表面粗糙度和接触角信息,从而实现原位测量这两个参数的产品。OneAttension软件能够基于测量结果自动计算粗糙度校正后的真实接触角值和表面自由能。仪器操作简单,测量快速。通过区分表面化学性质、涂层配方、表面改性所引起的粗糙度对表面性质的影响,可引领工业研发进程迈入一个全新的水平。应用许多用于优化润湿性和粘附性能的表面改性和涂层技术都会对材料表面化学和粗糙度造成一定的影响。了解这两个因素对润湿性影响的机理,可使之成为在产品研发过程和质量控制中的有力工具。粗糙度修正的接触角也能够用于计算粗糙表面上的基本表面自由能。3D形貌模块可以用于研究微观尺度的粗糙度,许多应用中都需要考虑这一因素,例如:建筑与建筑材料建筑材料的涂层和表面处理对增强材料的外观和耐久性非常重要。涂料和胶合板等不同类型涂层的粘附性取决于它们的表面性质。众所周知,表面形貌和表面化学都对粘附性和润湿性有影响。Theta光学接触角仪可用于评估表面处理质量及其对润湿能力的影响。attension.com/applications中的应用实例-16就关注于木质-塑料复合材料中的应用。生物复合材料的相容性金属、陶瓷、聚合物等多种材料都可作为医疗领域中的植体。植体表面通常通过机械粗糙化和化学处理来进行改性,从而提高其与周围寄主组织的生物相容性。区分化学处理和机械处理对水接触角值的影响,对植体的研发和质量控制意义重大。更多详情请参考attension.com/applications中的应用实例-17。纸张涂层优化纸张表面的润湿性和粘附性,对确保如在印刷和包装等行业的各种转换和精加工操作的质量和运行能力起到至关重要的作用。如用颜料涂层对原纸进行涂层,用以提供一个可用于打印的光滑表面,或者在包装应用中,通过蜡涂层来保证阻挡气味和气体传输。纸张表面通常所具有的微米尺度的粗糙度影响着润湿性和粘附力及其表面化学应用。因此,了解粗糙度对润湿性的影响可简化涂料配方和优化表面处理工艺,从而更好地理解质量问题的根源所在。技术与实验润湿性通常由接触角实验来研究,由应用于理想表面的著名的杨氏方程定义。表面自由能的理论也是基于使用杨氏接触角来进行计算。通常,表面被假设成化学性质均匀、形貌均一、光滑的平面,然而真实表面并非如此。表面粗糙度是公认可以增强润湿行为和影响粘附力行为的一种处理方式。更多详细内容可参见attension.com/applications中的理论手册-7。可与Attension Theta光学接触角仪联用的的3D形貌模块,使用户能够定义杨氏接触角和表面自由能测量,并根据Wenzel理论对粗糙表面的测量。粗糙度修正的接触角能够使用户了解粗糙度和表面化学组成分别对表面润湿性的影响。使用高准确度的XYZ自动样品台,用户能够同时原位进行测量并绘制完整的表面形貌图,从而研究表面均匀性和清洁度。用户使用3D形貌模块可以得到如下参数:-θc,粗糙度修正的接触角-3D和2D形貌参数和视图3D 粗糙度图像和参数: Sdr, Sa 和Sq. 2D 粗糙度图像和参数: Ra, Rq, Rp, Rv, Rz 和 R10z技术指标硬件尺寸: 7 cm x 16.5 cm x 11.5 cm重量: 2.6 kg电压: 100…240 VAC频率: 50-60 Hz系统要求计算机: 2G处理器,2G内存,40G硬盘(20G空闲),1024x768分辨率,2个USB口,1个火线接口或1个PCI插槽推荐使用防震台或大理石实验台要求配置:XYZ全自动样品台其他指标方法名称:基于条纹投影相移原理XY像素大小: 1.1 μm x 1.1 μmZ方向测量范围: 1 μm – 60 μm 横向采样: 1.41 mm x 1.06 mm (XY). (图像粘贴选项: 4.2 mm x 4.2 mm)工作距离:18 mm样品台上的最大样品尺寸: Unlimited x 180 mm x 22 mm (L x W x H)成像选项: 光学图像, 2D粗糙度图, 3 D粗糙度图每个实验的测量时间:5-30 s (1280 x 960,实验点) 分析参数(ISO 4287, ISO 4288):r (Wenzel 方程)θc, 粗糙度校正接触角/Wenzel接触角Sdr (%), Sa (um), Sq (um)水平、垂直和 2D 线形区域的Ra, Rq,Rp, Rv, Rz, R10z波纹过滤:高斯高通滤波器(ISO 11562)样品要求/局限性:需要漫反射样品
    留言咨询

形貌仪相关的资讯

  • 药物颗粒形貌与流动性的关系
    在制药行业中,药物粉体的流动性对生产、混合、传输、储存等过程具有重要影响。因此,准确描述和改善药粉的流动性,是控制产品质量的重要手段。药物粉体的流动性与颗粒形貌密切相关,还与粒度分布、含水量、颗粒表面粗糙程度和加入的其他成分等因素有关。本文通过实验寻求颗粒形貌和流动性之间的相关性。我们选取3个粒度和颗粒形貌均不相同的样品,先采用卡尔流动性指数法测试它们的流动性,测试结果如下。从以上结果可以看出,1号样品的流动性指数大,流动性好;2号样品流动性指数居中,流动性一般;3号样品的流动性指数最小,流动性最差。那么,它们的形貌和粒度分布如何呢?从动态显微图像粒度粒形分析系统测定结果看,1号样品中圆形度大于0.7的颗粒个数占比达到94.1%(圆形度大于0.9的颗粒占到2.3%)。1号样品颗粒的圆形度较高,与流动性成正相关。 图| 1号样品部分颗粒的圆形度和粒形2号样品颗粒粒径分布非常均匀,圆形度大于0.7的颗粒个数所占比例为79.6%,与1号样品相比少14.5%,因此它的流动性也较低。可见此样品的圆形度与流动性也呈正相关。 图| 2号样品部分颗粒的圆形度和粒形3号样品的颗粒形状多数近似于线条型,所有颗粒的圆形度都在0.5以下,圆形度在0.2~0.4的颗粒占97.5%。图| 3号样品部分颗粒的圆形度和粒形结合上述,1号样品94.1%的颗粒圆形度大于0.7,圆形度较高,流动性也好;2号样品79.6%的颗粒圆形度大于0.7,圆形度一般,流动性也一般;3号样品所有颗粒圆形度均小于0.5,圆形度最差,流动性也最差。圆形度与流动性呈正相关性的原因之一,是因为球形颗粒间接触面积最小,因而流动性好;非球形粒状颗粒间的接触面积稍大,流动性次之;片状、枝状和针状的颗粒间的接触面积大,且颗粒间相互勾连,故流动性最差。 如何进行颗粒圆形度分析?丹东百特仪器有限公司生产的干法或湿法动态粒度粒形分析系统,具有测试分析速度快,操作简便、测试范围大等优点。可同时测出粒度和粒形,更有长径、短径、等效面积径、体积分布、面积分布和数量分布等多种结果,能满足制药领域粒度粒形及流动性研究的需要。百特干法和湿法动态图像粒度粒形分析系统
  • 纳米材料形貌可人为控制
    自上世纪30年代起,异质结构的半导体器件就在人们的生活中发挥着越来越重要的作用。在人们的现代生活中,以半导体异质结构为基础的发光二极管、场效应晶体管、太阳能电池等都得到了广泛的应用。因此,发展纳米材料的合成技术,制备具有纳米尺寸的“半导体—半导体异质结构”材料不仅是合成化学所面临的挑战,同时也是发展新型功能纳米材料的一个重要途径。  中国科学院化学研究所高明远课题组在具有特殊结构和形貌的纳米材料的合成方面开展了一系列研究工作,取得了突破性进展。该小组采用高温热分解和分步注射的方法,成功地制备了纳米“火柴”、不对称形貌的纳米“泪滴”等异质结纳米晶体以及In2S3纳米“铅笔”。  最近,该课题组在系统研究工作基础上,利用粒径不同的Cu1.94S的纳米颗粒作为催化剂,并在反应体系中加入硫醇作为表面配体。他们证明了导体 Cu1.94S纳米颗粒可以催化硫化铟纳米晶体的生长,形成具有“半导体—半导体异质结构”的纳米材料,而类似的催化作用之前只在金属类纳米颗粒中被观察发现。研究还表明在In2S3纳米晶体的形成过程中,由铜、铟前体化合物与反应介质十二硫醇的相互作用所导致的凝胶化现象可直接影响纳米材料的晶体生长动力学。据此,通过对凝胶化过程的控制,他们成功地实现了具有异质结构的火柴形及泪滴形的Cu2S-In2S3纳米材料以及铅笔形In2S3纳米材料的制备。  中国科学院汪明博士说,论文的重要意义在于揭示了异质结构纳米晶的形成的过程及其机理,表面配体与金属离子的配位作用所导致的凝胶化对纳米材料的生长,及得到的纳米材料的结构与形貌进行控制具有重要的普适意义。
  • 材料微区结构与形貌分析方法研究及应用
    材料的微区结构与形貌特征具有重要的研究意义,常用的分析方法有光学显微镜、扫描电子显微镜、能谱和电子背散射衍射、透射电子显微镜、扫描隧道显微镜、原子力显微镜、X射线CT等。为帮助广大工作者了解前沿表征与分析检测技术,解决材料表征与分析检测难题,开展表征与检测相关工作,仪器信息网将于2023年12月18-21日举办第五届材料表征与分析检测技术网络会议,特别设置微区结构与形貌分析专场,邀请多位专家学者围绕材料微区结构与形貌分析技术研究与相关应用展开分享。部分报告预告如下(按报告时间排序):天津大学材料学院测试中心副主任/副高 毛晶《透射电子显微镜技术在材料微区结构及形貌分析中的应用研究》点击报名听会毛晶,天津大学材料学院测试中心副主任/副高。负责透射电镜、X射线衍射仪及透射相关制样仪器(包括球差透射电镜、离子减薄仪等)的运行维护及分析测试工作,具有较丰富的测试经验。熟悉其他各种大型仪器,包括XPS 、FIB 、 SEM等仪器原理、构造及使用。2017年赴美国布鲁克海文国家实验室纳米功能所透射电镜组研修一年。掌握球差及冷冻杆、原位加热杆、电感、三维重构等各种透射电镜先进技术。通过合作的模式将其应用在各种纳米及能源材料的表征中。报告摘要:透射电子显微镜技术具有高分辨率,可以实现原子尺度材料结构及形貌观察,是材料研究必不可少的手段。本报告主要介绍透射电子显微技术在材料微区结构及形貌分析的应用研究,例如透射电镜STEM技术在电催化材料界面中的研究应用、纳米束衍射及中心暗场像在合金材料析出相观察等,并围绕具体工作对透射电子显微镜相关数据处理技术例如几何相位分析、三维成像技术等进行简单的介绍。牛津仪器科技(上海)有限公司应用科学家 杨小鹏《牛津仪器多种显微分析技术及成像系统的介绍及应用》点击报名听会杨小鹏,博士,2010年毕业于清华大学材料科学与工程系。在校期间主要研究材料相变及表征微观组织,熟悉SEM、XRD、TEM、同步辐射等技术手段。曾任职EBSD后处理功能软件开发,熟悉晶体学及EBSD技术底层的计算。2014年加入牛津仪器,主要负责EBSD技术支持及应用推广。报告摘要:本报告主要介绍牛津仪器MAG部门的多种显微分析技术及成像系统,包括NA部门的EDS和EBSD,在电镜上提供微区的元素和结构分析;全新的Unity探测器,集合了BSE图像探测器和X光探测器,适合快速、大区域、实时的样品表面形貌和成分成像;AZtecWave系统将Wave波谱仪整合到成熟的微区分析系统AZtec中,有效提高了波谱仪的操控性,适合微量、痕量元素的高精度定量分析,也能有效避免元素的重叠峰。AR部门的原子力显微镜,如Cypher、Jupiter等,能提供高通量、高分辨的原子力显微镜成像,适合多种物性的分析和研究。WiTec部门提供的高灵敏度、高分辨激光共聚焦拉曼显微镜,通过分析微区的化学键,可以提供相、结晶性、含量等丰富的信息,分辨率达到300nm,也能做浅表层的3D成像。拉曼显微镜还能和电镜整合成一体化的联用系统,适合快速多技术分析同一感兴趣区。报告还会介绍几个多技术联用的应用案例。徕卡显微系统(上海)贸易有限公司应用工程师 姚永朋《徕卡光学显微镜在不同尺度下的形貌表征》点击报名听会姚永朋,徕卡显微系统工业显微镜应用工程师,负责徕卡工业显微镜技术支持工作,在制样及显微观察等方面经验丰富。报告摘要:光学显微镜是材料表面及微观结构观察分析中的常用仪器,此次报告将分别介绍徕卡体式显微镜、金相显微镜、数码显微镜等不同类型的光学显微镜在不同尺度下的表面结构观察及分析应用。华中科技大学,武汉光电国家研究中心教授 李露颖《半导体纳米材料原子尺度结构性能研究》点击报名听会李露颖,华中科技大学武汉光电国家研究中心教授,博士生导师。2011年5月毕业于美国亚利桑那州立大学,获博士学位,主要从事半导体纳米材料原子分辨率微结构及纳米尺度电学性能的结合研究,重点关注材料的特定原子结构及相应电势、电场、电荷分布对宏观物理性质的影响,取得了一系列有影响力的研究成果,工作被Nature Physics 杂志选为研究亮点,并评价为结构-性能相关研究的典范。到目前为止累积发表SCI 收录第一作者或通讯作者论文39篇(IF≥10的21篇),包括Advanced Materials、Nano Letters、Nature Communications、Advance Science、Advanced Functional Materials、Science Bulletin、ACS Nano、Nano Energy、Chemical Engineering Journal、Small等,论文总引用4500余次,H因子为31,多次受邀在国际国内电子显微学年会上做邀请报告,目前担任湖北省电子显微镜学会理事。报告摘要:结合电子全息技术的纳米尺度定量电学性能表征功能和球差校正技术的原子分辨率微结构表征功能,实现了半导体纳米材料电荷分布的电子全息研究,半导体纳米材料界面纳米尺度电场与原子尺度微结构的结合研究,以及各种外界激励下半导体纳米材料及器件的原位结构性能相关研究。 利用电子全息技术,得到了IV族Ge/Si族量子点和核壳结构纳米线、III-V族GaAs/InAs纳米线、量子点和量子阱组合器件的电荷分布情况,以及n-ZnO/i-ZnO/p-AlGaN异质结发光二极管性能增强的微观机理;利用球差校正技术的原子尺度表征功能,获得了复合半导体ZnSe纳米带同质异构结中自发极化相关电荷裁剪效应的直接实验证据,并对InSe纳米棒中多型体界面极化场进行了原子尺度定量研究。同时通过精确测定(K,Na)NbO3铁电纳米线界面原子尺度极化场,获得其相应材料在退火后宏观压电效应线性增加的微观机制。利用原位热学表征技术,研究了KxWO3纳米片中阳离子有序结构并随温度的变化规律,CsPbBr3纳米晶中 Ruddlesden–Popper层错的调控机制及其对光致发光性能的影响机理;利用原子尺度的原位热学表征技术研究了PbSe纳米晶随尺寸变化的晶体生长和升华机制。利用原位力学表征技术获得MXene高性能压阻传感器的微观作用机理。上海交通大学分析测试中心冷冻电镜中心副主任 郭新秋《透射电镜表征磁性材料样品的前处理技术路线探索》点击报名听会郭新秋,上海交通大学分析测试中心冷冻电镜中心副主任。长期在透射电镜相关领域的测试一线工作,在场发射透射电镜、冷冻透射电镜及相关样品制备等方面积累了丰富的表征分析经验,主持或参与多项显微成像方法学研究课题,支撑相关团队在Small, Nature Physics, Nature communications, energy & environmental science等期刊上发表多篇高水平论文。报告摘要:透射电镜是以波长极短的电子束作为照明源,用电磁透镜对透射电子聚焦成像的一种具有高分辨本领、高放大倍数的大型电子光学仪器。作为一种先进的表征手段,透射电子显微技术在各种功能材料的研究中发挥了重要的作用。磁性材料指能直接或间接产生磁性的一类材料,通常含有铁、钴、镍、钕、硼、钐以及稀土金属(镧系),其磁性强弱与样品本身的含量和价态相关。随着表征技术的快速进步,磁性材料的设计与应用不断更新,相关的研究广受关注。不同组成、不同结构的磁性材料展现出不同的化学与磁学特性,在众多领域都有着广泛的应用。但是,由于透射电镜原理是基于电子与磁场的相互作用来进行成像,镜筒内部磁场强度高达2T以上,如果样品未固定好,更会发生被吸到极靴上的危险。镜筒一旦受到磁性颗粒污染则很难处理,长时间的积累对电镜是一种慢性伤害。在调研中得知,有实验室就发生过此类事件,最终不得不拆机进行维修。还有一些高校平台直接在网站上明确表明了无法进行磁性材料测试。本报告提出了一种透射电镜表征磁性材料的前处理的分类和方法,希望对广发电镜工作者和科研工作者有所帮助。弗尔德(上海)仪器设备有限公司应用经理 王波《二维及三维EBSD分析样品的高效制备方法介绍及应用》点击报名听会王波,天津大学材料学专业博士毕业,曾在摩托罗拉-实验室(亚洲)担任高级失效分析工程师及资深实验室经理。2013年起先后担任知名美国金相品牌亚太区应用主管及德国ATM品牌中国区应用经理。在先进制样尤其是EBSD样品制备方面拥有丰富的经验,并应邀在国内进行过多场金相制样技术讲座,分享最新的样品制备理论、设备耗材及应用案例,深受好评。报告摘要:EBSD分析样品的制备极具挑战性,导致科研人员常会遇到制样成本高、效率低、成功率低等问题。本讲座将着重介绍现代金相制样方法——机械磨抛法及电解抛光法高效制备EBSD分析样品的基本理论、适用范围、技术难点、实操技巧及应用案例,分享经济、高效制备EBSD样品的思路和经验。同时,使用3D分析表征和重构技术,从(亚)纳米到毫米的尺度来研究微观组织和性能的关系已经成为关注热点。讲座也将介绍基于金相连续切片重构和EBSD技术的大体积材料三维EBSD分析样品制备的最新进展和解决方案。钢研纳克检测技术股份有限公司高级工程师 李云玲《原位拉伸及电子背散射衍射在金属材料微观表征中应》点击报名听会李云玲,钢研纳克检测技术股份有限公司高级工程师,从事金属材料微观表征工作10余年,主要研究方向包括金属构件失效分析、断口分析、微观表征技术等。独立完成400余项材料失效分析案例。完成的典型项目有:某型号舰艇动力系统部件失效原因分析、高铁车轮裂纹原因分析、核电乏燃料池不锈钢壁附着物分析、国电逆流变部件失效原因分析、合成氨设备焊接裂纹分析等。大型失效分析项目的完成,为国防设备可靠性提供了技术支持,挽回了客户大量经济损失,得到企业的多次好评。相关工作成果多次在全国钢铁材料扫描电镜图像竞赛及金相比赛中获奖,在国外SCI、EI、中文核心等期刊上发表论文20余篇,参与起草修订多个团体标准,如《钢中夹杂物的自动分类和统计扫描电镜能谱法》(T/CSTM 00346-2021)、《钢中晶粒尺寸测定 高温激光共聚焦显微镜法》(T/CSTM 00799-2023)、《材料实验数据扫描电镜图片要求》(T/CSTM 00795-2022)等。报告摘要:从原位拉伸(in-situ tensile)及电子背散射衍射(EBSD)的基本理论及基本方法出发,介绍两种新技术在金属材料微观表征中的应用,阐述其技术应用过程,包括但不限于在微观表征领域的重要作用,最后从当前技术局限出发探讨未来可能的重要创新。布鲁克(北京)科技有限公司应用科学家 陈剑锋《布鲁克的平插能谱仪与微区XRF介绍》点击报名听会陈剑锋,2003年毕业于中科院长春应化所,主要研究方向是高分辨电子显微镜在高分子结晶中的应用,毕业后加入FEI,负责SEM/SDB的应用、培训以及市场等推广工作。2011年加入安捷伦公司负责SEM的市场和应用工作,2018年在赛默飞负责SEM的应用工作。2021年加入布鲁克,负责EDS,、EBSD、 Micro-XRF等产品的技术支持工作,对电子显微镜的相关应用具有多年的实操经验。报告摘要:布鲁克独有的平插能谱探头因其独特的设计,具有更大的立体角,使能谱分析在低能谱线的采集方面有很大的优势,尤其是目前比较流行的纳米结构材料的分析,而微区荧光在检测限上的优势则是目前工业,地质,环境检测等领域进行重金属元素,微量元素的强有力的工具,在相关的领域中也得到了越来越广泛的应用。本报告将主要介绍布鲁克公司的平插能谱和微区荧光产品及其应用。中国科学院上海硅酸盐研究所研究员 程国峰《X射线三维成像技术及应用》点击报名听会程国峰,理学博士,博士生导师,中国科学院上海硅酸盐研究所 X射线衍射结构表征课题组组长。中国晶体学会粉末衍射专业委员会委员、中国物理学会固体缺陷专业委员会委员、上海市物理学会X射线衍射与同步辐射专业委员会副主任兼秘书长。主要研究领域为X射线衍射与散射理论及应用、三维X射线成像术、拉曼光谱学等。曾先后主持国家自然科学基金、上海市和中国科学院项目多项,主编出版《纳米材料的X射线分析》、《二维X射线衍射》等专译著4部,发布国家标准和企业标准12项,获专利授权7项,在Nat. Mater.,J. Appl. Phys.,Mater. Lett.等SCI期刊上发表论文90余篇。参会指南1、进入第五届材料表征与分析检测技术网络会议官网(https://www.instrument.com.cn/webinar/meetings/icmc2023/)进行报名。扫描下方二维码,进入会议官网报名2、会议召开前统一报名审核,审核通过后将以短信形式向报名手机号发送在线听会链接。3、本次会议不收取任何注册或报名费用。4、会议联系人:高老师(电话:010-51654077-8285 邮箱:gaolj@instrument.com.cn)5、赞助联系人:周老师(电话:010-51654077-8120 邮箱:zhouhh@instrument.com.cn)

形貌仪相关的方案

形貌仪相关的资料

形貌仪相关的论坛

  • AFM形貌图

    AFM形貌图

    下图是用AFM扫描得到的形貌图,但是形貌图上面的拉丝部分是什么造成的,并且背景区域差别很大,没有换针尖,但是扫描过很多次都是同一个现象;另外AFM拖尾现象是什么样的?[img=,690,553]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2018/10/201810131049573862_3327_3489127_3.png!w690x553.jpg[/img][img=,690,553]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2018/10/201810131049573862_3327_3489127_3.png!w690x553.jpg[/img]

  • 【原创】为什么在腐蚀样品的时候,有时候显示枝晶形貌,而有时为晶界形貌?

    我最近采用一种腐蚀溶液,对一个钢材进行腐蚀,可是相同的样品,并采用相同的腐蚀剂,腐蚀时间也基本相同,在显微镜下看,有几个试样显示枝晶形貌,而有另外几个试样显示的确实晶粒的形貌?这是为什么啊?谁能从金属学角度帮我解释一下,枝晶和晶粒之间的关系啊?在腐蚀的时候,达到什么条件,显示枝晶,什么条件显示的是晶粒啊??。。。。不知道说明白了没?谢谢各位大牛了.

形貌仪相关的耗材

  • 表面形貌仪配件
    表面形貌仪配件又称为光学形貌仪或三维形貌仪,它除了用于测量物件的表面形貌或表面轮廓外,具有测量晶圆翘曲度的功能,非常适合晶圆,太阳能电池和玻璃面板的翘曲度测量,应变测量以及表面形貌测量。 三维形貌仪主要配件应用 用于太阳能电池测量 用于半导体晶圆测量 用于镀膜玻璃的平整度(Flatness)测量 用于机械部件的计量 用于塑料,金属和其他复合型材料工件的测量 表面形貌仪配件特色 *除了表面形貌的测量,还可以测量张量和应力(简单); *可测量晶圆的尺寸为0.5' ' 到12' ' , 最高可达45x45cm的尺寸,对于小于0.5' ' 的晶圆或样品,可配备微距镜头。 *测量晶圆或其他样品的表面形貌,粗糙度和翘曲度; *克服常见干涉仪在粗糙表面(油漆)表现不足的问题; *非接触式测量
  • 三维表面形貌仪配件
    三维表面形貌仪配件是德国进口的高精度多功能表面轮廓测量仪器,也是一款光学表面形貌仪,非常适合对表面几何形状和表面纹理分析。 三维表面形貌仪配件根据国际标准计算2D和3D参数,使用最新的ISO 25178 标准表面纹理分析,依靠最新的 ISO 16610 滤除技术进行计算,从而保证了国际公信力,以标准方案或定制性方案对二维形貌或三维形貌表面形貌和表面纹理,微米和纳米形状,圆盘,圆度,球度,台阶高度,距离,面积,角度和体积进行多范围测量,创造性地采用接触式和非接触式测量合并技术,一套表面形貌仪可同时具有接触式和非接触式测量的选择。 三维形貌仪配件参数: 定位台行程范围:X: 200 mm Y: 200 mm Z: 200 mm (电动) 接触式测量范围: 范围0.1mm, 分辨率2nm, 速度 3mm/s 范围2.5mm 分辨率40nm, 速度3mm/s 非接触式测量范围: 范围:300um, 分辨率2nm, 速度30mm/s 范围:480um, 分辨率2nm, 速度30mm/s 范围:1mm, 分辨率5nm, 速度30mm/s 范围:3.9mm , 分辨率15nm, 速度30mm/s 表面形貌仪配件应用:测量轮廓,台阶高度,表面形貌,距离,面积,体积 分析形态,粗糙度,波纹度,平整度,颗粒度 摩擦学研究,光谱分析 磨料磨具,航天,汽车,化妆品,能源,医疗,微机电系统,冶金,造纸和塑料等领域。
  • 多功能翘曲度测量仪配件
    多功能翘曲度测量仪配件是孚光精仪公司进口的全球领先的翘曲度检测仪器,一套翘曲度测试仪器可以测量:热沉,晶圆(wafer),太阳能电池和硅片翘曲度,应力以及表面形貌。多功能翘曲度测量仪配件是特别为半导体晶圆(wafer)和太阳能电池(solar cell)的翘曲度(warp) 和弯曲度(bow)以及表面形貌(topography)的测量而设计,可以测量晶圆翘曲度(wafer warpage) 和晶圆表面形貌, 晶圆应力,硅片张力,太阳能电池量子效率,既适合科研单位使用,也适合工业客户大产品、高效率的晶圆翘曲度和表面形貌的检测的需要。 我们还根据不同晶圆类型提供如下两种硅片翘曲度测量仪: 1. 非反射型:适合晶圆表面覆盖晶圆保护膜/胶带(wafer tape),图案化晶圆 /图样化晶圆(patterned wafer),粗糙的晶圆的应用; 2. 高反射型: 适合晶圆表面光滑 / 镜反射的应用。 多功能翘曲度测量仪配件特点: × 适合不同尺寸的晶圆检测,从0.5’‘到12' ' 的直径; * 标准检测能力为: 每小时可检测2000个晶圆或更多太阳能电池; × 同时测量多个晶圆或太阳能电池; × 测量镀膜后的晶圆或solar cell * 分析太阳能电池或晶圆应力和张力; * 对晶圆表面进行图像分析; * 测量图案化晶圆或非图案化的晶圆; * 具有太阳能电池的量子效率测量选项供选择 多功能翘曲度测量仪配件参数: × 翘曲度测量范围:1-20微米; * 重复精度: 百分之0.5 (1 sigma) * 给出结果:曲率半径,晶圆弯曲高度,翘曲度,测量日期和时间; * RMS粗糙度mapping: 0.5-20A (可选项); * 光源:根据用户的应用而配备不同光源; * 探测器:高分辨率探测器阵列并配备亚像素软件;
Instrument.com.cn Copyright©1999- 2023 ,All Rights Reserved版权所有,未经书面授权,页面内容不得以任何形式进行复制