显影机

v 全封闭式桌面显影机，主要用于半导体制造中晶片的显影工艺，设备配有一路显影和一路水、一路气吹功能，并且喷嘴位置可程控移动，实现自动显影和清洗作业v 支持wafer尺寸：碎片至200mm（可根据客户需求定制四管路或更大基片）v 单步工艺及多步工艺可选，内置100组可编辑程序v 转速分辨率：±1 RPMv 旋涂速度：20-3000rpm（空载）v 旋涂加速度：10-10,000rpm/sec（空载）工艺时间设定：0-3,000sec/step，时间设置精度： 0.1sec深圳市矢量科学仪器有限公司为您提供--实验型显影机customized-2，--customized-2为进口实验型显影机。除了有实验型显影机的参数、价格、型号、原理等信息外，还可为您提供更多进口及国产实验型显影机，客服电话400-860-5168转5919，售前售后均可联系。

显影机DEVELOPER设计用于以下应用：显影、清洁和干燥应用于显影工艺的设备，适用的基板尺寸最大到8英寸的圆片 和最大到6英寸x6英寸的方片。新设计的三片式可拆卸工艺腔体可实现良好的工艺均匀 性和重复性，设备也可用于清洗和旋干工艺。 落地式柜体经专门设计，方便操作和维修。它是一款手动显影机，适用于实验室开展科学研究和技术开发。设备具有多选项（例如可编程流体输送臂）并且可以升级成自动化的系统达到更高的片到片工艺重复性。1. UNIXX D20 高级版（直径200mm）带有可移动飞溅环的独立系统，用于手动装载/卸载单个基材。2.UNIXX D30标准（Ø 300毫米）单机系统为用户提供在科学方面，以及具有高效、安全和清洁系统的研究。

UNIXX S 20 D 显影机是应用于显影工艺的设备，适用的基板尺寸最大到8英寸的圆片 和最大到6英寸x6英寸的方片。新设计的三片式可拆卸工艺腔体可实现良好的工艺均匀 性和重复性，设备也可用于清洗和旋干工艺。 UNIXX S 20 D的落地式柜体经专门设计，方便操作和维修。它是一款手动显影机，适 用于实验室开展科学研究和技术开发。设备具有多选项（例如可编程流体输送臂）并且 可以升级成自动化的系统达到更高的片到片工艺重复性。特点 可处理基板尺寸最大6"x 6" (150 x 150mm) 方片或 Ø 8" (Ø 200mm)圆片 采用真空或微接触夹具针对圆形和方形基板 不同尺寸的圆片/方形片的夹具可容易更换 真空安全联锁功能 触摸屏输入显示 启动、停止及真空操作按钮 可编程速度和加速度 马达转速最大可达10000转/分钟易拆卸双片腔体本体和防溅环 网络接口 USB接口 选项 ➤ 电子流体输送手臂--移动速度和位置可编程 ➤ 液体喷嘴 – 喷雾型,射流型 ➤ 热流体线，最高80°C➤ 真空或微接触夹具 – 不同尺寸 ➤ 可拆卸工艺腔体及防溅环 ➤ 热板 ➤ 热板接近式烘烤, 手动可调接近距离 ➤ 可编程接近距离热板 ➤ 真空泵 ➤ 附加HMDS热板 性能参数 触摸屏程序输入 ➤ 程序数: 100 ➤ 程序步数: 50 ➤ 最长单步时间: 999秒 ➤ 单步时间分辨率: 0.1秒 旋转马达 ➤ 旋转速度: 最高 10.000 转/分钟* ➤ 转速分辨率: 1转/分钟 ➤ 旋转精度: ± 2 转/分钟 ➤ 加速度: 最高 50,000 转/分钟/秒* *和基片重量有关 热板 ➤ 温度范围: 最高 300°C ➤ 温度分辨率: 0.1°C ➤ 温度均匀性( 100°C 时) : ± 0.5°C 动力需求 ➤ 电源: 3x208 VAC / 60 Hz / 16 A or 3x400VAC / 50 Hz / 16 A ➤ 压缩空气: 8 ± 2 bar (116 ± 29 PSI), Tube OD Ø 8mm ➤ 真空: -0.8 bar ± 0.2 bar / 24 in Hg, Tube OD Ø 8mm ➤ N氮气 (选项): 4,0 ± 0,5 bar (58 ± 7 PSI), Tube OD Ø 6mm 设备外形(宽 x 深 x 高): ➤ 落地式柜体: 约 1200mm x 650mm x 1320mm (23.6”x 25.6”x 52”) ➤ 带水平调节 ➤ 不锈钢框架