形貌仪

表面形貌仪配件又称为光学形貌仪或三维形貌仪，它除了用于测量物件的表面形貌或表面轮廓外，具有测量晶圆翘曲度的功能,非常适合晶圆,太阳能电池和玻璃面板的翘曲度测量，应变测量以及表面形貌测量。 三维形貌仪主要配件应用 用于太阳能电池测量 用于半导体晶圆测量 用于镀膜玻璃的平整度（Flatness)测量 用于机械部件的计量 用于塑料,金属和其他复合型材料工件的测量 表面形貌仪配件特色 *除了表面形貌的测量，还可以测量张量和应力（简单）； *可测量晶圆的尺寸为0.5' ' 到12' ' , 最高可达45x45cm的尺寸，对于小于0.5' ' 的晶圆或样品，可配备微距镜头。 *测量晶圆或其他样品的表面形貌,粗糙度和翘曲度； *克服常见干涉仪在粗糙表面（油漆）表现不足的问题； *非接触式测量

三维表面形貌仪配件是德国进口的高精度多功能表面轮廓测量仪器，也是一款光学表面形貌仪,非常适合对表面几何形状和表面纹理分析。 三维表面形貌仪配件根据国际标准计算2D和3D参数，使用最新的ISO 25178 标准表面纹理分析，依靠最新的 ISO 16610 滤除技术进行计算，从而保证了国际公信力，以标准方案或定制性方案对二维形貌或三维形貌表面形貌和表面纹理，微米和纳米形状，圆盘，圆度，球度，台阶高度，距离，面积，角度和体积进行多范围测量，创造性地采用接触式和非接触式测量合并技术，一套表面形貌仪可同时具有接触式和非接触式测量的选择。 三维形貌仪配件参数： 定位台行程范围：X: 200 mm Y: 200 mm Z: 200 mm (电动) 接触式测量范围： 范围0.1mm, 分辨率2nm, 速度 3mm/s 范围2.5mm 分辨率40nm, 速度3mm/s 非接触式测量范围： 范围：300um, 分辨率2nm, 速度30mm/s 范围：480um, 分辨率2nm, 速度30mm/s 范围：1mm, 分辨率5nm, 速度30mm/s 范围：3.9mm , 分辨率15nm, 速度30mm/s 表面形貌仪配件应用：测量轮廓，台阶高度，表面形貌，距离，面积，体积 分析形态，粗糙度，波纹度，平整度，颗粒度 摩擦学研究，光谱分析 磨料磨具，航天，汽车，化妆品，能源，医疗，微机电系统，冶金，造纸和塑料等领域。

多功能翘曲度测量仪配件是孚光精仪公司进口的全球领先的翘曲度检测仪器，一套翘曲度测试仪器可以测量：热沉,晶圆(wafer),太阳能电池和硅片翘曲度,应力以及表面形貌。多功能翘曲度测量仪配件是特别为半导体晶圆（wafer)和太阳能电池（solar cell)的翘曲度（warp) 和弯曲度(bow)以及表面形貌(topography)的测量而设计，可以测量晶圆翘曲度（wafer warpage) 和晶圆表面形貌, 晶圆应力,硅片张力,太阳能电池量子效率，既适合科研单位使用，也适合工业客户大产品、高效率的晶圆翘曲度和表面形貌的检测的需要。 我们还根据不同晶圆类型提供如下两种硅片翘曲度测量仪： 1. 非反射型：适合晶圆表面覆盖晶圆保护膜/胶带（wafer tape)，图案化晶圆 /图样化晶圆（patterned wafer)，粗糙的晶圆的应用； 2. 高反射型： 适合晶圆表面光滑 / 镜反射的应用。 多功能翘曲度测量仪配件特点： × 适合不同尺寸的晶圆检测，从0.5’‘到12' ' 的直径； * 标准检测能力为： 每小时可检测2000个晶圆或更多太阳能电池； × 同时测量多个晶圆或太阳能电池； × 测量镀膜后的晶圆或solar cell * 分析太阳能电池或晶圆应力和张力； * 对晶圆表面进行图像分析； * 测量图案化晶圆或非图案化的晶圆； * 具有太阳能电池的量子效率测量选项供选择 多功能翘曲度测量仪配件参数： × 翘曲度测量范围：1-20微米； * 重复精度： 百分之0.5 （1 sigma) * 给出结果：曲率半径,晶圆弯曲高度，翘曲度，测量日期和时间； * RMS粗糙度mapping: 0.5-20A （可选项）； * 光源：根据用户的应用而配备不同光源； * 探测器：高分辨率探测器阵列并配备亚像素软件；

硅片TTV厚度测试仪配件是采用红外干涉技术的测量仪，能够精确给出衬底厚度和厚度变化 （TTV)，也能实时给出超薄晶圆的厚度（掩膜过程中的晶圆），非常适合晶圆的研磨、蚀刻、沉淀等应用。 硅片厚度测量仪配件采用的这种红外干涉技术具有独特优势，诸 多材料例如，Si, GaAs, InP, SiC, 玻璃，石英以及其他聚合物在红外光束下都是透明的，非常容易测量，标准的测量空间分辨率可达50微米，更小的测量点也可以做到。硅片厚度测量仪配件采用非接触式测量方法，对晶圆的厚度和表面形貌进行测量，可广泛用于：MEMS， 晶圆，电子器件，膜厚，激光打标雕刻等工序或器件的测量，专业为掩膜，划线的晶圆，粘到蓝宝石或玻璃衬底上的晶圆等各种晶圆的厚度测量而设计，同时，硅片厚度测试仪还适合50-300mm 直径的晶圆的表面形貌测量。硅片厚度测试仪配件具有探针系统配件，使用该探针系统后，硅片TTV厚度测试仪可以高精度地测量图案化晶圆,带保护膜的晶圆, 键合晶圆和带凸点晶圆（植球晶圆），wafers with patterns, wafer tapes,wafer bump or bonded wafers 。 硅片TTV厚度测试仪配件直接而精确地测量晶圆衬底厚度和厚度变化TTV，同时该硅片厚度测量仪能够测量晶圆薄膜厚度，硅膜厚度（membrane thickness) 和凸点厚度（wafer pump height).，沟槽深度 （trench depth)。

三维表面轮廓仪配件是德国进口的高精度多功能表面轮廓测量仪器，也是一款光学轮廓仪,非常适合对表面几何形状和表面纹理分析。 三维表面轮廓仪配件根据国际标准计算2D和3D参数，使用最新的ISO 25178 标准表面纹理分析，依靠最新的 ISO 16610 滤除技术进行计算，从而保证了国际公信力，以标准方案或定制性方案对2D轮廓或三维轮廓表面形貌和表面纹理，微米和纳米形状，圆盘，圆度，球度，台阶高度，距离，面积，角度和体积进行多范围测量，创造性地采用接触式和非接触式测量合并技术，一套表面轮廓仪可同时具有接触式和非接触式测量的选择。 三维轮廓仪配件参数： 定位台行程范围：X: 200 mm Y: 200 mm Z: 200 mm (电动) 接触式测量范围： 范围0.1mm, 分辨率2nm, 速度 3mm/s 范围：2.5mm 分辨率40nm, 速度3mm/s 非接触式测量范围： 范围：300um, 分辨率2nm, 速度30mm/s 范围：480um, 分辨率2nm, 速度30mm/s 范围：1mm, 分辨率5nm, 速度30mm/s 范围：3.9mm , 分辨率15nm, 速度30mm/s 表面轮廓仪配件应用：测量轮廓，台阶高度，表面形貌，距离，面积，体积分析形态，粗糙度，波纹度，平整度，颗粒度 摩擦学研究，光谱分析磨料磨具，航天，汽车，化妆品，能源，医疗，微机电系统，冶金，造纸和塑料等领域。

奥淇科化致力为科研单位打造一站式采购平台。 在库品规三十余万种，含盖玻璃、试剂、仪器、耗材配件等。 店铺未上架产品请联系客服。

奥淇科化致力为科研单位打造一站式采购平台。 在库品规三十余万种，含盖玻璃、试剂、仪器、耗材配件等。 店铺未上架产品请联系客服。

奥淇科化致力为科研单位打造一站式采购平台。 在库品规三十余万种，含盖玻璃、试剂、仪器、耗材配件等。 店铺未上架产品请联系客服。

奥淇科化致力为科研单位打造一站式采购平台。 在库品规三十余万种，含盖玻璃、试剂、仪器、耗材配件等。 店铺未上架产品请联系客服。

2.5X Nikon CF IC Epi Plan TI Interferometry Objective2.5倍 尼康白光干涉镜头类型 Michelson放大率 2.5X数字孔径 NA 0.075工作距离 (mm) 10.3焦距 FL (mm) 80.0分辨能力 (μm) 3.7焦深(μm) 48.6视场，25直径视场目镜 (mm) 10视场，20直径视场目镜 (mm) 8视场, 2/3" 传感器 3.52 x 2.64mm视场, 1/2" 传感器 2.56 x 1.92mm支架 C-Mount安装螺纹 M27 x 0.75重量 (g) 440生产商 NikonRoHS 豁免 用于三维表面形貌仪，表面轮廓仪，白光干涉显微镜等测量设备的镜头。适用型号：MicroXAM系列，Newview7000系列，Newview8000系列，Wyko各型号，Contour Elite系列，ContourGT系列，Talysurf系列，SMARTWLI系列等几乎所有的白光干涉原理非接触式表面三维形貌测量仪。如果您购买设备后，发现市场不够大，或者发现放大倍数不够用，都可以联系我们，以远低于厂商售价的优惠价格拿到此类镜头产品。根据不完全统计，市场上在售的白光干涉型非接触形貌/轮廓测量设备，90%使用的是nikon原装干涉物镜。全球市场的几大重要厂家K公司，B公司，Z公司都是采用Nikon镜头。价格随时有波动，欢迎来电咨询。

50X Nikon CF IC Epi Plan DI Interferometry Objective50倍 尼康干涉物镜镜头类型 Mirau放大率 50X数字孔径 NA 0.55工作距离 (mm) 3.4焦距 FL (mm) 4.0分辨能力 (μm) 0.5焦深(μm) 0.9视场，25直径视场目镜 (mm) 0.5视场，20直径视场目镜 (mm) 0.22视场, 2/3" 传感器 0.18 x 0.13mm视场, 1/2" 传感器 0.13 x 0.10mm支架 C-Mount安装螺纹 RMS重量 (g) 150生产商 NikonRoHS 豁免用于三维表面形貌仪，表面轮廓仪，白光干涉显微镜等测量设备的镜头。适用型号：MicroXAM系列，Newview7000系列，Newview8000系列，Wyko各型号，Contour Elite系列，ContourGT系列，Talysurf系列，SMARTWLI系列等几乎所有的白光干涉原理非接触式表面三维形貌测量仪。如果您购买设备后，发现市场不够大，或者发现放大倍数不够用，都可以联系我们，以远低于厂商售价的优惠价格拿到此类镜头产品。根据不完全统计，市场上在售的白光干涉型非接触形貌/轮廓测量设备，90%使用的是nikon原装干涉物镜。全球市场的几大重要厂家K公司，B公司，Z公司都是采用Nikon镜头。价格会有所波动，欢迎来电咨询。

10X Nikon CF IC Epi Plan DI Interferometry Objective10倍 尼康干涉镜头 CF IC Epi Plan类型 Mirau放大率 10X数字孔径 NA 0.30工作距离 (mm) 7.4焦距 FL (mm) 20.0分辨能力 (μm) 0.92焦深(μm) 3.04视场，25直径视场目镜 (mm) 2.5视场，20直径视场目镜 (mm) 2视场, 2/3" 传感器 0.88 x 0.66mm视场, 1/2" 传感器 0.64 x 0.48mm支架 C-Mount安装螺纹 RMS重量 (g) 125生产商 NikonRoHS 符合标准用于三维表面形貌仪，表面轮廓仪，白光干涉显微镜等测量设备的镜头。适用型号：MicroXAM系列，Newview7000系列，Newview8000系列，Wyko各型号，Contour Elite系列，ContourGT系列，Talysurf系列，SMARTWLI系列等几乎所有的白光干涉原理非接触式表面三维形貌测量仪。如果您购买设备后，发现市场不够大，或者发现放大倍数不够用，都可以联系我们，以远低于厂商售价的优惠价格拿到此类镜头产品。根据不完全统计，市场上在售的白光干涉型非接触形貌/轮廓测量设备，90%使用的是nikon原装干涉物镜。全球市场的几大重要厂家K公司，B公司，Z公司都是采用Nikon镜头。欢迎来电咨询。

多功能纳米压痕仪配件通过扫描材料表面实现对材料力学性能的纳米尺度的高精度测量，精确给出硬度，弹性模量，杨氏模量等材料力学性能。 多功能纳米压痕仪配件特色最高位移测量能力可达300mkm, 最高负载科大100mN。实现静态压痕和动态压痕测量以及sclerometry测量具备原子力显微镜和纳米硬度测量仪的功能采用模块化设计，可广泛集成原子力显微镜，光学显微镜，激光干涉仪器等尖端材料表面测量仪器，为用户提供综合性材料微观力学测试方案。 多功能纳米压痕仪配件选型4D紧凑型多功能纳米压痕仪4D紧凑型是全球结构最为紧凑小巧的纳米硬度测试仪，它采用纳米压痕法测量材料硬度和弹性模量（杨氏模量），负载高达2N,广泛用于材料力学性能测量研究。也非常适合大学或研究单位的纳米压痕仪测量硬度的教学或演示教学。 4D标准型多功能纳米压痕仪4D标准型具有测量材料硬度，弹性模量和其它力学性能的功能。它采用静态和动态纳米压痕技术以及sclerometry方法测量材料性能。并且可以接触式或半接触式地测量材料表面形貌，采用光学显微镜高精度地对压头和样品进行精确互动性定位。多功能纳米压痕仪4D标准型还可以接入另外的传感器或测量模块，实现对材料表面进行其它测量。 4D+增强型多功能纳米压痕仪4D+增强型配置是全球功能最多的多功能纳米硬度测量仪器。它具有纳米压痕仪和原子力显微镜的功能，具备了所有的物理和力学性能测量能力。它具有原子力显微镜测量模块，能够以纳米级分辨率研究压痕后留下的表面痕迹和图像，并能够全自动测量，可以批量处理分析测量结果。

透射电镜底片显影装置主要用于TEM底片冲洗，随时观察每一张冲洗效果。批量冲洗底片互不粘连。形貌像和电子衍射像可以同时显影

场发射电子源921 5736 ，这个型号的场发射灯丝，适用于原厂H机型。场发射扫描电子显微镜其实它是电子显微镜的一种，扫描电镜是介于透射电镜和光学显微镜之间的一种微观形貌观察手段，可直接利用样品表面材料的物质性能进行微观成像。广泛用于生物学、医学、金属材料、高分子材料、化工原料、地质矿物、商品检验、产品生产质量控制、宝石鉴定、考古和文物鉴定及公安刑侦物证分析。可以观察和检测非均相有机材料、无机材料及在上述微米、纳米级样品的表面特征。优点：1、有较高的放大倍数，20-30万倍之间连续可调；2、有很大的景深，视野大，成像富有立体感，可直接观察各种试样凹凸不平表面的细微结构；3、试样制备简单，目前的扫描电镜都配有X射线能谱仪（EDS）装置，这样可以同时进行显微组织形貌的观察和微区成分分析。大束科技是一家以自主技术驱动的电子显微镜系列核心配件研发制造的供应商和技术服务商。目前公司主要生产电子显微镜的核心配件离子源、电子源以及配套耗材抑制极、拔出极、光阑等销往国内外市场，此外，还为用户提供定制化电子显微镜以及电子枪系统等的维修服务，以及其他技术服务和产品升级等一站式、全方位的支持。在场发射电子源（电子显微镜灯丝）、离子源以及电镜上的高低压电源、电镜控制系统研发制造等领域等均具有优势。

透射电镜底片显影装置主要用于TEM底片冲洗，随时观察每一张冲洗效果。批量冲洗底片互不粘连。形貌像和电子衍射像可以同时显影

碳支持膜/碳膜上的纳米颗粒形貌像：在方华膜上镀了一层较薄的碳层，碳层的抗热性和导电性在电子束照射时可有助于稳定方华膜。这种弹性较好、多种用途的样品支持膜/碳膜是承载薄切片的理想材料，也可用于低放大倍率的样品观察。 规格分为：进口 75目、100目、150目、200目、300目、400目

碳支持膜/碳膜上的纳米颗粒形貌像：在方华膜上镀了一层较薄的碳层，碳层的抗热性和导电性在电子束照射时可有助于稳定方华膜。这种弹性较好、多种用途的样品支持膜/碳膜是承载薄切片的理想材料，也可用于低放大倍率的样品观察。 规格分为： 国产 75目、100目、150目、200目、300目、400目

涡旋相位板是一种光学厚度与旋转方位角成正比的纯相位衍射光学元件，入射平面波通过涡旋相位板的出射光束具有涡旋相位波前。涡旋相位板作为一种新型的衍射光学元件，已在光信息处理，光学微操作，生物医学，形貌测量，天文观测等诸多领域得到实际应用。目前，对涡旋相位板的研究已经发展为现代光学的一个重要领域。

坐标普通碳支持膜的载网是带标记的，方便您找到需要观察的样品。F1坐标载网和F2坐标载网是不同规格标记（F1坐标网见图1，F2坐标网见图2）。图1 F1坐标图2 F2坐标 碳膜为两层支持膜结构，可以采用不同规格的载网做载体。从空间结构来讲，从下到上依次为载网，方华膜和碳膜，如下图它是在一层有机方华膜上再覆盖一层碳膜。由于碳层具有较强的导电以及导热性，弥补了无碳方华膜的荷电效应以及热效应，增强了膜整体的稳定性，适合大多数纳米材料和生物样品的一般形貌观察。普通碳支持膜是针对常规检测20-50nm尺度样品的理想产品，是初次使用或筛查样品的最基本选择。如下图是纳米材料和生物样品在中低倍下的TEM照片，图像清晰，背底影响较小。支持膜的厚度，由对样品提供的承载强度和自身产生的背底干扰共同决定。如果膜厚度大，对样品的承载能力强，但会导致背底噪音增强；如果膜厚度小，图像质量高，但容易引起支持膜破裂。膜总厚度：10-20 nm产品编号产品名称规格/数量间距肋宽孔径BZ10021F1b100目F1坐标碳支持膜50枚/盒25040210BZ10021F1a100目F1坐标碳支持膜100枚/盒25040210

场发射电子源9213915/9217251，这两个灯丝的外形一样，适用的扫描电镜型号不同，需要了解扫描电镜的具体型号。场发射扫描电子显微镜其实它是电子显微镜的一种，扫描电镜是介于透射电镜和光学显微镜之间的一种微观形貌观察手段，可直接利用样品表面材料的物质性能进行微观成像。广泛用于生物学、医学、金属材料、高分子材料、化工原料、地质矿物、商品检验、产品生产质量控制、宝石鉴定、考古和文物鉴定及公安刑侦物证分析。可以观察和检测非均相有机材料、无机材料及在上述微米、纳米级样品的表面特征。优点：1、有较高的放大倍数，20-30万倍之间连续可调；2、有很大的景深，视野大，成像富有立体感，可直接观察各种试样凹凸不平表面的细微结构；3、试样制备简单，目前的扫描电镜都配有X射线能谱仪（EDS）装置，这样可以同时进行显微组织形貌的观察和微区成分分析。大束科技是一家以自主技术驱动的电子显微镜系列核心配件研发制造的供应商和技术服务商。目前公司主要生产电子显微镜的核心配件离子源、电子源以及配套耗材抑制极、拔出极、光阑等销往国内外市场，此外，还为用户提供定制化电子显微镜以及电子枪系统等的维修服务，以及其他技术服务和产品升级等一站式、全方位的支持。在场发射电子源（电子显微镜灯丝）、离子源以及电镜上的高低压电源、电镜控制系统研发制造等领域等均具有优势。

AFM探针基本都是由MEMS技术加工 Si 或者 Si3N4来制备. 探针针尖半径一般为10到几十 nm。微悬臂通常由一个一般100~500μm长和大约500nm~5μm厚的硅片或氮化硅片制成。典型的硅微悬臂大约100μm长、10μm宽、数微米厚。利用探针与样品之间各种不同的相互作用的力而开发了各种不同应用域的显微镜，如AFM(范德华力)，静电力显微镜EFM(静电力)磁力显微镜MFM(静磁力)侧向力显微镜LFM(探针侧向偏转力)等， 因此有对应不同种类显微镜的相应探针。原子力显微镜的探针主要有以下几种:(1)、 非接触/轻敲模式针尖以及接触模式探针:常用的产品，分辨率高，使用寿命一般。使用过程中探针不断磨损，分辨率很容易下降。主要应用与表面形貌观察。(2)、 导电探针:通过对普通探针镀20-40纳米厚的Pt(以及别的提高镀层结合力的金属，如Au、Cr、Ti和Pt与Ir的合金等)得到。导电探针应用于EFM，KFM，SCM等。导电探针分辨率比tapping和contact模式的探针差，使用时导电镀层容易脱落，导电性难以长期保持。导电针尖的新产品有碳纳米管针尖，金刚石镀层针尖，全金刚石针尖，全金属丝针尖，这些新技术克服了普通导电针尖的短寿命和分辨率不高的缺点。(3)、磁性探针:应用于MFM，通过在普通tapping和contact模式的探针上镀Co、Fe等铁磁性层制备，分辨率比普通探针差，使用时导电镀层容易脱落。(4)、大长径比探针:大长径比针尖是为测量深的沟槽以及近似铅垂的侧面而设计生产的。特点:不太常用的产品，分辨率很高，使用寿命一般。技术参数:针尖高度 9μm 长径比5:1 针尖半径 10 nm。(5)、类金刚石碳AFM探针/全金刚石探针:一种是在硅探针的针尖部分上加一层类金刚石碳膜，另外一种是全金刚石材料制备(价格很高)。这两种金刚石碳探针具有很大的耐久性，减少了针尖的磨损从而增加了使用寿命。还有生物探针(分子功能化)，力调制探针，压痕仪探针 Park四面体探针测微悬臂的特点，在于探针位于测微悬臂的Z端，由此易于清楚确认探针与样品的位置关系，从而迅速而准确地对准测定位置。为满足客户多种特殊需求，此产品备有标准型、铂膜型和四面刃型三种类型的硅探针可供选择。 具有高品质的解析度，共振频率在300 kHz与26 N/m的弹性系数, 大大的降低了破坏样品的机率； 外观设计：新产品的侧壁垂直面更便于探针的夹取； TipView设计：锋利的探头放置在后的悬臂。TipView设计便于精确探测定位； 测量环境：适用于空气中测量； 测量模式：AC（动态）模式； OMCL-AC160TS 10M的针尖适用于一般标准表面形貌量测，适用于以下sample: 1、pss蓝宝石基板的表面形貌量测； 2、太阳能板的表面形貌量测； 3、玻璃面板等各式有机材料、无机材料的表面形貌的量测 OMCL-AC160TS 10M均可直接代替以下品牌型号针尖： 1、Nanoworld 的NCHR/Arrow NCR 2、Appnano的ACTA 3、Bruker的TESPA/ORTESPA； 4、NT-MDT的NSG30 5、Budget Sensors的Tap300-G 详情请咨询：18994392037（同VX）李经理

枝状结构的各种空隙可用于间距的测试，而其表面形貌则可应用在灰度水平测试。标样不具磁性、在真空及电子束作用下稳定，勿需表面镀膜。最适宜在探针大小为25－75nm时使用。

枝状结构的各种空隙可用于间距的测试，而其表面形貌则可应用在灰度水平测试。标样不具磁性、在真空及电子束作用下稳定，勿需表面镀膜。最适宜在探针大小为25－75nm时使用。

降低充电效应样品杯包含一限压孔，可将特定量的空气导入样品腔，使得样品附近气压升高，降低样品表面的充电效应，同时保持电子腔内的高真空，使系统稳定运行。降低充电效应样品杯专为不导电样品设计，为用户免去了额外的预处理过程。各种不导电样品，如纸张、聚合物、有机材料、陶瓷、玻璃以及涂层等，均可借助降低充电效应样品杯，得到其原始形貌的图像。适用于高分辨率成像，可用于观测粉末，薄膜，及各种不规则形状的三维样品。降低充电效应样品杯可直接观察不导电的样品，无需喷金样品尺寸：直径25mm；高30mm

新兴百瑞自主产品，客户可以在此基础上根据实验条件提方案，对产品改进 纯碳膜是在碳支持膜的基础上，将有机层用特殊方法去除后得到的纯碳膜，很适合需要在有机溶剂或高温下处理的样品（如：氯仿、四氢呋喃等有机溶剂下使用）。 T10044是400目进口铜网制作的纯碳膜，膜厚25-30nm，适合有机溶剂或高温加热样品的形貌像观察（特殊载体可根据客户制定材料：有铜、镍、钼、铝、钨、不锈钢、尼龙等金属及非金属材料。）。

AFM配件，原子力探针，AFM探针，原子力探针针尖，显微镜探针针尖，原子力针尖，原子力显微镜探针针尖，接触探针，纳米压痕探针，氮化硅探针，硅探针，热探针，超尖探针，电子探针，显微镜针尖，原子力显微镜针尖，轻巧模式探针，AFM针尖，接触式探针，磁性探针，导电探针，显微镜探针，探针，布鲁克探针，原子力探针，BRUKER PROBE，AFM PROBE，BRUKER探针，原子力显微镜探针，AFM探针，VEECO探针作为一家能够提供AFM/SPM仪器和AFM/SPM探针的企业，布鲁克公司深刻理解每个单独的组件对于一整套性能AFM系统的价值。布鲁克公司以的生产工艺，专业的AFM领域背景，得天独厚的生产装备，赋予探针制造众多的优势，确保在应用领域中提供完整的AFM解决方案。布鲁克AFM探针制造优势：*Class100级别的无尘室*的设计、制造工序及制造工具*探针设计团队与AFM设备研发团队通力合作，配合紧密*训练有素的生产团队，制造出各种型号的探针*的质量管理体系，确保探针性能行业在实验中，用户所得到的数据取决于探针的质量及探针的重复性。布鲁克的探针具有严格的纳米加工控制，的质量测试，和AFM领域的专业背景。所以用户尽可放心，我们的探针不仅为您当前的应用提供所需的结果，同时也能为将来的研究提供参考数据。

CARBON FILL,MGIS碳沉积（多支气体注入系统专用）用于原厂电子显微镜多支气体注入系统，碳沉积（多支气体注入系统专用）是一种存放碳化合物的容器，将药品加热到一定温度，药品气化，在真空压差和可控阀门的作用下，将药品气体喷洒在样品表面，同时在离子束的诱导作用下将碳分子沉积在样品表面。以实现对样品表面形貌的保护，或对样品进行导电处理。大束科技是一家以自主技术驱动的电子显微镜系列核心配件研发制造的供应商和技术服务商。目前公司主要生产电子显微镜的核心配件离子源、电子源以及配套耗材抑制极、拔出极、光阑等销往国内外市场，此外，还为用户提供定制化电子显微镜以及电子枪系统等的维修服务，以及其他技术服务和产品升级等一站式、全方位的支持。在场发射电子源（电子显微镜灯丝）、离子源以及电镜上的高低压电源、电镜控制系统研发制造等领域等均具有优势。

铜网厚碳支持膜主要用于在200kV或300kV的电镜下,观察纳米材料的形貌像。由于200kV以上电镜的电子束对样品的穿透能力强，同时对样品和支持膜的损伤程度也较大。碳支持膜的厚度需要更厚一些，以避免高强电子束对样品的损伤。同时，对于一些具有化学腐蚀的样品，推荐使用该产品。因此，厚碳支持膜在这个方面的应用具有明显优势。膜总厚度：15-30 nm 大包装100枚/盒。 中镜科仪200目、230目、300目、400目铜载网，中镜科仪生产，支持膜厚度15-30nm 。产品编号Prod.No.载网材质Material载网目数Mesh载网产地Made in支持膜产地Made in支持膜厚度（nm)Thickness包装UnitBZ31022a铜200目中镜科仪中镜科仪15-30100枚/盒BZ310223a铜230目中镜科仪中镜科仪15-30100枚/盒BZ31023a铜300目中镜科仪中镜科仪15-30100枚/盒BZ31024a铜400目中镜科仪中镜科仪15-30100枚/盒中包装50枚/盒。 中镜科仪200目、230目、300目、400目铜载网，中镜科仪生产，支持膜厚度15-30nm 。产品编号Prod.No.载网材质Material载网目数Mesh载网产地Made in支持膜产地Made in支持膜厚度（nm)Thickness包装UnitBZ31022b铜200目中镜科仪中镜科仪15-3050枚/盒BZ310223b铜230目中镜科仪中镜科仪15-3050枚/盒BZ31023b铜300目中镜科仪中镜科仪15-3050枚/盒BZ31024b铜400目中镜科仪中镜科仪15-3050枚/盒【存储】：室温避光干燥保存(建议放干燥器或者干燥箱内)、防污染、防震荡，存贮条件良好正常可保存1年左右。【使用注意】：取用时采用高精尖镊子小心操作，防止产生弯折等破坏。存在有机膜，不能与有机溶剂接触。面向样品盒有字母的一面是铺膜的一面。

AFM配件，原子力探针，AFM探针，原子力探针针尖，显微镜探针针尖，原子力针尖，原子力显微镜探针针尖，接触探针，纳米压痕探针，氮化硅探针，硅探针，热探针，超尖探针，电子探针，显微镜针尖，原子力显微镜针尖，轻巧模式探针，AFM针尖，接触式探针，磁性探针，导电探针，显微镜探针，探针，布鲁克探针，原子力探针，BRUKER PROBE，AFM PROBE，BRUKER探针，原子力显微镜探针，AFM探针，VEECO探针作为一家能够提供AFM/SPM仪器和AFM/SPM探针的企业，布鲁克公司深刻理解每个单独的组件对于一整套性能AFM系统的价值。布鲁克公司以的生产工艺，专业的AFM领域背景，得天独厚的生产装备，赋予探针制造众多的优势，确保在应用领域中提供完整的AFM解决方案。布鲁克AFM探针制造优势：*Class100级别的无尘室*的设计、制造工序及制造工具*探针设计团队与AFM设备研发团队通力合作，配合紧密*训练有素的生产团队，制造出各种型号的探针*的质量管理体系，确保探针性能行业在实验中，用户所得到的数据取决于探针的质量及探针的重复性。布鲁克的探针具有严格的纳米加工控制，的质量测试，和AFM领域的专业背景。所以用户尽可放心，我们的探针不仅为您当前的应用提供所需的结果，同时也能为将来的研究提供参考数据。