晶面间距

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晶面间距相关的耗材

  • 青石棉晶体标样晶面间距0.9nm
    【产品详情】青石棉晶体标样是可用于校正放大倍率和检测分辨率,(020)方向的晶面间距为0.9nm,(021)方向的晶面间距为0.45nm。产品详细价格及资料,请登录电镜耗材在线商城网站查看。
  • 单晶取向金标样晶面间距0.204nm
    【产品详情】此单晶取向金标样为负载于金网上的高取向超薄单晶金箔,可通过晶面间距0.204nm(200晶面),0.143nm(220晶面)和0.102nm校正检测TEM的分辨率、成像质量、放大倍率和高倍率下的稳定性,尤其适用于TEM样品阶梯上的高度调整。产品详细价格及资料,请登录电镜耗材在线商城网站查看。
  • 石墨碳黑标样晶面间距0.34nm
    【产品详情】此石墨碳黑标样晶面间距为0.34nm,负载于直径3.05mm的载网上,石墨化后的碳黑样品具有良好的稳定性和可循环利用性,是TEM分辨率检定的理想标样。产品详细价格及资料,请登录电镜耗材在线商城网站查看。

晶面间距相关的仪器

  • 瑞宁(RAININ)电动E4 XLS间距可调多道移液器操作简单,并采用人体工学设计,可在孔板、离心管架、小瓶架、凝胶梳和其他不同尺寸的容器之间转移液体样品。yi流的速度、人体工学设计和高精度让RAININ电动间距可调成为基因组、蛋白质组和细胞培养应用的理想之选。专为高性能运行而设计缓冲操纵杆控制使其易于设置和运行移液参数,顺畅地手动移动间距旋钮可以轻松完成连续间距调整。在您应用的每个阶段都保持一致的移液量和相同速度。自动循环计数让您可以专注于其他细节,自动混合或自动分配选项能够缓解您手指的疲劳。您可以轻松存储设置,从而在日后重复试验。准确且可重复所有的活塞移动都由机载微处理器控制,所有用户都可按设定的速度和距离移动活塞。高级步进马达有4,000步进量—提供高度精确的液体测量。在每次移液操作结束时,E4 XLS+ 间距可调移液器都会通过重新设置零点的方式进行复位。快速转板连续可调间距8通道型的孔间距在9-14 mm之间,6 通道型的孔间距在9-19 mm,适合96孔板吸液,并可分配到24孔板或离心管。平稳的单手调整确保吸入后或分配前实时地进行更改。间距标记提供快速的操作辅助,或者调节间距调节按钮以自动获得可重复性间距。简化重复移液专利LTS吸头和套柄设计非常方便进行多道移液器的吸头安装。计算单次吸液能连续分液多少次,通过多次分配避免繁琐的重复移液操作。 自动步进(AutoPace)可简化重复性分配 – 单击操纵杆重复孔板分配。从简单的移液到复杂应用,该工具可帮您完成所有这些操作。处理速度更快凭借Rainin的E4 XLS电动间距可调移液器,加快孔板处理速度。 特殊模式可简化连续分液、连续稀释操作和复杂的移液程序。E4的管理模式可使您以任何方式设置移液器。 为了方便或安全,删除不需要的模式或在设置中锁定。 打造个性化的设置档案,以将移液器重新设置为shou选配置。符合规格的移液器E4符合GLP/ GMP认证的规定,可通过密码对移液器设置、程序和服务警报进行保护,通过密码保护发出服务警报,避免校准合规的错误。 通过锁定程序设置,尽量减少移液SOP偏差。 维护记录、循环和状态数据可完全防篡改。保存您的程序!将多个自定义程序保存于机载存储器中。 只需轻松移动操纵杆,便可同时查看并选择程序。 不再需要一次又一次地重新输入所选的程序!
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  • HTY-AW01-MC型镜面冷凝法水活度仪是浙江泰林分析独立研发生产,专门用于检测样品中自由水含量的设备, HTY-AW01-MC型镜面冷凝法水活度仪产品特点:1. 强大的存储功能,记录检测温度时间和样品信息,可储存10年以上的数据。2. 耗材便宜,维护成本低。3. 审计追踪,三级密码权限4. 测量精度高,准确性±0.003aw,使得仪器的测量更精确。5. 测试速度快,标配主动式温度控制模块,快速,精准控温,将检测时间缩短至4分钟内。 技术参数:1. 检测范围:(0.030-1.000)aw2. 最大允许误差:±0.003aw3. 分辨率:±0.0001aw4. 重复性误差:≤3%5. 测试时间:≤5min6. 样品皿容量:7mL7. 温控范围:(10-50)℃8. 温控精度:±0.2℃应用领域:可在制药、食品、生物降解行业检测药品、食品、土壤、堆肥等。
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  • Pipet-Lite XLS 间距可调移液器提供了一种新的移液方式:具有 6 通道或 8通道,以快速从一种移液样式转换为另一种样式。 其速度、易用性与精确性适用于基因组学、蛋白质组学、组织培养与细胞培养的应用。与各种型号的 Pipet-Lite XLS 移液器相同,同可选的阅读器和软件联用时,其内置 RFID 标签可实现高级的校准跟踪。 快速调节通道间距利用一种连续可调的间距调节系统,可快速将通道之间的间距设置在 9 到 19 mm(6 通道)或 9 到 14 mm(8 通道)之间的任何一个数值,同时确保所有通道的间距一致。 可重现的孔间距调节限制间距和调节间距两种控制手段有助于进行平稳、精确和可锁定的调节。 限制控制可设定所需间距,而间距调节控制可改变设定值。 清晰易读的毫米刻度为间距调节提供了直观帮助,而无需估测。 绝对一致的样品吸液量专利 LTS 吸头和套柄设计非常方便进行多道吸头安装。 完美密封 – 第一次,和以后每一次 – 无需晃动或手工拧紧。 试一试 – 您不禁会为在所有通道能如此轻易地获得绝对一致的吸液而感到惊奇。
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晶面间距相关的试剂

晶面间距相关的方案

晶面间距相关的论坛

  • 【求助】晶面间距产生变化的原因是什么

    在对奥氏体衍射花样的标定过程中,发现晶面间距变大,老板说是由于残余应力及金属原子的固溶导致晶面间距发生变化,但是在常规的离子减薄过程中,残余应力是会被释放掉的啊,所以我认为晶面间距的变化仅仅是由于金属原子的固溶造成的,到底是哪一个对啊。

  • 晶面间距的计算问题

    晶面间距的计算问题

    有谁知道三斜晶系夹角计算公式中的S11。S12怎么计算?是用体积除以晶面间距吗?http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2016/01/201601062239_581034_3052452_3.png

晶面间距相关的资料

晶面间距相关的资讯

  • 定制镜面反射测量附件
    1. 镜面反射附件可以用来干什么呢? 镜面反射与我们的日常生活密切相关,如利用镜面反射进行照明和聚集能量的日光灯灯罩、高原上的太阳灶,另外,一些显示器面板,如电脑、手机的显示屏,需要使用增透膜(AR涂层),减少镜面反射,从而让屏幕的画面更清晰,减少鬼影和光斑。 在研发生产或质量检测中,需要对这些元件进行镜面反射测定,据此评价它们的性能。由于这些元件的种类多样,需要测定不同固定角度下的镜面反射,因此定制不同入射角的镜面反射附件可以直接测定不同元件的镜面反射率,提高评价效率。可用于测定光学玻璃,塑料,滤光片,镜子等样品。能够为从事玻璃,滤光片及化学领域的客户带来解决方案。2.镜面反射附件是什么样子的呢? 日立紫外-可见-近红外分光光度计UH4150在镜面反射测量中,可以提供4种固定入射角的标准选配附件,分别是5°,12°,30°和45°。凭借丰富的研发经验,日立可以定制不同固定入射光角度的镜面反射附件。附件的详细信息,请点击以下链接。https://www.instrument.com.cn/netshow/sh102446/s926340.htm有任何关于日立定制附件的问题,请拨打: 400-630-5821
  • 合肥研究院揭示痕量砷污染检测中的电化学晶面效应
    近日,中国科学院合肥物质科学研究院智能机械研究所&ldquo 百人计划&rdquo 黄行九研究员和&ldquo 973&rdquo 首席科学家刘锦淮研究员带领的研究团队成功地实现了小于20纳米的四氧化三铁纳米颗粒晶面可控生长,并以此实现对磁性的精确调制和电化学行为的调控,揭示了电化学检测砷污染过程中的纳米晶面效应。  环境中砷污染物的检测是一个重要的研究课题,一直备受关注。电化学检测由于其本身具有快速、高灵敏、便携等优点成为检测水中砷污染物的重要方法之一,常规的电化学检测大部分采用了比较昂贵的贵金属电极(如金、铂等)。智能所的研究人员致力于发展氧化物纳米材料取代贵金属电极,并取得了初步的研究成果(Analytical Chemistry, 2013, 85, 2673-2680)。  为了进一步揭示氧化物纳米材料取代贵金属的高灵敏电化学响应机制,研究人员对修饰电极的纳米四氧化三铁材料的尺寸和形貌进行了调控,合成了15纳米左右的方形与圆形纳米片,分别暴露(001)和(111)晶面,并将其用于水中的As(III)的电化学分析。实验结果表明,As(III)在四氧化三铁纳米片(001)晶面上的电化学响应信号强度是在(111)晶面上的3.5倍。同时,研究人员将电分析化学与理论模拟计算相结合,从晶面效应角度理解As(III)在电极修饰材料表面的电化学过程。理论计算结果表明,亚砷酸在四氧化三铁(001)晶面上的吸附能为-1.73eV,远远大于在(111)晶面上的吸附能-1.06eV。  该研究揭示了纳米晶表面原子排列的不同对电化学敏感行为的影响机制,为更加精细的电极修饰材料和电化学敏感界面设计提供了新方向。评审人认为此项研究的视角是新颖而有趣的。相关研究结果发表在英国皇家化学学会的《化学通讯》(Chemical Communication 2014, 50, 15952-15955)上。  该研究工作得到了国家重大科学研究计划纳米专项项目&ldquo 应用纳米技术去除饮用水中微污染物的基础研究(2011CB933700)&rdquo 和中科院&ldquo 引进海外杰出人才&rdquo 百人计划等项目的支持。暴露(001)和(111)晶面的四氧化三铁纳米片及其修饰电极对As(III)电化学检测
  • 大连化物所实现铜晶面串联催化促进电化学还原硝酸盐合成氨
    近日,大连化物所催化基础国家重点实验室汪国雄研究员和包信和院士团队在电化学合成氨研究中取得新进展,发展了一种原位衍生的高性能Cu纳米片催化剂,提出了Cu晶面串联催化促进电化学还原NO3-合成NH3的有效策略,并加深了对Cu催化剂上NO3-转化为NH3反应机制的理解。   电催化还原将硝酸盐(NO3-)污染物转化为高附加值的氨(NH3),为氮资源循环利用提供了一种有前景的解决途径。NO3-转化为NH3需要经历复杂的多步质子电子转移过程,导致动力学速率缓慢,过电势高。同时,竞争性析氢反应(HER)降低了NH3法拉第效率及分电流密度。因此,硝酸盐电催化还原(NO3-RR)的关键是设计制备高活性、高选择性和高稳定性的催化剂。本工作报道了一种电化学原位衍生的高性能铜(Cu)纳米片催化剂,在流动相电解池中,该催化剂在-0.59 V vs. 相对可逆氢电极(RHE)条件下获得了665 mA cm-2的NH3分电流密度和1.41 mmol h-1 cm-2的NH3产率。该催化剂表现出700 h的高稳定性,在365 mA cm-2电流密度下,NH3法拉第效率保持在~88%。电化学原位谱学表征结果表明,氧化铜(CuO)纳米片在RR反应条件下被原位还原为金属Cu,提供了NO3-电化学还原的活性位点。物理化学和电化学表征以及密度泛函理论计算结果表明,原位衍生Cu纳米片的高性能归因于Cu(100)和Cu(111)晶面的串联催化作用。由于Cu的不同晶面上静电势的差异导致NO3-吸附强弱的差别,其中Cu(100)更容易吸附NO3-并促进其转化为NO2-,产生的NO2-随后迁移在Cu(111)上进一步还原,从而促进了NH3的生成。   相关工作近日以“Enhancing Electrochemical Nitrate Reduction to Ammonia over Cu Nanosheets via Facet Tandem Catalysis”为题发表在《德国应用化学》(Angewandte Chemie International Edition)上。该工作第一作者是我所502组博士研究生付云凡和博士后王硕。该工作得到国家重点研发计划、国家自然科学基金等项目的支持。
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