图层石墨

诚驿科技CHINYEE墨玉系列MOOYU耐腐蚀电加热专为要求极为严苛的超痕量应用量身定做，尤其适合于：地球化学、半导体等行业。整机防腐，100%无金属。适用于所有微量金属实验室进行样品处理，更适合100级洁净室使用。选用高强度等静压石墨，更优异的热传导性，极低孔隙率使表面更光洁平整国际一线品牌电子元件，可编程PID温度控制器内嵌PTFE防护底板，保护台面避免过热损伤界面简洁，易于操作加厚PFA完整涂层，高效防腐导热均匀，+/-1.5℃@150℃支持定制，按需生产

DLC涂层是类金刚石涂层。主要有两种方式实现，一种是PVD，化学气相沉积，还有一种是PVD，物理气相沉积，IP的意思是Ion plating，是离子镀，是PVD技术的一种。DLC一般是黑色的，非常的耐磨、防滑，IP涂层就是离子镀涂层，用来做DLC的也比较多。类金刚石涂层或简称DLC涂层是一种非晶态膜，基本上可分为含氢类金刚石（a-C:H）涂层和无氢类金刚石涂层两种。含氢DLC涂层中的氢含量在20at.%-50at.%之间，sp3成分小于70%。无氢DLC涂层中常见的是四面体非晶碳(ta-C)膜。ta-C涂层中以sp3键为主，sp3含量一般高于70%。类金刚石涂层或简称DLC涂层是含有金刚石结构（sp3键）和石墨结构（sp2键）的亚稳非晶态物质，碳原子主要以sp3和sp2杂化键结合。

一个多功能平台，旨在结合围绕“摩擦学”耐磨性的各种沉积技术，其中包括类金刚石碳（DLC）等低摩擦涂层。这种DLC摩擦沉积系统还可以沉积CrN，TaC，TiC，TiN，MoS2和WC-C，这只是许多行业中用于功能性涂料的几种常见材料，包括航空航天，汽车，国防，医疗器械，发电，石油和天然气等。这种多用途设备可以提供的沉积技术包括：高功率脉冲磁控溅射 （HIPIMS）反应式磁控溅射电感耦合等离子体源 （ICP）等离子体增强化学气相沉积 （PECVD）高功率脉冲磁控溅射 （HIPIMS）高功率脉冲磁控溅射（HIPIMS）是一种技术，它允许电离一部分溅射靶材，并通过简单地添加HIPIMS电源来控制地增加电离物质的能量。这是通过在很短的时间内向磁控管施加极高的功率（数百千瓦到兆瓦）来实现的。以这种方式施加功率会产生极高的电子（等离子体）密度，在溅射物质离开靶材后将其电离。相比之下，当使用直流或脉冲直流溅射时，只有一小部分（5%）溅射靶材被电离。通过适当调整脉冲参数，可以实现 5 – 100% 的电离水平。铜等材料可以完全电离，甚至可以维持不使用氩气的“自溅射”状态。大多数其他材料仍然需要一些惰性的溅射气体来维持放电。在负溅射脉冲中添加相邻的正脉冲可以“调整”溅射离子加速向基板的能量。因此，可以轻松控制涂层特性，如密度、电阻率和应力。由于离子的能量可以直接从靶标控制，因此可以消除对底物偏置的需求。这为在低温下和非导电基材（如聚合物和玻璃）上创建致密、粘附良好的涂层打开了大门。此外，三维结构，如沟槽和柱子，可以保形涂层。HIPIMS电源可用于驱动此DLC摩擦学系统，使用小至2“圆形磁控管以及长达1m或更长的大型平面或可旋转磁控管。反应式磁控溅射反应磁控溅射是一种用于从金属靶材沉积材料的氧化物、氮化物和碳化物的工艺。传统上，陶瓷是用射频功率溅射的，这具有极低的沉积速率，并且需要在镀膜系统中“包含”射频功率。在某些情况下，陶瓷涂层可以用脉冲直流功率沉积，带有“中毒”靶材，其中反应气体与靶材表面反应以形成“中毒或陶瓷层”，但沉积速率也非常低，涂层性能可能不是最佳的。在反应溅射工艺中，反应气体分压的控制方式使靶材保持“半金属”状态，这允许高沉积速率，而基板上产生的涂层是化学计量陶瓷。对于反应溅射，控制系统中反应气体的分压是关键。这可以通过间接测量、目标电压/电流或光学发射光谱法或直接通过分压测量来实现。然而，哪种技术最合适，产生最稳定和可重复的工艺取决于要沉积的材料和系统设计。例如，如果要将SiO2沉积到聚合物网上，可以使用电压/电流或直接光发射进行控制。但是，如果要将TiN沉积到批量涂布机行星夹具上的切削工具上，则无法进行电压/电流控制，远程光发射监测是最合适的。反应溅射目前应用广泛。它可以与HIPIMS技术结合使用，以拓宽金属氮化物和氧化物沉积的工艺窗口。光学和透明导电氧化物（TCO）涂层可以以高速率沉积。电感耦合等离子体源 （ICP）等离子体源已用于蚀刻、离子辅助沉积和等离子体增强化学气相沉积（PECVD）多年。但是，大多数来源适用于上述一个或两个过程，但不是所有上述过程。此外，传统源的可扩展性由于其操作和物理结构的物理特性而受到限制。已经开发出电感耦合等离子体（ICP）源技术，该技术克服了污染，中和器组件磨损和可扩展性等问题。此类光源有圆形、矩形和环形光源。它们可以在很宽的压力范围内（10e-4 至 10e-2 mbar）运行，并且可以在低能量 （15 eV） 或更高能量下运行，具体取决于工艺要求。由于它们基本上没有要“磨损”的内部部件，因此它们易于维护，并且对于长期生产活动非常坚固。由于ICP以相对较低的能量获得高等离子体密度，因此它们适用于温度感性基板（聚合物）的等离子体功能化以及“损坏”敏感基板或结构。介电材料可以高速率从气体前体沉积，用于光学镀膜（SiO2、TiO2）以及非晶硅和类金刚石碳（DLC）镀膜的沉积等应用。这些光源也适用于使用电子束蒸发或磁控溅射和金属氮化物/碳化物的光学镀膜的“离子辅助”沉积。氟、氯和硅烷等腐蚀性气体也与这些来源相容。圆形光源的直径从 4“ 到 12” 不等，矩形光源的长度可达 1.3 m。环形源的独特之处在于基板可以直接通过源。这允许在基材的两侧或外径上进行表面功能化或涂层。什么是DLC涂层？类金刚石碳涂层是地球上最坚韧的涂层之一。DLC是一类无定形碳涂层，可以具有钻石的硬度，但具有石墨的光滑度 - 两者都由碳制成。该涂层是纳米晶金刚石和纳米晶碳化硅层的基体，使金刚石沉积具有极高的硬度和摩擦磨损的长期耐久性。DLC涂层是一种环保工艺，可在极端条件下抵抗磨损，从高性能汽车和航空航天部件到手表，珠宝和厨具上的装饰涂层，将美观与耐腐蚀和耐刮擦性相结合。DLC的显微硬度和光滑度使其成为一种久经考验的生物相容性涂料，是各种医疗植入物应用的理想选择。沉积可以配置为改变电流，使其表现得像半导体或绝缘体，这为医疗技术的重要和令人兴奋的新进步做出了贡献。防止磨料磨损的出色摩擦学特性使其通常用于发动机凸轮和轴承、金属切割和钻孔设备以及剃须刀片等应用。DLC涂层设备是一项相对较新的技术，已迅速成为广泛用途的首选应用，为您提供了一个多功能的多用途平台，使您能够结合摩擦磨损性的各种沉积技术。我们是全球领先的电子、光学、太阳能、医疗、军事和相关高科技行业溅射设备供应商。