半导体光电子器

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半导体光电子器相关的厂商

  • 鹏城半导体技术(深圳)有限公司,由哈尔滨工业大学(深圳)与有多年实践经验的工程师团队共同发起创建。公司立足于技术前沿与市场前沿的交叉点,寻求创新引领与可持续发展,解决产业的痛点和国产化难题,争取产业链的自主可控。公司核心业务是微纳技术与高端精密制造,具体应用领域包括半导体材料、半导体工艺和半导体装备的研发设计和生产制造。公司人才团队知识结构完整,有以哈工大教授和博士为核心的高水平材料研究和工艺研究团队;还有来自工业界的高级装备设计师团队,他们具有20多年的半导体材料研究、外延技术研究和半导体薄膜制备成套装备设计、生产制造的经验。公司依托于哈尔滨工业大学(深圳),具备先进的半导体研发设备平台和检测设备平台,可以在高起点开展科研工作。公司总部位于深圳市,具备半导体装备的研发、生产、调试以及半导体材料与器件的中试、生产、销售的能力。公司主营业务微纳米材料与器件、微纳米制造工艺、微纳工艺装备、工艺自动化及软件系统化合物半导体衬底材料和外延片|化合物半导体系列氮化镓、碳化硅、氧化镓、砷化镓、金刚石等|物理气相沉积(PVD)系列磁控溅射、电子束、热蒸发、离子束溅射、离子辅助磁控溅射、多弧离子镀、磁控溅射与离子束溅射复合、磁控溅射与多弧离子镀复合|化学气相沉积(CVD)系列PECVD、ICPECVD、MOCVD、LPCVD、热丝CVD、微波CVD|超高真空系列MBE分子束外延设备(科研型、生产型)、超高真空磁控溅射外延设备(10-8Pa)|其它ICP等离子刻蚀机、半导体合金退火炉、等离子清洗机、真空机械手、金刚石薄膜与厚膜生长设备|团簇式设备系列太阳能薄膜电池设备:PECVD+磁控溅射+样品预处理+真空自动机械手OLED中试设备:热蒸发+电子束+磁控溅射+PECVD+样品预处理+真空自动机械手+手套箱封装室综合薄膜制备和器件制造实验平台:以内置真空机械手的样品传递室为中心(配4~8个进出口),配置各真空工艺室|技术服务非标成套薄膜制备设备设计制造、薄膜制备设备升级改造、自动化软硬件设计承接工艺研发、样品试制与打样、进口设备真空零部件的维修和替换及控制系统更新本科及研究生的毕业课题立项及实训培养、工程师培训
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  • 400-860-5168转3241
    载德半导体技术有限公司是专业的半导体及微电子领域仪器设备供应商,载德所代理的仪器设备广泛用于高校、研究所、半导体高新企业。载德半导体技术有限公司目前代理的主要产品包括: - 霍尔效应测试仪(Hall Effect Measurement System); - 快速退火炉(RTP); - 回流焊炉,真空烧结炉(Reflow Solder System); - 探针台(Probe Station),低温探针台(Cryogenic Probe Station); - 贴片机(Die Bonder),划片机(Scriber),球焊机/锲焊机(Wire Bonder); - 原子层沉积系统(ALD),等离子增强原子层沉积设备(PEALD); - 磁控溅射镀膜机(Sputter),电子束蒸发镀膜机(E-beam Evaporator),热蒸发镀膜机(Thermal Evaporator),脉冲激光沉积系统(PLD) - 低压化学气相沉积系统(LPCVD),等离子增强化学气相沉积系统(PECVD),快速热化学气相沉积系统(RTCVD); - 反应离子刻蚀机(RIE),ICP刻蚀机,等离子体刻蚀机; - 加热台、热板、烤胶台 (Hot Chuck / Hot Plate); - 扫描开尔文探针系统(Kelvin Probe),光反射膜厚仪(Reflectometer); 等等...
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  • 矽万(上海)半导体科技有限公司是一家致力于设计、研发、生产、销售和服务高精密半导体设备的高新技术中外合资企业。我们专注于为客户提供PicoMaster无掩模激光直写光刻机,包括设备的安装调试、工艺改进、软件开发、以及可选配的涂胶显影清洗设备等。我们的产品和服务主要应用于全息防伪、半导体、微纳光学器件、掩模版制作、光学衍射器件、微流控芯片、MEMS器件等领域。 公司注册于上海浦东国家自由贸易区,在上海设有技术服务中心,在荷兰设有生产研发中心,其母公司为注册在香港的Simax Asia Pacific Limited。我们已于2019年和2020年分别在深圳和武汉建立了演示中心 2021年3月上海演示中心也建成并投入使用。演示中心将在3D光刻软件开发、客户定制设计、客户工艺改进等方面发挥巨大作用。 我们以“品质创造价值,服务实现共赢”为经营理念。通过先进的技术,严格的质量管控,为客户提供完整的高品质解决方案。
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半导体光电子器相关的仪器

  • 拉曼激光器拉曼光谱测试都需要高功率,高稳定,窄线宽的激光光源,常用的波长主要是785和532nm。785nm的最大激光功率一般要求300mw以上,532nm的最大激光功率在50mW以上。线宽也要优于0.2nm。我们供应SPL-785、SPL-532系列高质量光源用于拉曼检测。SPL-Laser-785拉曼半导体激光器系统 SPL--532nm拉曼稳定光谱窄线宽激光器SPL-532nm拉曼稳光谱窄线宽激光器,基于先进的激光技术,具备优越的可靠性与长期的稳定性,产品内装配有温度控制模块与APC激光功率反馈功能,以确保激光长期工作的稳定性。SPL-532nm拉曼稳光谱窄线宽激光器可以提供2种类别的激光器选择方案,其一是自由光路输出的方式;其二是可以提供耦合到光纤输出的方式。应用领域:拉曼光谱、光纤传感等。 杭州谱镭光电技术有限公司(HangzhouSPL Photonics Co.,Ltd)是一家专业的光电类科研仪器代理商,致力于服务于国内科研院所、高等院校实验室、企业研发部门。我们代理的产品涉及光电子、激光、光通讯、物理、化学、材料、环保、食品、农业和生物等领域,可广泛应用于教学、科研及产品开发。 我们主要代理的产品有:微型光纤光谱仪、中红外光谱仪、积分球及系统、光谱仪附件、飞秒/皮秒光纤激光器、KHz皮秒固体激光器、超窄线宽光纤激光器、超连续宽带激光器、He-Ne激光器、激光器附件及激光测量仪器、光学元器件、精密机械位移调整架、光纤、光学仪器、光源和太赫兹元器件、高性能大口径瞬态(脉冲)激光波前畸变检测干涉仪(用于流场、波前等分析)、高性能光滑表面缺陷分析仪、大口径近红外平行光管、Semrock公司的高品质生物用滤波片以及Meos公司的光学教学仪器等。 Tell:0571-88076956 Email: SPL 785nm 拉曼半导体激光器系统 特性和参数:
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  • PHIGENESISModel 900 for HAXPES无需溅射刻蚀的深度探索下一代透明发光材料使用直径约为10nm~50nm 的纳米量子点(QDs),结合使用 XPS(Al Ka X射线)和 HAXPES(Cr Ka x射线)对同一微观特征区域进行分析,可以对 QDs 进行详细的深度结构分析。XPS 和HAXPES 的结合使用,可以对纳米颗粒进行深度分辨、定量和化学态分析,从而避免离子束溅射引起的损伤。 深层界面的分析在两种x射线源中,只有 Cr Ka XPs 能探测到 Y0,下方距离表面 14nm 处的 Cr层。拟合后的谱图确定了 Cr 的化学态。另外,通过比较,光电子起飞角90°和30°的 Cr Ka 谱图结果发现在较浅(表面灵敏度更高)的起飞角时,氧化物的强度较高,表明 Cr 氧化物处于 Y,0,和 Cr 层之间的界面。 内核电子的探测Cr Ka 提供了额外的 Al Ka 不能获取的内核电子基于 Cr Ka 的高能光电子,通常有多个额外的跃迁可用于分析。应用领域主要应用于电池、半导体、光伏、新能源、有机器件、纳米颗粒、催化剂、金属材料、聚合物、陶瓷等固体材料及器件领域。用于全固态电池、半导体、光伏、催化剂等领域的先进功能材料都是复杂的多组分材料,其研发依赖于化学结构到性能的不断优化。ULVAC-PHI,Inc.提供的全新表面分析仪器“PHI GENESIS” 全自动多功能扫描聚焦X射线光电子能谱仪,具有卓越性能、高自动化和灵活的扩展能力,可以满足客户的所有分析需求。PHI GENESIS 多功能 分析平台在各种研究领域的应用电池 AES/Transfer Vessel“LiPON/LiCoO 2 横截面的 pA-AES Li 化学成像”Li 基材料例如 LiPON,对电子束辐照敏感。 PHI GENESIS 提供的高灵敏度能量分析器可以在低束流(300pA)下快速获取 AES 化学成像。有机器件 UPS/LEIPS/GCIB使用 UPS/LEIPS 和 Ar-GCIB 测量能带结构(1)C60薄膜表面(2)C60薄膜表面清洁后(3)C60薄膜 /Au 界面(4)Au 表面通过 UPS/LEIPS 分析和 Ar-GCIB 深度剖析可以确定有机层的能级结构。半导体 XPS/HAXPES半导体器件通常由包含许多元素的复杂薄膜组成,它们的研发通常需要对界面处的化学态进行无损分析。为了从深层界面获取信息,例如栅极氧化膜下的 GaN,使用 HAXPES 是非常有必要的。微电子 HAXPES 微小焊锡点分析HAXPES 分析数据显示金属态Sn 的含量高于 XPS 分析数据,这是由于Sn 球表面被氧化,随着深度的加深,金属态Sn的含量越高,正好符合HAXPES 分析深度比 XPS 深的特点。
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  • PHIGENESIS Model 900 for HAXPES无需溅射刻蚀的深度探索下一代透明发光材料使用直径约为10nm~50nm 的纳米量子点(QDs),结合使用 XPS(Al Ka X射线)和 HAXPES(Cr Ka x射线)对同一微观特征区域进行分析,可以对 QDs 进行详细的深度结构分析。XPS 和HAXPES 的结合使用,可以对纳米颗粒进行深度分辨、定量和化学态分析,从而避免离子束溅射引起的损伤。 深层界面的分析 在两种x射线源中,只有 Cr Ka XPs 能探测到 Y0,下方距离表面 14nm 处的 Cr层。拟合后的谱图确定了 Cr 的化学态。另外,通过比较,光电子起飞角90°和30°的 Cr Ka 谱图结果发现在较浅(表面灵敏度更高)的起飞角时,氧化物的强度较高,表明 Cr 氧化物处于 Y,0,和 Cr 层之间的界面。 内核电子的探测Cr Ka 提供了额外的 Al Ka 不能获取的内核电子基于 Cr Ka 的高能光电子,通常有多个额外的跃迁可用于分析。应用领域 主要应用于电池、半导体、光伏、新能源、有机器件、纳米颗粒、催化剂、金属材料、聚合物、陶瓷等固体材料及器件领域。用于全固态电池、半导体、光伏、催化剂等领域的先进功能材料都是复杂的多组分材料,其研发依赖于化学结构到性能的不断优化。ULVAC-PHI,Inc.提供的全新表面分析仪器“PHI GENESIS” 全自动多功能扫描聚焦X射线光电子能谱仪,具有优越性能、高自动化和灵活的扩展能力,可以满足客户的所有分析需求。PHI GENESIS 多功能 分析平台在各种研究领域的应用电池 AES/Transfer Vessel“LiPON/LiCoO 2 横截面的 pA-AES Li 化学成像”Li 基材料例如 LiPON,对电子束辐照敏感。 PHI GENESIS 提供的高灵敏度能量分析器可以在低束流(300pA)下快速获取 AES 化学成像。有机器件 UPS/LEIPS/GCIB使用 UPS/LEIPS 和 Ar-GCIB 测量能带结构(1)C60薄膜表面(2)C60薄膜表面清洁后(3)C60薄膜 /Au 界面(4)Au 表面通过 UPS/LEIPS 分析和 Ar-GCIB 深度剖析可以确定有机层的能级结构。半导体 XPS/HAXPES半导体器件通常由包含许多元素的复杂薄膜组成,它们的研发通常需要对界面处的化学态进行无损分析。为了从深层界面获取信息,例如栅极氧化膜下的 GaN,使用 HAXPES 是非常有必要的。微电子 HAXPES 微小焊锡点分析HAXPES 分析数据显示金属态Sn 的含量高于 XPS 分析数据,这是由于Sn 球表面被氧化,随着深度的加深,金属态Sn的含量越高,正好符合HAXPES 分析深度比 XPS 深的特点。
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半导体光电子器相关的资讯

  • LDMAS2021低维半导体电子/光电子器件分论坛成功举办
    近日,2021年第四届低维材料应用与标准研讨会(LDMAS2021)在北京西郊宾馆成功召开。会议吸引了低维材料与器件相关领域的400余名专家学者与企业代表出席,云端参会人数超过1万人。会议同期举办5个不同主题的分会场,仪器信息网编辑对“第2分论坛:低维半导体电子/光电子器件分论坛”进行了跟踪报道。该会场共安排了16个邀请报告和6个青年论坛报告,相继由北京大学集成电路学院研究员黄芊芊、中国科学院半导体所研究员赵德刚、中国科学院半导体研究所研究员薛春来、华中科技大学光学与电子信息学院/武汉光电国家研究中心副教授叶镭和北京化工大学教授邵晓红主持;内容精彩纷呈,得到与会观众的高度关注。以下为此分会场的部分报告集锦,以飨读者。报告题目:GaN 基材料与激光器报告人:中国科学院半导体所研究员 赵德刚氮化镓(GaN)材料被称为第三代半导体,GaN基激光器在激光显示、激光照明、激光加工等领域重要的应用价值,材料生长与器件工艺是基础和关键。在材料方面,赵德刚课题组提出了独特的MOCVD外延方法,生长出高质量的GaN材料,室温下电子迁移率超过1000 cm2/Vs,这是目前国际上公开报道的最好结果;发现并抑制了碳杂质对p-GaN材料的补偿效应,提出了少量掺氧的p型杂质激活方法,解决了p型掺杂问题;还发现了GaN材料“黄光峰”与碳杂质和刃位错紧密相关。在器件方面,利用碳杂质实现了良好的p-GaN欧姆接触特性;掌握了InGaN量子阱界面控制方和局域态调控方法,并生长出高质量的InGaN量子阱材料;研究了InGaN波导层的生长技术,有效抑制了表面V型坑缺陷的形成;提出了降低吸收损耗、抑制电子泄漏的多种激光器新结构,提高了器件性能,研究了激光器物理,发现了GaN基激光器失效机制。研制出我国第一只GaN基紫外激光器,目前连续功率输出920mW,进一步实现了366nm的GaN基紫外激光器电注入激射,并研制出室温连续激射功率6W的蓝光激光器。报告题目:基于低维硅材料的异质结构及其光电神经突触器件报告人:浙江大学教授 皮孝东由于基于传统的冯诺依曼架构的计算的发展面临着高功耗等瓶颈问题,新型计算如神经形态计算正受到人们越来越多的关注。在生物神经系统中,信号的传递都是通过神经突触实现的,因此模拟生物神经突触的神经突触器件成为了发展神经形态计算所必需的核心器件。生物神经系统中的信号主要是电信号,所以早期的研究人员主要研究电刺激-电输出的电子神经突触器件。然而,光电集成特别是硅基光电集成的发展表明,神经形态计算将来若能建立在光电集成的人工神经网络之上,其性能将比只依赖于电集成的更加卓越。这导致近年来研究人员考虑到将光信号引入神经突触器件中,制备光电神经突触器件,进而构建光电集成的人工神经网络。对于光电神经突触器件,如果它们基于硅,研究人员就有望充分利用硅成熟的器件制备和集成工艺,推动光电集成的神经形态计算的快速发展。报告中,皮孝东主要介绍近年来基于低维硅材料如硅量子点和硅纳米膜,与新型半导体材料如二维半导体材料、有机无机杂化钙钛矿、有机半导体等构建异质结构,制备光电神经突触器件,实现对一系列生物突触行为的模拟。报告题目:基于二维层状半导体的偏振光探测器报告人:中国科学院半导体研究所研究员 魏钟鸣近年来,二维材料由于其独特的光电性能而受到了广泛的关注。相比于零带隙的石墨烯,二维半导体材料如MoS2,WSe2等具有一定宽度的带隙,使其可以广泛应用于各种光电器件(包括存储器、探测器和晶体管等)。魏钟鸣课题组针对二维半导体及光电器件进行了长期的探索,围绕材料的设计、制备和器件应用已经取得一些进展,部分材料在场效应晶体管和光探测器等方面显示出较好的性能。作为一种特殊的光电器件,偏振光探测器在光通信、成像等领域有非常重要的应用,魏钟鸣在报告中主要针对新型二维半导体在偏振光探测方面的原型器件和工作机理进行汇报。发现具有二维层状堆积晶体结构和面内各向异性的GeSe与GeAs等材料表现出优异的偏振光探测性能,并且探测波段从可见区覆盖到红外区,这两种材料都在808 nm的短波近红外区获得最优性能。报告题目:高性能低维半导体器件报告人:北京大学微纳电子学系研究员 吴燕庆超薄二维材料体系具有丰富的能带结构与优异的电学特性,可用来实现高性能逻辑、射频与存储器件。其超薄体特性可在超短沟器件中有效抑制短沟道效应。基于二维材料体系的垂直范德华异质结可突破传统体材料异质结的结构限制,实现超越传统器件的功能,并大幅提升性能。纳米尺寸的短沟道器件以及与硅基工艺相兼容的二硫化钼晶体管具有优异的输出特性,其输出电流可超过1mA/µm。基于大面积生长工艺的双层二硫化钼射频晶体管的最大振荡频率峰值可达到23 GHz,基于柔性衬底的混频器也可工作在GHz频段。基于面内各向异性最佳输运方向,沟长为100 nm的黑磷晶体管室温驱动电流达到1.2 mA/ µm,20 K时进一步提高到1.6 mA/µm。室温下其弹道输运效率达到36%,在低温20 K时提高到79.4%。基于上述两种二维材料的范德华异质结可实现电压可调的可重构多值逻辑,并且在超浅垂直异质结中可实现超高整流比与开关比。因此基于范德华异质结的量子隧穿器件具有优异的特性和极大的潜力。此外,在基于超薄4nm的氧化铟锡半导体的短沟道器件中实现了开关比超越1010的超低功耗器件,最短沟长可以达到10nm,并且实现了相关的环振电路,振荡频率为氧化物半导体中最高。并实现了极高的反相器增益及射频增益。低维材料高性能电子器件可为未来后摩尔时代提供具有应用潜力的新一代电子器件。报告题目:低维半导体载流子动力学调控报告人:南京大学教授 王枫秋低维半导体是发展新一代微纳电子和光电子器件的重要技术路径。从微观层面操控低维半导体载流子及载流子激发态的基本性质(如迁移率、寿命、弛豫通道、极化率等),是提升器件宏观性能并发展新原理光电器件的关键。近年来,王枫秋课题组聚焦二维半导体、碳基材料及其异质结构,深入开展限域体系载流子弛豫机制和新型光电器件研究,主要代表成果:(1)提出系列具有普适性的载流子动力学调控策略,实现了两类重要体系载流子寿命宽谱、大范围调制,一项成果入选“2017中国光学十大进展”。(2)首创全碳异质薄膜光探测器结构,解决光电导增益和响应速度协同优化难题,率先实现“光学神经元”新概念器件。(3)发展了低维半导体超快光开关技术,突破宽波段覆盖和参数精控两大实用化技术瓶颈,多项指标保持世界纪录。报告题目:新型二维半导体在集成电路中的可行性和优势报告人:复旦大学研究员 包文中近年来作为学术界研究热点的二维材料,也逐渐引起了工业界的关注。最新的国际器件与系 统发展路线图(IRDS 2020)高度评价了二维半导体材料在未来集成电路中应用于叠层纳米片晶体管及其他新型能带调控器件的巨大潜力。在此背景下,包文中课题组在实现批量生长高质量晶圆级二维材料的基础上,系统性的发展了多个可实用的工艺新方法,包括有效的掺杂、金半接触和栅介质生长等分立工艺。在此基础上开创性的提出了二维材料工艺集成的新方法,从而开发了二维材料的集成电路成套流片工艺。结合器件紧凑模型和电路仿真优化,我们成功制作了传统的数字、模拟、存储电路;同时,还充分发挥二维材料的独特优势,提出多种开创性的器件结构。报告题目:硅/石墨烯宽光谱红外探测器报告人:浙江大学教授 徐杨徐杨课题组研究了一种用于中红外光电探测的宏观组装石墨烯(MAG)纳米膜/硅异质结。高结晶度的MAG通过氧化石墨烯的可扩展湿法组装,然后进行热退火制备,厚度可调(14-60 nm),尺寸可以达到2 英寸。MAG/Si肖特基二极管在室温下响应波段范围为1- 4 μm,具有高速响应(120-130 ns,4 mm2窗口)和高探测率(1.5 μm波长下为1011 Jones),其瞬态光电流性能优于单层石墨烯/硅光电探测器2个数量级以上。这种光电性能归功于MAG的优越优势(~ 40%的光吸收、~ 23 ps 的载流子弛豫时间、相对较低的功函数 (4.52 eV) 和高准平衡热载流子倍增增益)、原子尺度的异质结接触界面,以及来自硅的碰撞电离雪崩倍增增益(~102倍)。MAG提供了一个了解2D材料中的热载流子动力学的平台,也为探索新型室温下宽光谱碳硅融合的图像传感器提供了研究基础。报告题目:局域场调控红外探测器研究进展报告人:中科院上海技物所青年研究员 王鹏随着半导体技术的快速发展,光电探测技术取得了长足进步。其中,以Si、InGaAs、HgCdTe等为代表的传统半导体薄膜光电探测器以其成熟的集成技术与稳定的探测性能在商业化产品与国防军工等领域占据主导地位,且已广泛应用于地球观测、环境监测、目标识别、空间遥感等领域。目前,新一代光电探测技术正朝着高性能、大面阵、低噪声以及高工作温度等方向发展,对光电探测材料与器件提出了更高的要求。低维半导体材料表现出明显区别于经典体系的物性特征,载流子输运、光学跃迁等物理行为具有可控的量子特性,产生许多新颖的物理性质和效应,并以此形成的具有颠覆性意义的光电技术在性能指标上超越传统器件的理论极限,对现有红外探测体系是很好的补充。因此,不断深入和优化现有材料体系的同时,持续开展新材料、新结构的研究和开发,是光电探测器技术发展的必然要求。本次报告将围绕新一代红外探测器技术的发展需求,介绍当前研究现状,汇报我们在局域场调控红外探测器研制与新颖探测机理研究等方面进展。
  • 全国半导体照明电子行业测试标准发布
    1月24日,由中国电子技术标准化研究所、工业和信息化部半导体照明技术标准化工作组等联合主办的2010年全国半导体照明电子行业标准发布及宣传贯彻大会在广东省江门市召开,标志着我国LED产业发展进入一个新的历史时期。  工业和信息化部于2005年成立了半导体照明技术标准工作组。经过多年的努力,工作组在半导体照明材料、芯片技术、封装产品检验和测试方法上取得了突破性进展,并相继主持制定了9项行业标准。本次大会发布了这9项标准:《半导体光电子器件功率发光二极管空白详细规范》、《半导体发光二极管测试方法》、《氮化镓基发光二极管用蓝宝石衬底片》、《半导体发光二极管用荧光粉》、《功率半导体发光二极管芯片技术规范》、《半导体发光二极管芯片测试方法》、《半导体光电子器件小功率发光二极管空白详细规范》、《半导体发光二极管产品系列型谱》以及《LED照明名词术语》等。会上,有关专家分别对9项电子行业标准进行了详细讲解。  9项行业标准的发布与实施对规范半导体照明行业市场、完善现行制度、鼓励先进企业跨地区自由竞争、推动技术创新具有重要意义。同时有利于引导企业有序、按照标准进入市场,有利于推动我国半导体照明产业健康良性发展。  工业和信息化部、广东省、江门市等相关部门负责同志以及工业和信息化部半导体照明技术标准工作组成员单位、国内外半导体照明产业上下游厂商、研究机构的代表近400人出席了大会。
  • 半导体异质结隧穿电子调控机制研究取得进展
    中科院上海技物所红外科学与技术重点实验室胡伟达、苗金水团队与宾州大学德普贾瑞拉教授合作,通过耦合局域场调控二维原子晶体能带,实现硒族半导体/硅半导体异质结隧穿电子的有效操控,为混合维度异质结构在高性能电子与光电子器件研制方面提供了理论与实验基础。相关成果于2022年10月28日以“Heterojunction tunnel triodes based on two-dimensional metal selenide and three-dimensional silicon”为题发表在国际期刊《自然电子学》(Nature Electronics)杂志。半导体中电子的输运(漂移、扩散、隧穿等)对电子与光电子器件有着重要的影响。近年来,二维原子晶体因其外场可调的物理性质,为突破电子与光电子器件的性能极限提供了机遇。然而,二维/三维异质结器件中电子的产生与复合、隧穿等动力学过程以及外场调控机制尚不清晰,多功能器件的研制有待进一步发展。针对上述问题,上海技物所研究团队利用二维原子晶体无表面悬挂键以及能带结构易受局域场调控的物理特性,研究了二维硒族原子晶体与硅半导体异质结中隧穿电子在栅极电压与漏极电压协同调控下的输运行为。通过电容耦合的局域电场操控半导体异质结的能带结构,实现了电子band-to-band隧穿效率的有效操控,并成功观测到负微分电导与齐纳击穿现象。基于二维/三维异质结构的器件,实现了6.4mV/decade的极低亚阈值摆幅以及高的电流开关比(106)。苗金水研究员为该论文的第一兼通讯作者、德普贾瑞拉为共同通讯作者。

半导体光电子器相关的方案

  • 微波消解半导体薄膜材料
    半导体膜是指由半导体材料形成的薄膜。随着制备半导体薄膜的技术不同,在结构上可分为单晶,多晶和无定形薄膜。半导体材料是微电子和光电子器件的主要材料,特别是大规模集成电路芯片上元件的集成度越来越高,元件的尺寸越来越小,半导体薄膜是构成这类器件的基本材料 。我们选择一种半导体薄膜材料,探索最适合的消解参数,有利于后续对多种无机元素的快速准确测定。
  • 微波消解半导体薄膜材料
    半导体膜是指由半导体材料形成的薄膜。随着制备半导体薄膜的技术不同,在结构上可分为单晶,多晶和无定形薄膜。半导体材料是微电子和光电子器件的主要材料,特别是大规模集成电路芯片上元件的集成度越来越高,元件的尺寸越来越小,半导体薄膜是构成这类器件的基本材料 。我们选择一种半导体薄膜材料,探索最适合的消解参数,有利于后续对多种无机元素的快速准确测定。
  • 半导体中简并电子气稳定的电子激发
    半导体和绝缘体中的激子由费米子系统、电子和空穴组成,它们的吸引相互作用促进了具有准玻色子性质的束缚准粒子。在存在简并电子气的情况下,这种激子由于自由载流子屏蔽而离解。尽管它们不存在,但我们在高达100℃的体锗掺杂GaN的带下边缘区域发现了明显的发射痕迹 K、 模拟高自由电子浓度下的清晰光谱特征(3.4E19–8.9E19 cm−3)。我们对数据的解释表明,简并的三维电子气稳定了一类新的准粒子,我们将其命名为collexon。这些多粒子配合物是通过与费米气体交换电子而形成的。由于掺杂剂几乎理想地取代了主体原子,因此高晶体质量使得能够观察到collexon的潜力及其随着掺杂浓度的上升而稳定化。

半导体光电子器相关的资料

半导体光电子器相关的试剂

半导体光电子器相关的论坛

  • 【转帖】2010年全国半导体照明电子行业标准发布及宣贯大会

    为宣传和贯彻获准发布的9项半导体照明行业标准,中国电子技术标准化研究所、工业和信息化部半导体照明技术标准工作组定于2010年1月24-25日在广东省江门市举行2010年全国半导体照明电子行业标准发布及宣贯大会。本次大会得到工业和信息化部、广东省经济和信息化委员会、江门市人民政府及国内外上中下游厂商的大力支持。出席本次大会的领导有工业与信息化部科技司韩俊副司长、电子信息司丁文武副司长、关白玉副巡视员、广东省经济和信息化委员会彭平副主任,中国电子技术标准化研究所张宏图副所长、江门市人民政府常务副市长吴紫骊、副市长易中强等领导,共汇集了国内外上中下游重要厂商、研究机构、行业协会以及政府机构等代表400多人报名参会。 此次大会发布的标准包括《SJ/T 11393-2009 半导体光电子器件功率发光二极管空白详细规范》、《SJ/T 11394-2009半导体发光二极管测试方法》、《SJ/T 11396-2009 氮化镓基发光二极管用蓝宝石衬底片》、《SJ/T 11397-2009 半导体发光二极管用荧光粉》、《SJ/T 11398-2009 功率半导体发光二极管芯片技术规范》、《SJ/T 11399-2009半导体发光二极管芯片测试方法》、《SJ/T 11400-2009 半导体光电子器件小功率发光二极管空白详细规范》、《SJ/T 11401-2009半导体发光二极管产品系列型谱》以及《SJ/T 11395-2009半导体照明术语》共9项,涵盖LED材料、芯片、器件及相关检验测试方法等领域。 大会邀请了工业和信息化部半导体照明技术标准工作组各项标准起草专家分别对9项电子行业标准进行详细讲解,主要讲师包括中国光电协会副秘书长胡爱华、中电十三所张万生教授、浙大三色董事长牟同升、深圳淼浩总经理李明远、有研稀土研发主任庄卫东等,他们现场讲解标准的技术内容、测试方法操作时应注意的问题以及产品规范类标准编写实例等。

  • 【转帖】He-Ne激光器与半导体激光器

    半导体激光器又称激光二极管(LD),是二十世纪八十年代半导体物理发展的最新成果之一。导体激光器的优点是体积小、重量轻、可靠性高、使用寿命长、功耗低,此外半导体激光器是采用低电压恒流供电方式,电源故障率低、使用安全,维修成本低等。因此应用领域日益扩大。目前,半导体激光器的使用数量居所有激光器之首,某些重要的应用领域过去常用的其他激光器,已逐渐为半导体激光器所取代。它的应用领域包括光存储、激光打印、激光照排、激光测距、条码扫描、工业探测、测试测量仪器、激光显示、医疗仪器、军事、安防、野外探测、建筑类扫平及标线类仪器、激光水平尺及各种标线定位等。以前半导体激光器的缺点是激光性能受温度影响大,光束的发散角较大(一般在几度到20度之间),所以在方向性、单色性和相干性等方面较差.但随着科学技术的迅速发展,目前半导体激光器的的性能已经达到很高的水平,而且光束质量也有了很大的提高.以半导体激光器为核心的半导体光电子技术在21 世纪的信息社会中将取得更大的进展,发挥更大的作用。 在气体激光器中,最常见的是氦氖激光器。1960年在美国贝尔实验室里由伊朗物理学家贾万制成的。由于氦氖激光器发出的光束方向性和单色性好,光束发散角小,可以连续工作,所以这种激光器的应用领域也很广泛,是应用领域最多的激光器之一,主要用在全息照相的精密测量、准直定位上。He-Ne激光器的缺点是体积大,启动和运行电压高,电源复杂,维修成本高。

  • 【分享】半导体探测器

    【分享】半导体探测器

    半导体探测器(semiconductor detector)是以半导体材料为探测介质的辐射探测器。最通用的半导体材料是锗和硅,其基本原理与气体电离室相类似。半导体探测器发现较晚,1949年麦凯(K.G.McKay)首次用α 射线照射PN结二极管观察到输出信号。5O年代初由于晶体管问世后,晶体管电子学的发展促进了半导体技术的发展。半导体探测器有两个电极,加有一定的偏压。当入射粒子进入半导体探测器的灵敏区时,即产生电子-空穴对。在两极加上电压后,电荷载流子就向两极作漂移运动﹐收集电极上会感应出电荷,从而在外电路形成信号脉冲。但在半导体探测器中,入射粒子产生一个电子-空穴对所需消耗的平均能量为气体电离室产生一个离子对所需消耗的十分之一左右,因此半导体探测器比闪烁计数器和气体电离探测器的能量分辨率好得多。半导体探测器的灵敏区应是接近理想的半导体材料,而实际上一般的半导体材料都有较高的杂质浓度,必须对杂质进行补偿或提高半导体单晶的纯度。通常使用的半导体探测器主要有结型、面垒型、锂漂移型和高纯锗等几种类型(下图由左至右)。金硅面垒型探测器1958年首次出现,锂漂移型探测器60年代初研制成功,同轴型高纯锗(HPGe)探测器和高阻硅探测器等主要用于能量测量和时间的探测器陆续投入使用,半导体探测器得到迅速的发展和广泛应用。[img]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2009/12/200912291643_192752_1615922_3.jpg[/img]

半导体光电子器相关的耗材

  • 半导体激光器电源
    ?这款高功率半导体激光器电源,半导体激光器驱动电源是专业为高功率激光二极管或DPSSL而设计的激光二极管电源。半导体激光器电源,半导体激光器驱动电源,激光二极管电源可提供高达10A的电流,并具有Peltier半导体制冷的控制功能,紧凑设计,具有广阔的通用性。半导体激光器电源并提供LD保护功能,使得电流缓慢上升 (软启动功能),具有限制电流,限制温度以及过热保护的功能。领先的进口精密激光光学器件旗舰型服务商--孚光精仪!半导体激光器电源,半导体激光器驱动电源,激光二极管电源电源参数Laser diode current source current range0.4 to 10 ALaser diode current increment/decrement step0.004 ALaser diode voltage limit range1.5 to 3 VLaser diode voltage limit increment/decrement step0.001 VNTC (termoresistor) value @25degC10 kOhmTEC driver current (each channel)up to 4 AExternal power supply voltage100-240 V AC to +5 V DCInternal pulse generator frequencies (effective only on ALTx10A-2TEC-LCD-Modulation (OEM version))single shot - 1kHz - 2kHz - 5kHz - 10kHz, other upon requestDimensions126.7mm x 51mm x 18.5mm*******************************************************************LD current modulationAs optional accessoryModulation frequencyfrom Single Shot to 500kHzCurrent Rise/Fall timeExternal TTL trigger signal0-5 V
  • 半导体致冷器
    半导体致冷器(TE)也叫热电致冷器,是一种热泵,它的优点是没有滑动部件,应用在一些空间受到限制,可靠性要求高,无致冷剂污染的场合。半导体致冷器的工作运转是用直流电流,它既可致冷又可加热,通过改变直流电流的极性来决定在同一致冷器上实现致冷或加热,这个效果的产生就是通过热电的原理。 半导体致冷器是利用半导体材料的珀尔帖效应制成的。所谓珀尔帖效应,是指当直流电流通过两种半导体材料组成的电偶时,其一端吸热,一端放热的现象。重掺杂的N型和P型的碲化铋主要用作TEC的半导体材料,碲化铋元件采用电串联,并且是并行发热。TEC包括一些P型和N型对(组),它们通过电极连在一起,并且夹在两个陶瓷电极之间;TEC组件每一侧的陶瓷电极的作用是防止由TEC电路引起的激光器管芯的短路;TEC的控制温度可达30℃-40℃,当有电流从TEC流过时,电流产生的热量会从TEC的一侧传到另一侧,在TEC上产生&Prime 热&Prime 侧和&Prime 冷&Prime 侧,这就是TEC的加热与致冷原理。是致冷还是加热,以及致冷、加热的速率,由通过它的电流方向和大小来决定。在实际应用中,TEC通常安装在热沉和组件外壳之间。其冷侧与激光器芯接触,起到致冷作用,它的热侧与散热片接触,把热量散到外部去,这也只是一种最普遍的情况。在对激光器工作温度的稳定性要求较高的场所,一般都采用双向温控,即在常温和高温时对激光器制冷,在低温环境中则制热;半导体致冷器在电流方向逆转时,原来的冷端和热端的位置就互换;则贴近激光器芯的一则就变成了热端,对激光器芯加热。
  • 佰氟达半导体清洗机配件PFA焊接三通管接头
    半导体清洗机作为现代电子制造工业中不可或缺的重要设备,其性能的稳定性和精度的准确性直接影响着半导体产品的质量和生产效率。在半导体清洗机的构造中,配件的选择与安装尤为重要,其中PFA焊接三通管接头便是关键的一环。  PFA,作为一种性能卓越的氟塑料材料,具有优异的耐腐蚀性、耐高温性以及良好的机械强度,因此在半导体清洗机中得到了广泛应用。特别是在需要承受高温、高压以及强腐蚀性液体的环境下,PFA材料展现出了其独特的优势。  PFA焊接三通管接头在半导体清洗机中扮演着重要的角色。它不仅连接着清洗机的各个部件,还承担着传输清洗液、保证清洗效果的重要任务。因此,对于PFA焊接三通管接头的品质要求极高,必须确保其具有良好的密封性和稳定性。  在制造过程中,我们采用先进的焊接技术,确保PFA材料在焊接过程中不会出现变形、开裂等问题,从而保证了接头的强度和稳定性。同时,我们还对焊接后的接头进行严格的质量检测,确保其符合相关标准和要求。  随着半导体行业的不断发展,对于半导体清洗机的要求也在不断提高。作为半导体清洗机配件的供应商,我们将继续致力于研发更加先进、更加稳定的PFA焊接三通管接头,为半导体行业的发展提供有力的支持。我们相信,在不久的将来,我们的产品将会在半导体清洗机领域发挥更加重要的作用。
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