为您推荐相似的其它光学测量仪
高速版无掩膜光刻机TTT-07-UV Litho-S+是一款先进的光刻设备,其在半导体制造、微纳加工等领域具有广泛的应用。高速版无掩膜光刻机-TTT-07-UV Litho-S+无掩膜光刻机亮点:
1. 特征尺寸0.5μm:TTT-07-UV Litho-S+无掩膜光刻机具备极高的刻蚀精度,可以达到0.5微米的特征尺寸。这一精度满足当前半导体行业对于精细图案加工的要求,适用于高精度电路的制造。
2. 8英寸光刻面积:该设备支持最大8英寸(200mm)的晶圆尺寸,适用于大规模生产,同时也能够满足中小规模研发实验的需求。大尺寸的光刻面积不仅提高了生产效率,也增加了光刻机适用范围的灵活性。
3. 支持扫描/步进双模式:TTT-07-UV Litho-S+无掩膜光刻机采用了创新的设计,支持扫描和步进两种工作模式。扫描模式能够在晶圆上快速实现大面积图案的曝光,而步进模式则适用于精确控制的小区域曝光。双模式的结合使得光刻机在保证加工速度的同时,也能够保持高精度。
4. 无掩膜技术:区别于传统的光刻技术,TTT-07-UV Litho-S+采用无掩膜光刻技术,省去了掩膜板的制作环节,大大缩短了工艺流程,降低了成本。同时,无掩膜光刻技术允许实时调整设计图案,提高了生产制造的灵活性。
高速版无掩膜光刻机TTT-07-UV Litho-S+采用紫外光源,该光源的短波长特性能够实现更精细的图案曝光,适合高密度集成电路的制造。高速版的设计理念在于提升生产效率,TTT-07-UV Litho-S+通过优化机械结构和控制系统,大幅提高了光刻速度,减少了加工时间,提升了产能。设备配备了直观易操作的用户界面,使得操作者能够轻松设定参数,监控设备状态,及时调整工艺流程,保证了光刻过程的顺利进行。高速版无掩膜光刻机TTT-07-UV Litho-S+具备高度自动化功能,从晶圆装载到曝光再到卸载,整个过程可以实现自动化操作,减少了人工干预,提高了生产的一致性和可靠性。
TTT-07-UV Litho-S+无掩膜光刻机的推出,不仅代表了半导体加工设备领域的技术进步,也为我国半导体产业的发展提供了有力的技术支持。
产品货期: 180天
整机质保期: 1年
培训服务: 安装调试现场免费培训
最多添加5台