PLASSYS 超高真空多腔体电子束蒸镀系统

超高真空多腔体电子束蒸镀系统（MEB 550SL3）

磁控溅射、电子束蒸镀、超高真空、镀膜、约瑟夫森结、超导、量子器件、量子比特、

多腔体、Qubit、UHV、铌基超导、氮化铌、钛氮化铌、NbTiN、NbN、sputtering system

Evaporation system、Nb-based superconductor、超导铝结、Josephson junction

型号：MEB 550SL3      产地：欧洲       应用：约瑟夫森结（Al, Nb, NbN, NbTiN）

超高真空多腔体电子束蒸发镀膜仪

电子束蒸镀仪是纳米器件制备中必不可少的仪器，用于蒸镀各种高纯金属薄膜，如Ti, Au, Ni, Cr, Al, Al2O3等。电子束蒸发沉积法可在同一蒸发沉积装置中安装多个坩埚，使得可以蒸发和沉积多种不同的高质量金属薄膜。开展量子计算机实验研究，如基于金刚石NV色心，离子阱，超导量子结，量子点电子自旋的研究，均需要蒸镀各种高质量金属薄膜来制备量子器件，特别是在利用超导量子结来实现量子计算的实验研究中，Josephson结的制备最为关键：需要在非常干净的蒸镀腔里进行，而且需要在不同的角度上蒸镀两次，两次之间需要注入氧气进行金属氧化。所以样品台必须具有三维的旋转功能，同时，蒸镀腔内还需要有可以注射氧气及其他气体来实现清洁和氧化过程。

推荐配置：可以用于沉积Ti, Ni, Au, Cr, Al, Al2O3等金属及氧化物薄膜，目前全球主要超导量子实验室均使用该设备制备超导Al结（量子比特和约瑟夫森结）和量子器件，可以制备大面积、高度稳定性和可重复性超导结。更详细信息或资料，请咨询我们！

预处理腔：衬底旋转、倾斜（3D）；干泵+ 分子泵; 真空度10-8 T

蒸发镀膜腔：电子枪6-15KW；

样品台：可加载4英寸衬底；

               衬底可加热到800℃

               衬底旋转、倾斜，

               倾斜精度和重复性优于0.1°（可升级）

真空泵系统：干泵 + 低温泵；

                       真空度10-10T或10-11T

膜厚控制仪：频率分辨率10-4Hz或更高；

                      速率分辨率10-3nm/s；

                      厚度分辨率10-2nm

残余气体分析仪

反应蒸镀：氧气气路+MFC 

氧化腔体：静态/动态氧化

                  臭氧发生器/原子氧发生源/辉光放电；

                  卤素灯加热至最高200℃

                   残余气体分析仪

分子泵 + 干泵；真空度<10-8 T

全自动软件包，支持半自动和手动模式，支持远程网络操作和维护。

典型用户：耶鲁大学、日本NTT、中科院物理所、中科大、南大、南方科技大学