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8英寸等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备
系统特性
可提供基于硅烷（SiH4）体系的薄膜沉积方案，还可选正硅酸乙酯（TEOS）体系的沉积方案
可提供双频设备，使氮化硅（SiNx）的应力可调，范围从压应力-1.6GPa到张应力+0.7GPa
可提供n/p型掺杂，满足磷硅玻璃（PSG）和硼磷硅玻璃（BPSG）等掺杂氧化硅工艺的需求
8/6英寸兼容
Shale® A系列等离子体增强化学气相沉积设备（PECVD），通过平行电容板电场放电产生等离子体，可以在400℃及以下沉积比较致密、均匀性较好的氧化硅、TEOS、BPSG、氮化硅、氮氧化硅、非晶硅、非晶碳、非晶碳化硅等薄膜。该设备采用了8英寸产线设备所通用的国际标准零部件，符合SEMI的设计标准，并通过了严苛的稳定性和可靠性测试验证。
产品货期: 60天
整机质保期: 1年
培训服务: 安装调试现场免费培训
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化学气相沉积（CVD）Shale® A 系列的使用方法?
鲁玟Shale® A 系列多少钱一台?
化学气相沉积（CVD）Shale® A 系列可以检测什么？
化学气相沉积（CVD）Shale® A 系列使用的注意事项？
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鲁玟化学气相沉积（CVD）Shale® A 系列的操作规程有吗？
鲁玟化学气相沉积（CVD）Shale® A 系列报价含票含运吗？
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