Bruker椭偏仪 FilmTek 6000 PAR-SE
Bruker椭偏仪 FilmTek 6000 PAR-SE

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布鲁克

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FilmTek 6000 PAR-SE

--

欧洲

  • 白金
  • 第11年
  • 一般经销商
  • 营业执照已审核
400-816-7838
核心参数

产地类别: 进口

光谱范围: 190 nm - 1700 nm

单次测量时间: 2秒

样品尺寸: 50 µm

  • 膜厚范围: 0 Å to 150 µm

Bruker椭偏仪 FilmTek 6000 PAR-SE

——用于IC器件开发和制造的多模薄膜计量学



想了解相关产品,可联系上海尔迪仪器科技有限公司,拨打电话021-61552797


FilmTek™ 6000标准杆数-SE先进的多模薄膜计量系统在1x nm设计节点和更高的位置为广泛的薄膜层提供生产验证的薄膜厚度、折射率和应力测量监测。该系统能够在新一代集成电路的生产过程中实现更严格的过程控制,提高器件产量,并支持下一代节点技术的开发。


制造1x nm的先进IC器件需要使用高度均匀的复合膜。能够监测非常薄的薄膜的计量工具,通常在多层膜堆叠中(例如,高k和氧化物-氮化物-氧化物膜),使制造商能够保持对膜构建过程的严格控制。此外,一些工艺,如多重图案化,会导致薄膜厚度的梯度,必须对其进行监控,以获得佳器件性能(例如,注入损伤和低k薄膜)。不幸的是,现有的计量工具依赖于传统的椭偏测量或反射测量技术,其检测这些应用的薄膜梯度变化的能力有限。


为了克服这些挑战,FilmTek 6000标准杆数-SE将光谱椭圆偏振仪和DUV多角度极化反射仪与宽光谱范围相结合,以满足与多图案和其他前沿器件制造技术相关的需求。该系统采用我们多角度差分偏振(MADP)和差分功率谱密度(DPSD)技术,可独立测量薄膜厚度和折射率,显著提高其对薄膜变化的灵敏度,尤其是多层堆叠中的变化。这种组合方法对于用于复杂器件结构的超薄和厚膜叠层都是理想的。


技术规格


膜厚范围0 Å to 150 µm
膜厚精度±1.0 Å for NIST traceable standard oxide 100 Å to 1 µm
光谱范围190 nm - 1700 nm (220 nm - 1000 nm is standard)
光斑尺寸的测量50 µm
样本量2 mm - 300 mm (150 mm standard)
光谱分辨率0.3 nm - 2nm
光源Regulated deuterium-halogen lamp (2,000 hrs lifetime)
探测器类型2048 pixel Sony linear CCD array / 512 pixel cooled Hamamatsu InGaAs CCD array (NIR)
ComputerMulti-core processor with Windows™ 10 Operating System
测量时间~2 sec per site (e.g., oxide film)

 

性能规格


Film(s)  厚 测量参数精确 ()
氧化物/硅0 - 1000 Åt0.03 Å
1000 - 500,000 Å         t0.005%
1000 Åt , n0.2 Å / 0.0001
15,000 Åt , n0.5 Å / 0.0001
150.000 Åt , n1.5 Å / 0.00001
氮化物/硅200 - 10,000 Åt0.02%
500 - 10,000 Åt , n0.05% / 0.0005
光致抗蚀剂/硅200 - 10,000 Åt0.02%
500 - 10,000 Åt , n0.05% / 0.0002
多晶硅 / 氧化物/硅200 - 10,000 ÅPoly , t Oxide        0.2 Å / 0.1 Å
500 - 10,000 ÅPoly , t Oxide0.2 Å / 0.0005


售后服务承诺

保修期: 1年

是否可延长保修期:

现场技术咨询:

免费培训: 现场操作培训

免费仪器保养: 1年1次

保内维修承诺: 免费更换部件,玻璃制品和耗材除外

报修承诺: 24~48小时到达现场进行维修

  • ——多模态临界尺寸测量和薄膜计量学 FilmTekTM CD光学临界尺寸系统是我们解决方案,可用于1x nm设计节点及更高级别的全自动化、高通量CD测量和高级薄膜分析。该系统同时提供已知和完全未知结构的实时多层堆叠特性和CD测量。

    11MB 2022-09-13
  • 椭偏仪是一种用于探测薄膜厚度、光学常数以及材料微结构的光学测量仪器。

    12MB 2022-08-22
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