看了椭偏仪的用户又看了
仪器描述
特点:
· 易于安装
· 基于视窗结构的软件,很容易操作
· 先进的光学设计,以确保能发挥出zei佳的系统性能
· 能够自动的以0.01度的分辨率改变入射角度
· 高功率的DUV-VIS光源,能够应用在很宽的波段内
· 基于阵列设计的探测器系统,以确保快速测量
· zei多可测量12层薄膜的厚度及折射率
· 能够用于实时或在线的监控光谱、厚度及折射率等参数
· 系统配备大量的光学常数数据及数据库
· 对于每个被测薄膜样品,用户可以利用先进的TFProbe3.0软件功能选择使用NK数据库、也可以进行色散或者复合模型(EMA)测量分析;
· 三种不同水平的用户控制模式:专家模式、系统服务模式及初级用户模式
· 灵活的专家模式可用于各种独特的设置和光学模型测试
· 健全的一键按钮(Turn-key)对于快速和日常的测量提供了很好的解决方案
· 用户可根据自己的喜好及操作习惯来配置参数的测量
· 系统有着全自动的计算功能及初始化功能
· 无需外部的光学器件,系统从样品测量信号中,直接就可以对样品进行准确的校准
· 可京密的调节高度及倾斜度
· 能够应用于测量不同厚度、不同类型的基片
· 各种方案及附件可用于诸如平面成像、测量波长扩展、焦斑测量等各种特殊的需求
· 2D和3D的图形输出和友好的用户数据管理界面。
系统配置:
· 型号:SE200BM-M300
· 探测器:阵列探测器
· 光源:高功率的DUV-Vis-NIR复合光源
· 指示角度变化:手动调节
· 平台:ρ-θ配置的自动成像
· 软件:TFProbe 3.2版本的软件
· 计算机:Inter双核处理器、19”宽屏LCD显示器
· 电源:110–240V AC/50-60Hz,6A
· 保修:一年的整机及零备件保修
规格:
· 波长范围:250nm到1000 nm
· 波长分辨率: 1nm
· 光斑尺寸:1mm至5mm可变
· 入射角范围:0到90度
· 入射角变化分辨率:5度 间隔
· 样品尺寸:zei大直径为300mm
· 基板尺寸:zei多可至20毫米厚
· 测量厚度范围*:0nm?10μm
· 测量时间:约1秒/位置点
· 准确度*:优于0.25%
· 重复性误差*:小于1 ?
选项:
· 用于反射的光度测量或透射测量
· 用于测量小区域的微小光斑
· 用于改变入射角度的自动量角器
· X-Y成像平台(X-Y模式,取代ρ-θ模式)
· 加热/致冷平台
· 样品垂直安装角度计
· 波长可扩展到远DUV或IR范围
· 扫描单色仪的配置
· 联合MSP的数字成像功能,可用于对样品的图像进行测量
应用:
· 半导体制造(PR,Oxide, Nitride..)
· 液晶显示(ITO,PR,Cell gap... ..)
· 医学,生物薄膜及材料领域等
· 油墨,矿物学,颜料,调色剂等
· 医药,中间设备
· 光学涂层,TiO2, SiO2, Ta2O5... ..
· 半导体化合物
· 在MEMS/MOEMS系统上的功能性薄膜
· 非晶体,那米材料和结晶硅
保修期: 6个月
是否可延长保修期: 否
现场技术咨询: 有
免费培训: 以需求定制服务
免费仪器保养: 以需求定制服务
保内维修承诺: 非人为损坏免费维修,零件另算
报修承诺: 72小时上门安装维修
最多添加5台