康宁7980上镀Si3N4
康宁7980上镀Si3N4

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康宁7980上镀Si3N4

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美洲

  • 金牌
  • 第12年
  • 一般经销商
  • 营业执照已审核
核心参数

 

产品名称:

康宁7980上镀Si3N4Silicon Nitride Film (LPCVD) on Corning 7980

 

产品简介:

The Si3N4 film may have stressed induced micro-cracking resulted from the large difference of thermal expansion coefficient between Si3N4 and SiO2 fused silica

 

技术参数:

Si3N4薄膜:镀膜方法:low stress LPCVD method低压力化学气相沉积法膜层厚度:1.3um  +/- 5%镀膜情况:双面镀膜UV级石英 UV Grade Fused Silica (Corning 0F 7980 HPFS):常规尺寸:dia100.0 (±0.20) mm x 0.5 (± 0.10) mm边缘:CNC Ground表面质量:60/40 失效区域: 2.0 mm borderTTV:< 20 microns抛光情况:双面抛光(60/40)

 

产品规格:

dia100x0.5mm;10x5x0.5mm10x10x0.5mm

标准包装:

1000级超净室100级超净袋或单片盒包装

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