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技术参数： | Cu<111>参数：100nm400nm(highly?oriented?poly-crystalline?Cu) Ta厚度：20-50nm （Ta diffusion barrier） Si/SiO2参数：<100> P型掺B；300nmSiO2；R:1-20ohm-cm;单抛Si/SiO2尺寸：dia 4inch x 0.525mm 表面粗糙度：As grown
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产品尺寸： | dia4 inch or 10x10mm
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标准包装： | 1000级超净室100级超净袋真空包装或单片盒 |
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