Plasmionique公司是一家为薄膜工艺，先进表面工程和先进材料合成等科技领域提供前沿技术的设备制造商，其主要优势集中在离子体、激光和真空设备的设计和制造，尤其对结构复杂的定制设备的设计整合与制造有着到的经验。
腔体： D-型，内径可选范围：深14英寸，高~20英寸，通常腔体材料为304不锈钢，内壁电解法抛光。包括衬底便于简便保养。差别式抽气双密封大铝合金门带观察窗。
腔体接口：可选快速连接接口，立电控送样腔。在抽气、仪表、观察窗预留接口之外，可以根据用户要求添加其他用于诊断检测的接口。
磁电管阴：三个2英寸电磁管包括1个300W拥有自动匹配功能的射频电源，并配备防污染罩和遮蔽器。电源开关允许在不同电磁管之间切换。
基体控制：基体底座可旋转，确保直径在6英寸（面积182cm
2）以内的基体上，沉积薄膜均度 <+/-5%: 2英寸（面积81cm
2）基体，+/-1%。基体底座可以适应不同形状基体。基体底座可选加热配件，在600
oC以内控温，可选加直流或射频偏压，并由电脑监控。
厚度控制：系统包括用于检测膜厚的石英微天平系统
。
抽气系统：涡轮分子泵，加上2机械泵，并有捕雾器。300L/s，背景真空度达1*10
-7Torr，抽气30分钟内，真空度达10
-6Torr。
真空仪表：全套气压表，可选用于工艺控制的电容表。
气压控制：节流阀，用户要求数目的气流控制器，控制沉积过程中的气压，气体比例。
气流控制：2个电子控制的流量控制器。气体混合和气体注入可以通过人工或电动气动阀完成。
温度控制：可选600
oC以下温度通过PID控制器控制加热底座。
控制系统：电脑控制系统与设备高度整合，用户可以手动操作，或全自动化运行。自动运行过程中，用户也可以打断进程进行调整。WATCHDOG控制器监控设备与电脑之间的数据交流，可在由于电脑死机造成实验中断时向用户报警。系统同时包括远程遥控部件。石英微平衡厚度监测仪，准确监测薄膜厚度变化。
我公司还提供plasmionique其他真空等离子系统的系列产品，包括：
FLARION 系列：射频-等离子体增强化学气相沉积系统（RF-PECVD reactors）
MIRENIQUE 系列：微波-等离子体化学气相沉积系统（MW-PECVD reactors）
GLAZE 系列：脉冲激光沉积系统 （Pulsed Laser Deposition systems）
PARADIS 系列：真空聚合物沉积系统Vacuum Polymer Deposition system
FLOCON 系列：电脑控制气体管理系统 （computer controlled gas management systems）
此外，Plasmionique公司还可以定制：
电子束沉积系统（E-beam Deposition Systems）
混合沉积系统（Hybrid Deposition Reactors）
等离子 离子注入系统 （Plasma Ion Implanter）
分子束外延系统 （MBE Systems）
等离子、反应离子、深反应离子蚀刻反应器（PE, RIE. DRIE Reactors）
如对真空等离子制备系统有需求，请与本公司联系。
