直播预告！第二届半导体工艺与检测技术网络会议之光刻与刻蚀技术

仪器信息网讯 半导体产业作为现代信息技术产业的基础，已成为社会发展和国民经济的基础性、战略性和先导性产业，是现代日常生活和未来科技进步必不可少的重要组成部分。当前，全球半导体科技和产业的竞争愈演愈烈，各国围绕提升半导体领域竞争力，相继出台了一系列政策举措。

半导体行业归根结底属于设备类行业，行业内素有“一代设备，一代工艺，一代产品”的说法。SEMI在SEMICON Japan 2022上发布了《2022年度总半导体设备预测报告》。报告指出，原设备制造商的半导体制造设备全球总销售额预计将在2022年创下1085亿美元的新高，连续三年创纪录，较2021创下的1025亿美元行业纪录增长5.9％。

在整个制造工艺流程中，光刻和刻蚀工艺的投资最大、研发难度和技术水平最高，对应的光刻机和蚀刻机也是半导体制造中最重要的关键设备之一。针对于此，仪器信息网与电子工业出版社联合组织于5月10日-11日召开的第二届“半导体工艺与检测技术”主题网络研讨会设置了“光刻与刻蚀及其检测技术”专场，依托成熟的网络会议平台，为半导体产业从事研发、教学、生产的工作人员提供一个突破时间地域限制的免费学习、交流平台，让大家足不出户便能聆听到精彩的报告。

本次会议免费参会，报名链接：https://www.instrument.com.cn/webinar/meetings/Semicon2023/

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光刻与刻蚀及其检测技术专场会议日程：

嘉宾介绍:

中国科学院光电技术研究所 研究室主任/研究员 胡松

胡松，博士，研究员，四川省有突出贡献优秀专家，四川省学术技术带头人后备人选，博士导师，2000—2016年光电技术研究所微电子装备及生物芯片仪器研究室主任，国家专家库专家、国家02专项调研组和指南编写组专家、集成电路测试仪器与装备产业技术创新联盟专家咨询委专家，四川省重大仪器设备专家组专家，全国半导体设备和材料标准化技术委员会微光刻分会副主任，全国光电测量标委会委员，中国仪器仪表学会精密机械分会理事,中国电子工业专用设备行业协会理事。 一直从事微细光学技术与专用设备研制工作。先后承担并完成三十多项国家科技攻关、中科院重大项目、国家“863”项目、国家重大科技专项、国家重大仪器装备专项、国家自然科学基金、四川省科技攻关等。获国家科技进步三等奖两项，中科院科技进步二等奖、三等奖各一项，四川省科技进步二等奖一项、三等奖二项。近年来以副总师完成国家重大仪器装备专项项目—超分辨光刻装置研制、以项目技术首席和课题负责人完成国家02专项课题—EUV极紫外光刻真空及机械系统、以项目副总师完成国家02专项项目—NA0.75ArF曝光光学系统α样机研制。主持研发单面和双面深度曝光机、无掩模光刻机、投影光刻机、纳米压印光刻机、精密工件台、生物芯片仪器等，销售超1000台（出口50多台），为我国微细加工行业的技术进步发挥了较大作用，结束芯片设备与仪器完全依赖进口且受制于人的历史。发表科技论文150余篇，作为副主编出版专著一本，授权专利50余项，指导并毕业博士生20余名、硕士生10余名。2015年被评为四川省劳动模范，或国务院政府津贴，多次被评为中科院院、分院及研究所先进工作者、优秀导师和标兵。

【摘要】广义芯片包括集成电路在内所有由光刻技术制造具体一定功能和集成度的系统，如第二代第三代化合半导体，传感器（应变，光栅，光电探测器，气体传感器等），显示器件，生物芯片，发光器件，MEMS，微光学元件，分立电子器件，通迅器件等。这些广义芯片基底种类有金属、玻璃、化合物、高分子薄膜、陶瓷等，基底尺寸变化很大，光刻工艺持殊（有的要求深曝光，有的要求3D光刻，有的要求双面套刻，有的要求边缘套刻等等）。报告重点介绍针对特种广义芯片的解决方案。

海洋光学 资深技术&应用专家 卢坤俊

现任海洋光学亚洲公司应用工程师主管，南京农业大学生物工程本科专业，应用化学硕士学位。主要负责光谱仪相关产品的技术支持与光谱解决方案的应用开发工作，有着10年以上的环境、智能农业、化工、消费电子、半导体及生命科学领域的光谱应用背景。

【摘要】 介绍海洋光学公司及工业客户合作模式，并分享海洋光学微型光谱仪在半导体膜厚测量，CMP过程膜厚测量， PECVD过程监控，Plasma Etching终点指示以及 Plasma Cleaning过程监控中的原理及应用。

中国科学院光电技术研究所 副研究员 刘俊伯

刘俊伯，博士，中科院光电技术研究所微电子装备总体实验室，副研究员，硕士生导师，主要从事投影光刻装备相关核心技术研究。2017 年入选西部之光人才计划，2020 年入选中国科学院青年创新促进会，获创新基金计划资助。 承担或参与国家重大科研仪器装备项目、02专项、国家重点研发计划、国家自然科学基金、四川省应用基础研究、四川省融合类研究项目等项目，重点开展光刻机投影光刻曝光系统、综合像质原位测试、全链路逆优化仿真模型等核心技术研究，在OPT EXPRESS、OPT LASER ENG 等SCI 期刊上发表论文20余篇，获发明专利授20余项。 组织团队成功研制UVSTEP系列化投影光刻装备，在军民领域实现多台套上线应用，获首届中国光学工程学会“金燧奖”。特别在压力敏传感器领域，该型投影光刻设备打破国外光刻装备“卡脖子”现状，产生较好的社会、经济效益。

中国科学院物理研究所 副主任工程师 张忠山

2016于苏州大学获博士学位，2016年-2018年中国科学院声学研究所博士后，现任中国科学院物理研究所副主任工程师，负责综合极端条件实验装置微纳加工平台运行 。发表文章14篇，授权专利15项。2018年入选中国科学院物理研究所“引进国外杰出人才”计划中的“关键技术人才”。正在主持国家自然科学基金项目一项，负责科学院仪器设备功能开发技术创新项目一项；除此之外，参与多项国家重大项目。