化学机械抛光机（CMP）_报价-深圳市矢量科学仪器有限公司

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深圳市矢量科学仪器有限公司

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全部湿法腐蚀/刻蚀设备湿法清洗设备化学机械抛光机（CMP）电镀设备

品牌：

全部英思特鲁汶韩国真空 Formfactor 特思迪 ADT Beneq RIBER 北方华创响河珞佳智能博捷芯 ficonTEC 天仁微纳 G&P F&S Angstrom 沈阳科仪华卓精科矢量科学智程梦启托托至纯 Scienta Omicron TRESKY 德国SENTECH 米开罗那尼普洛 ERS 芯源泉一爱思强日本佳能德国苏斯 SAMCO 布鲁克日本理学 ELIONIX INC. 克吕士是德科技雷博科仪 TRY 德国海德堡 MCF 托普斯 CIF PVA Tepla Coherent Solutions Fischione MPI 诺信 NIKON 基恩士科特莱思科 HORIBA 尤尼坦蔡司 Laurell 标乐爱斯佩克 PhysTech 复享光学 PVD ECOPIA 爱发科铠柏赛默飞 YXLON SONIX Akrometrix 牛津仪器日立日本电子 VEECO 小坂研究所 Raith MTS KOSAKA

核心参数：

CMP抛光机

品牌：特思迪

型号： POLI-762

产地：北京

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CMP抛光机

品牌：特思迪

型号： POLI-500

产地：北京

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cmp抛光机

品牌：特思迪

型号： POLI-400L

产地：北京

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半自动CMP抛光机

品牌：特思迪

型号： TMP-200S/300S

产地：北京

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CMP抛光机

品牌：特思迪

型号： TMP-150A/200A

产地：北京

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CMP

品牌： G&P

型号： GNP POLI-PCB系列

产地：韩国

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CMP

品牌： G&P

型号： GNP POLI-610

产地：韩国

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CMP后清洗机

品牌： G&P

型号： GNP CEANER-412S

产地：韩国

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CMP后清洗机

品牌： G&P

型号： GNP CLEANER-412R

产地：韩国

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CMP后清洗机

品牌： G&P

型号： GNP CLEANER-428L

产地：韩国

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CMP后清洗机

品牌： G&P

型号： GNP CLEANER-812L

产地：韩国

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CMP

品牌： G&P

型号： GNP POLI系列

产地：韩国

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全自动CMP晶圆清洗一体机

品牌： G&P

型号： GNP GPC-300A

产地：韩国

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半导体研磨抛光机

品牌： MCF

型号： customized-21

产地：德国

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