净化型匀胶机

净化型匀胶机广泛用于半导体硅片的匀胶镀膜等，例如对大型晶圆、芯片、晶片等进行工艺制版时，可用此设备进行各种胶体的表面涂覆或光刻工艺匀胶；是集成电路及半导体器件生产过程中涂覆匀胶的专用设备 。该设备中涂胶部分含有两个工位的匀胶台，可分别独立工作，也可两台同时工作。

设备特点：

1、带有100级空气净化装置，可有效除去匀胶台周围空气中的污染微尘，防止

   匀胶过程中的杂质污染。

2、 设置有LED照明灯，可程控照明，非常方便日常操作。

3、可设置时间--转速曲线，程序控制匀胶工艺

4、7英寸液晶显示屏，操作简单易学无需专业学习

 主要技术参数：

匀胶时间：1-99秒 
匀胶转数：0-8000转/分 
净化效果：100级（美国联邦标准） 
操作区风速：0.3-0.5米/秒(有效操作区气流状态：垂直层流() 
适用于φ8mm-φ100mm晶体硅片及其它材料等匀胶 
外形尺寸：650x750x1620mm 
外体颜色：亚白色 
控制范围和精度：转速控制范围为：500-8000转，精度为±3% 
时间控制范围为：1-99秒，精度为±5% 
转速调整：采用PID调节，精度高。 
转速查看智能化：可自动识别哪个电机开或关，自动转换到开启的电机上。可予先选定，也可在运行中随时查看任一电机的转速。