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核心参数
产地类别: 国产
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双靶磁控溅射镀膜仪
双靶磁控溅射镀膜仪为我公司研发的配有两个靶位的小型实验室用镀膜仪,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜等。
磁控溅射相较于普通的等离子溅射拥有能量高速度快的优点,镀膜速率高,样品温升低,是典型的高速低温溅射。磁控靶配有水冷夹层,水冷机能够有效的带走热量,避免热量在靶面聚集,使磁控镀膜能长时间稳定工作。
与同类设备相比,这款双靶磁控溅射镀膜仪不仅应用广泛,且体积小便于操作,是一款实验室制备薄膜的理想设备。
技术参数:
项目
明细
供电电压
AC220V,50Hz
整机功率
3KW
极限真空度
10-6torr
载样台参数
尺寸
φ140mm
加热温度
最高500℃
控温精度
±1℃
转速技术参数:
1-20rpm可调
磁控溅射头参数
数量
2个2”磁控溅射头
冷却方式
水冷,所需流速10L/min
水冷机规格
16L/min流速的循环水冷机
真空腔体
腔体尺寸
φ300mm X 300mm H
腔体材料
不锈钢
观察窗口
φ100mm
开启方式
上顶开式,便于更换靶材
气体流量控制器
4路分别通N2,Ar,O2,空气;
量程均为0-500sccm
真空泵
配有一套分子泵系统,抽速600L/S
膜厚仪
石英振动薄膜测厚仪一台,分辨率0.10 ?
溅射电源
直流电源一台,500W,适用于制备金属膜
射频电源一台,300W,适用于非金属镀膜
操作方式
面板按钮操作
整机尺寸
1400mm X 750mm X 1300mm
整机重量
300kg
企业名称
郑州成越科学仪器有限公司
企业信息已认证
企业类型
信用代码
410199000051005(1-1)
成立日期
2013-07-17
注册资本
51
经营范围
分体式单靶磁控镀膜仪
净化型匀胶机
1500℃布里奇曼炉
高纯石英腔体小型蒸发镀膜仪 CY-EVP180G-LV
电子束蒸发镀膜仪
真空感应熔炼炉CY-SP-25VIM
真空感应熔炼炉CY-15VIMF
1200立式淬火炉
静电纺丝机
1200度高真空滑道炉
单靶等离子溅射镀膜仪
直流双靶磁控镀膜仪
高真空不锈钢腔体等离子溅射和蒸发二合一镀膜仪
三靶等离子溅射镀膜仪
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1200℃带超声雾化以及进料系统的立式管式炉
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