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核心参数
加热方式： 其它
应用领域： 半导体
产地类别： 进口
沉积速率： 见资料
沉积薄膜种类： 见资料
控制气体： 见资料
背底真空： 见资料
工作气压： 见资料
内部尺寸： 见资料
NPE-3500 PECVD等离子体化学气相沉积系统概述：NANO-MASTER PECVD系统能够沉积高质量的SiO2, Si3N4, 或DLC薄膜到最大可达12” 直径的基片上.该系统采用淋浴头电极或中空阴极射频等离子源来产生等离子，具有分形气流分布的优势.样品台可以通过RF或脉冲DC产生偏压。并可以支持加热和循环冷却水的冷却.使用250l/sec涡轮分子泵及3.5 cfm的机械泵，腔体可以达到低至10-7 torr的真空。标准配置包含1路惰性气体、3路活性气体管路和4个MFC.带有独一无二气体分布系统的平面中空阴极等离子源使得系统可以满足广大范围的要求，无论是等离子强度、均匀度，还是要分别激活某些活性组份，这样系统可以覆盖最广的可能性来获得各种沉积参数。
NPE-3500 PECVD等离子体化学气相沉积系统应用：
等离子诱导表面改性：就是通常所说的用等离子实现表面改性(如亲水性、疏水性等)
等离子清洗：去除有机污染物
等离子聚合：对材料表面产生聚合反应
沉积二氧化硅、氮化硅、DLC(类金刚石)，以及其它薄膜
CNT(碳纳米管)和石墨烯的选择性生长：在需要的位置生长CNT或石墨烯。
NPE-3500 PECVD等离子体化学气相沉积系统特点：
紧凑型独立式系统
不锈钢或铝制腔体
极限真空可达10-7Torr
RF淋浴头，HCD或微波等离子源
高达12”(300mm)直径的样品台
RF射频偏压样品台
水冷样品台
可加热到的800 °C样品台
加热的气体管路
加热的液体传送单元
抗腐蚀的涡轮分子泵组
1路载体气体以及3路反应气体，带MFC
基于LabView软件的PC计算机全自动控制
菜单驱动，4级密码访问保护
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企业名称
深圳市科时达电子科技有限公司
企业信息已认证
企业类型
信用代码
440300215081067
成立日期
2020-10-20
注册资本
100
经营范围
电子产品销售;光电子器件销售;半导体器件专用设备销售;第一类医疗器械销售;卫生用品和一次性使用医疗用品销售;国内贸易代理;技术服务、技术开发、技术咨询、技术交流、技术转让、技术推广。(除依法须经批准的项目外,凭营业执照依法自主开展经营活动),许可经营项目是:第二类医疗器械销售;货物进出口;技术进出口。
深圳市科时达电子科技有限公司
公司地址
深圳市光明区公明街道上村社区水贝北路大新华达工业园3号厂房203
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公司名称： 深圳市科时达电子科技有限公司
公司地址： 深圳市光明区公明街道上村社区水贝北路大新华达工业园3号厂房203 联系人： 林建军 邮编： 518127 联系电话： 400-860-5168转4967
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