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核心参数
加热方式： 其它
应用领域： 半导体
产地类别： 进口
沉积速率： 见资料
沉积薄膜种类： 见资料
控制气体： 见资料
背底真空： 见资料
工作气压： 见资料
内部尺寸： 见资料
PE-CVD解决方案
与典型CVD反应器相比，等离子体增强型化学气相沉积(PE-CVD)提供了一种可使用更低温度沉积各种薄膜的有效替代方案，同时不会降低薄膜质量。高质量的二氧化硅(SiO2)膜可以在300℃至350℃沉积，而CVD需要650℃至850℃的温度生产类似质量的镀膜。
PE-CVD使用电能产生辉光放电(等离子体)，其中能量转移到气体混合物中。这将气体混合物转化成反应性自由基、离子、中性原子和分子，以及其他高活性物质。在PE-CVD中，气相和表面反应受到等离子体性质的强烈控制。代替热活化，气体混合物的电子碰撞电离驱动气相反应，能够在比常规CVD工艺低得多的温度下进行沉积。 对于PE-CVD，沉积速率通常不是基片温度的强函数，表面活化能通常很小。然而，薄膜性质，例如，组成、应力和形态，通常是基片温度的强函数。
等离子体增强CVD的优点
PE-CVD镀膜的一些理想性能包括，良好的粘附性、低针孔密度、良好的保形性，以及平面和三维表面上的均匀性。 PE-CVD的实用性和灵活性在于，其能够在从硅片到汽车部件的各种基材上沉积高质量的镀膜。此外，等离子体增强CVD系统比常规CVD提供更低的拥有成本。
丹顿真空公司专门从事等离子增强CVD (PE-CVD)，沉积类金刚石(DLC)镀膜。DLC镀膜是一类无定形碳膜，表现出与金刚石相似的性能，例如，硬度、抗刮擦性和高导热性。此外，DLC镀膜由于其生物相容性、红外透明性和电绝缘性能，在商业方面极具价值。丹顿公司已经开发专有的能力，扩展DLC的特性范围，包括抗指纹和疏水性。
我们的 Voyager PE-CVD解决方案提供低温溅射，具有高度均匀性
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DENTONPE-CVD多少钱一台?
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DENTONPE-CVD有现货吗？
企业名称
深圳市科时达电子科技有限公司
企业信息已认证
企业类型
信用代码
440300215081067
成立日期
2020-10-20
注册资本
100
经营范围
电子产品销售;光电子器件销售;半导体器件专用设备销售;第一类医疗器械销售;卫生用品和一次性使用医疗用品销售;国内贸易代理;技术服务、技术开发、技术咨询、技术交流、技术转让、技术推广。(除依法须经批准的项目外,凭营业执照依法自主开展经营活动),许可经营项目是:第二类医疗器械销售;货物进出口;技术进出口。
深圳市科时达电子科技有限公司
公司地址
深圳市光明区公明街道上村社区水贝北路大新华达工业园3号厂房203
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公司名称： 深圳市科时达电子科技有限公司
公司地址： 深圳市光明区公明街道上村社区水贝北路大新华达工业园3号厂房203 联系人： 林建军 邮编： 518127 联系电话： 400-860-5168转4967
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