核心参数
仪器种类: 普通真空快速退火炉
产地类别: 国产
样品尺寸: 2-12英寸
温度范围: 300℃-1400℃
最高升温速率: ≦150℃/sec(裸片);
降温速率: 30-200°C/s
退火温度准确性: ±1
退火温度均匀性: ≦±1%
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设备规格:
1.全自动操作模式,Robot自动上片取片、RFID识别;
2.双腔体生产模式,单个腔体适应于 2英寸-12英寸 晶圆,支持(300mmx300mm) 样品;
3.退火温度范围 300℃-1400℃;
4.升温速率 ≦100℃/sec(裸片);
5.温度均匀性 ≦±1%;
6.真空腔体(可选配常压腔体或正压腔体);
7.冷却方式包括水冷和氮气吹扫;
8.MFC控制,3-5路制程气体;
工艺应用:
快速热处理(RTP),快速退火(RTA),快速热氧化(RTO),快速热氮化(RTN);
离子注入/接触退火;
高温退火;
高温扩散;
金属合金;
热氧化处理。
应用领域:
化合物半导体(砷化镓、氮化物、碳化硅等);
多晶硅;
太阳能电池片;
MEMS;
功率器件;
IC晶圆;
LED晶圆。
企业名称
量伙半导体设备(上海)有限公司
企业信息已认证
企业类型
信用代码
91310116MAJ8N934E
成立日期
2018-12-10
注册资本
500
经营范围
半导体设备的研发、销售,半导体设备科技领域内的技术开发、技术咨询、技术服务、技术转让,机电产品、光电产品的销售,从事货物及技术进出口业务。【依法须经批准的项目,经相关部门批准后方可开展经营活动】
量伙半导体设备(上海)有限公司
公司地址
上海市浦东新区张江秋月路26号矽岸国际1号3楼
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