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我们所提供的紫外臭氧清洗系统是一种简单，经济，高效的材料表面清洗设备。只需把样品放置到托盘上，关上舱门，设置时间，按下运行按钮，就可以在几分钟内，快速去除大多数无机基材上的有机污染物，为您提供超洁净的表面。通过使用高功率紫外线光源产生臭氧，将污染物分解成挥发性化合物。这些挥发性化合物从表面蒸发而不留痕迹。这种方法可产生接近原子级的清洁表面并且不会损坏样品。
应用工艺：
改善表面亲水性
表面清洗
准备薄膜沉积
表面处理
紫外固化
表面灭菌消毒
去除表面单分子膜
表面氧化
清洗AFM / STM探针
清洗光学元件
可清洗的基材示例：
石英、硅、氧化硅、氮化硅、金、镍、铝、砷化镓、矾土、玻璃、不锈钢......
可去除的污染物示例：
光刻胶、树脂、人体皮肤油脂、清洗溶剂的残留物、塑料/硅片表面油渍、助焊剂......
产品特点：
成本低；
120x120mm样品台；
最大处理样品高度为14mm；
抽屉式样品台，简单方便；
样品台自安全联锁，防止对人身伤害；
LCD屏显示“已用时间”和“剩余时间”；
60分钟计时器；
高强度紫外线灯源；
可控温的样品台；
样品清洗无需溶剂；
超净表面。
产品参数：
紫外灯类型 | 合成石英紫外灯 |
紫外灯主要波长 | 185 nm 和 254 nm |
UV灯管尺寸 | 100 mm x 100 mm |
UV灯电源 | 4000 V, 30 mA |
UV灯使用寿命 | T80（2000小时）; 8 - 10年的标准日常使用 |
适用电压 | 230 V, 0.6 A , 50 Hz // opt. ( 110 V, 1.2 A, 60 Hz ) |
最大运行时间 | 59分59秒 |
安全特点 | 安全联锁，高温报警，高温断电 |
托盘尺寸 | 120 mm x 120 mm |
样品最大尺寸 | 100 mm x 100 mm |
总尺寸 | 宽 204 mm，高 227 mm，长 300 mm |
下图显示了UV臭氧处理对基材的影响，以改善表面亲水性。
水滴在OTS处理的硅基底(300纳米二氧化硅表面)上，经过紫外臭氧清洗处理前（左图）和处理后（右图）的效果对比。
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