关注
已关注
已认证
粉丝量 0
400-860-5168转3281
仪器信息网认证电话，请放心拨打
核心参数
仪器种类： 磁控溅射镀膜机
产地类别： 进口
应用领域： 微电子学
基片尺寸： 1-12英寸
靶材： 1-6英寸
基片温度范围： 室温-750度
成膜厚度均匀性： 3%
极限真空： 10E-9Torr
PVD 产品公司生产各种高压和特高压磁控溅射靶枪，适用于各种靶材尺寸。泰坦磁控溅射源的直径范围从 1 英寸到 6 英寸不等。这些光源可以在磁铁就位的情况下烘烤到 200°C。
我们靶枪的磁控管磁场设计可提供出色的薄膜均匀性和靶材利用率。这些靶枪基于模块化磁阵列，允许用户在几分钟内从平衡溅射模式切换到不平衡溅射模式。我们所有的磁控管都使用与水隔离且易于现场更换的钕铁硼磁体。钎焊组件将磁体与水隔离，因此没有水真空界面，从而消除了泄漏的可能性。
工作范围为0.5 mTorr至1 Torr以上。它们标配直径为 0.75 英寸的 SS 轴，也可以完全兼容 UHV。
提供多种源选项，例如定制安装法兰、带或不带计算机控制的手动倾斜或原位倾斜组件、百叶窗、烟囱、气体注入环等。目标不需要背板。我们还可以提供面对靶材溅射的来源。
我们还提供全系列的电源。这些源可以运行射频、直流或脉冲直流模式，并可根据需要提供 N、HN 或 UHF 型连接。
技术参数：
我们提供多种口径的圆形平面靶枪,尺寸1", 2" and 3". 以及矩形靶枪
安装法兰口径：NW63CF，NW100CF
真空腔体内长度范围：150-400mm
真空腔体内端面直径：60-96
靶材直径： 1", 2" and 3"
靶材最大厚度：4-6mm
冷却：水冷
特点：
100%超高真空（UHV）应用
独有的放射性沉积模式
在线Z轴驱动及倾斜
水冷时不会存在水汽
平衡靶和非平衡靶设计
高强度磁体应用于磁性材料
应用领域：
PVD沉积
金属涂层
纳米结构薄膜
多层镀层
反应溅射
射频溅射，直流溅射，脉冲直流溅射
硬质涂层
PVD物理气相沉积Titan的工作原理介绍
物理气相沉积Titan的使用方法?
PVDTitan多少钱一台?
物理气相沉积Titan可以检测什么？
物理气相沉积Titan使用的注意事项？
PVDTitan的说明书有吗？
PVD物理气相沉积Titan的操作规程有吗？
PVD物理气相沉积Titan报价含票含运吗？
PVDTitan有现货吗？
企业名称
科睿设备有限公司
企业信息已认证
企业类型
私人股份有限公司
信用代码
61153274-000-03-23-9
成立日期
2023-02-01
注册资本
100
经营范围
科睿设备有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd )自2013年成立以来，为多家国外高科技仪器厂家在中国地区的独家代理。科睿公司一贯秉承『诚信』、『品质』、『服务』、『创新』的企业文化，为广大用户提供最先进的仪器、设备，最的专业技术、服务和最真诚的整体解决方案。在科技日新月异、国力飞速发展的中国，纳米科学研究、薄膜材料(包括半导体)生长和表征、表面材料物性分析、生物药物开发、有机高分子合成等等领域，都需要与欧美发达国家完全接轨的仪器设备平台来实现。科睿设备有限公司有幸成长在这个火热的年代，我们愿意化为一座桥梁，更好的将国外高科技技术融入客户需求的解决方案中，见证祖国科技水平的提升，与祖国科技共同飞速成长。
科睿设备有限公司
公司地址
上海市杨浦区松花江路251弄白玉兰环保广场3号902室
客服电话
