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ALD原子层沉积系统资料
2012-04-16 10:07
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ALD原子层沉积设备-SVT
型号： ALD-05
产地：
品牌： SVT Associates
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化学机械抛光设备
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化学机械抛光设备 CP-4是世界最通用和最先进的台式化学机械抛光设备（CMP），可以很好的满足您的研发需求。完全软件控制，可以对直径4英寸的晶圆和磁盘进行抛光。 CETR-CP-4可检测原位摩擦力，摩擦系数，温度，下压力，磨损，声发射等，可以模拟所有的参数，如速度，负载和流量，来模仿一个大的CMP系统。
本资料主要介绍Smart PVD系统，此系统可以集成多种沉积技术于一体。实现电子束蒸发、磁控溅射、热蒸发等同时使用一个腔室。方面科研工作人员的薄膜研究。
可实现功能 超高真空磁控溅射 UHV-Sputtering 脉冲激光沉积系统 PLD 电子束镀膜系统 Ebeam 热蒸镀 Effusion 灵活，多功能，高品质给予一身的试验室级ＳＭＡＲＴ超高真空镀膜系统，是ＳＶＴＡ公司２００９年推出的最新产品。
简单介绍SVT Associates, Inc.公司的 PLD/L-MBE 脉冲激光沉积系统。 可用于生长ZnO，STO等薄膜，金属薄膜，磁性材料薄膜等。
公司名称： 美国SVTA公司中国办事处
公司地址： 北京海淀区上地四街1号院2号楼3层632 联系人： 于耀宇 邮编： 100085 联系电话： 400-860-5168转1311
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