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牛津仪器PlasmaPro 100 Cobra刻蚀和沉积设备

品牌: 牛津仪器
产地: 英国
型号: PlasmaPro 100 Cobra
样本: 下载
报价: ¥80万 - 100万
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核心参数

产地类别: 进口

产品介绍

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PlasmaPro 100系列刻蚀和沉积设备可安装多种衬底电极,能够在很宽的温度范围内进行工艺,具有200mm单晶圆和多晶圆批处理能力,该工艺模块可提供具有高度均匀,高产量和高精度的工艺。

  • 电极的适用温度范围宽,-150°C至400°C

  • 兼容200mm以下所有尺寸的晶圆

  • 快速更换到不同尺寸的晶圆工艺

  • 购置成本低且易于维护

  • 紧密的设计,布局灵活

  • 实时清洗和终点监测

我们的设备和工艺已通过充分验证,正常运转时间可达90%以上,一旦设备安装完毕,可立即投入使用。PlasmaPro 100系列市场应用广,包括但不限于: MEMS和传感器,光电子,分立元器件和纳米技术。它具有研究和开发需要的灵活性, 同时具备量产所需要的质量可靠性。

特征

牛津仪器的PlasmaPro 100系列具有200mm单晶圆和多晶圆批处理能力。该工艺模式可提供出色的均匀性,高产量和高精度的工艺。

  • 通过均匀的高导通路径连接的腔室,将反应粒子输送到衬底 - 在维持低气压的同时,允许使用较高的气体通量

  • 高度可变的下电极 - 充分利用等离子体的三维特性,在适合的高度条件下,衬底厚度最大可达10mm

  • 电极的温度范围宽(-150°C至+ 400°C),可通过液氮,液体循环制冷机或电阻丝加热 - 可选的吹排及液体更换单元可自动进行模式切换

  • 由再循环制冷机单元供给的液体控温的电极 - 出色的衬底温度控制

  • 射频功率加载在喷头上,同时优化气体输送 - 提供具有低频/射频切换功能的均匀的等离子体工艺,可精确控制薄膜应力

  • ICP源尺寸为65mm,180mm,300mm - 确保最大200mm晶圆的工艺均匀性

  • 高抽气能力 - 提供了更宽的工艺气压窗口

  • 晶圆压盘与背氦制冷 - 更适合的晶片温度控制

应用

  • III-V族材料的刻蚀工艺

  • 固体激光器InP刻蚀

  • VCSEL GaAs/AlGaAs刻蚀

  • 射频器件低损伤GaN刻蚀

  • 硅 Bosch和超低温刻蚀工艺

  • 类金刚石(DLC)沉积

  • 二氧化硅和石英刻蚀

  • 用特殊配置的PlasmaPro FA设备进行失效分析的干法刻蚀解剖工艺,可处理封装好的芯片、 裸晶片以及200mm晶圆

  • 沉积高质量的PECVD氮化硅和二氧化硅薄膜,用于光子学、电介质层、钝化等诸多其它用途

  • 用于高亮度LED生产的硬掩模沉积和刻蚀

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牛津仪器镀膜机PlasmaPro 100 Cobra的工作原理介绍

镀膜机PlasmaPro 100 Cobra的使用方法?

牛津仪器PlasmaPro 100 Cobra多少钱一台?

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镀膜机PlasmaPro 100 Cobra使用的注意事项?

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半导体

2019/07/31

工商信息

企业名称

牛津仪器科技(上海)有限公司

企业信息已认证

企业类型

信用代码

310000400824735

成立日期

2017-03-29

注册资本

50

经营范围

精密仪器和设备的技术开发、技术服务、技术转让和技术咨询,精密仪器和设备的批发、进出口,佣金代理(拍卖除外),并提供维修服务和相关配套服务。【依法须经批准的项目,经相关部门批准后方可开展经营活动】

联系方式
牛津仪器科技(上海)有限公司为您提供牛津仪器PlasmaPro 100 Cobra刻蚀和沉积设备,牛津仪器PlasmaPro 100 Cobra产地为英国,属于进口镀膜机,除了牛津仪器PlasmaPro 100 Cobra刻蚀和沉积设备的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供牛津仪器PlasmaPro100 Estrelas刻蚀设备、牛津仪器Etch刻蚀工艺、牛津仪器PECVD等离子体处理系统,牛津仪器客服电话400-860-2711,售前、售后均可联系。
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