我们的设备和工艺已通过充分验证,正常运转时间可达90%以上,一旦设备安装完毕,可立即投入使用。PlasmaPro 100系列市场应用广,包括但不限于: MEMS和传感器、光电子、分立元器件和纳米技术。它具有足够的灵活性,可用于研究和开发,通过打造质量满足生产需求。
PlasmaPro 100 ALE 的特点:
准确的刻蚀深度控制;
光滑的刻蚀表面
低损伤工艺
数字化/循环式刻蚀工艺——刻蚀相当于ALD
高选择比
能加工最大200mm的晶圆
高深宽比(HAR)刻蚀工艺
非常适于刻蚀纳米级薄层
III-V族材料刻蚀工艺
固体激光器InP刻蚀
VCSEL GaAs/AlGaAs刻蚀
射频器件低损伤GaN刻蚀
硅Bosch和超低温刻蚀工艺
类金刚石(DLC)沉积
二氧化硅和石英刻蚀
用特殊配置的PlasmaPro FA设备进行失效分析的干法刻蚀解剖逆工艺,可处理封装好的芯片, 裸晶片,以及200mm晶圆
高质量PECVD沉积的氮化硅和二氧化硅,用于光子学、电介质层、钝化以及诸多其它用途
用于高亮度LED生产的硬掩模沉积和刻蚀
牛津仪器其他半导体检测仪PlasmaPro100 ALE的工作原理介绍
其他半导体检测仪PlasmaPro100 ALE的使用方法?
牛津仪器PlasmaPro100 ALE多少钱一台?
其他半导体检测仪PlasmaPro100 ALE可以检测什么?
其他半导体检测仪PlasmaPro100 ALE使用的注意事项?
牛津仪器PlasmaPro100 ALE的说明书有吗?
牛津仪器其他半导体检测仪PlasmaPro100 ALE的操作规程有吗?
牛津仪器其他半导体检测仪PlasmaPro100 ALE报价含票含运吗?
牛津仪器PlasmaPro100 ALE有现货吗?
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等离子体原子层刻蚀实现无损伤刻蚀
提供等离子体原子层刻蚀实现无损伤刻蚀。原子层蚀刻(ALE)是一种技术允许每次精确除去一个原子层,是使用常规刻蚀无法达到的控制水平。 牛津仪器的设备和工艺已通过充分验证,正常运转时间可达90%以上,一旦设备安装完毕,可立即投入使用。PlasmaPro 100系列市场应用广,包括但不限于: MEMS和传感器、光电子、分立元器件和纳米技术。它具有足够的灵活性,可用于研究和开发,通过打造质量满足生产需求。
半导体
2019/08/07
企业名称
牛津仪器科技(上海)有限公司
企业信息已认证
企业类型
信用代码
310000400824735
成立日期
2017-03-29
注册资本
50
经营范围
精密仪器和设备的技术开发、技术服务、技术转让和技术咨询,精密仪器和设备的批发、进出口,佣金代理(拍卖除外),并提供维修服务和相关配套服务。【依法须经批准的项目,经相关部门批准后方可开展经营活动】
牛津仪器科技(上海)有限公司
公司地址
上海市徐汇区虹漕路461号虹钦园60号楼1楼
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