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半导体制造解决方案

2019/07/31 10:19

阅读:265

分享:
应用领域:
半导体
发布时间:
2019/07/31
检测样品:
其他
检测项目:
制造
浏览次数:
265
下载次数:
参考标准:

方案摘要:

高性能电动汽车等高新技术领域对高效动力转换的需求与日俱增,在这些领域高效动力转换必不可少。SiC 和 GaN 材料的使用降低了能耗。牛津仪器通过原子层沉积(ALD)技术、等离子体辅助蚀刻和沉积技术优化了工艺,提高了器件的能效。

产品配置单:

前处理设备

牛津仪器PlasmaPro 100 Cobra刻蚀和沉积设备

型号: PlasmaPro 100 Cobra

产地: 英国

品牌: 牛津仪器

¥80万 - 100万

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牛津仪器ALD OpAL原子层沉积系统

型号: ALD OpAL

产地: 英国

品牌: 牛津仪器

¥10万 - 50万

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分析仪器

牛津仪器全功能视频级成像原子力显微镜Cypher VRS

型号: Cypher VRS

产地: 美国

品牌: 牛津仪器

¥300万 - 500万

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牛津仪器Ultim Extreme无窗超级能谱

型号: Ultim Extreme

产地: 英国

品牌: 牛津仪器

¥20万 - 30万

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分析软件

牛津仪器TritonXL无液氦稀释制冷机

型号: TritonXL

产地: 英国

品牌: 牛津仪器

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方案详情:

Power Semiconductors 制造解决方案

高性能电动汽车等高新技术领域对高效动力转换的需求与日俱增,在这些领域高效动力转换必不可少。SiC 和 GaN 材料的使用降低了能耗。牛津仪器通过原子层沉积(ALD)技术、等离子体辅助蚀刻和沉积技术优化了工艺,提高了器件的能效。ALD 工艺通过出色的钝化减少了 GaN/AlGaN 器件中的阈值电压漂移。

通过牛津仪器 GaN 和 SiC 蚀刻工艺完成的侧壁质量优良、损伤很小、性能优越。



半导体激光器制造解决方案

高性能电动汽车等高新技术领域对高效动力转换的需求与日俱增,在这些领域高效动力转换必不可少。SiC 和 GaN 材料的使用降低了能耗。牛津仪器通过原子层沉积 (ALD) 技术、等离子体辅助蚀刻和沉积技术优化了工艺,提高了器件的能效。 ALD 工艺通过出色的钝化减少了GaN/AlGaN 器件中的阈值电压漂移。

牛津仪器 GaN 和 SiC 蚀刻工艺完成的侧壁质量优良、损伤很小、性能优越。

激光器应用广泛,包括提升通信速度、通过 LiDAR 实现自动驾驶等。长期以来,牛津仪器一直从事激光二极管 III-V 材料的工艺研发,例如:AIGaN 和 InP 等材料。无论何种材料,最终的过程控制都至关重要。



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