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鲁汶
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Haasrode® Avior® A
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中国大陆
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电容耦合等离子体刻蚀（CCP）设备
系统特性
单腔室电容耦合等离子体（CCP）机台
适用于光刻胶残胶去除（打底膜）、介质刻蚀等工艺
可用于6英寸及以下晶圆
CCP腔室适用于制造微纳结构的等离子刻蚀技术。在反应离子刻蚀过程中，等离子体中会包含大量的活性粒子，与表面原子产生化学反应，生成可挥发产物后，随真空抽气系统排出。鲁汶仪器的 Haasrode® Avior® A 在性价比和空间利用率上优点突出，可提供各种不同材料的刻蚀解决方案。
产品货期: 60天
整机质保期: 1年
培训服务: 安装调试现场免费培训
鲁汶等离子体刻蚀Haasrode® Avior® A的工作原理介绍
等离子体刻蚀Haasrode® Avior® A的使用方法?
鲁汶Haasrode® Avior® A多少钱一台?
等离子体刻蚀Haasrode® Avior® A可以检测什么？
等离子体刻蚀Haasrode® Avior® A使用的注意事项？
鲁汶Haasrode® Avior® A的说明书有吗？
鲁汶等离子体刻蚀Haasrode® Avior® A的操作规程有吗？
鲁汶等离子体刻蚀Haasrode® Avior® A报价含票含运吗？
鲁汶Haasrode® Avior® A有现货吗？
