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ICP是一种加工微纳结构的等离子刻蚀技术。具有刻蚀快、选择比高、各项异性高、刻蚀损伤小、均匀性好、断面轮廓可控性高、刻蚀表面平整度高等优点。目前被广泛应用于Si、SiO2、SiNx、金属、III-V族化合物等材料的刻蚀。可应用于大规模集成电路、MEMS、光波导、光电子器件等领域中各种微结构的制作。
Pishow® A 系列
8英寸电感耦合等离子体刻蚀（ICP）设备
拥有多种材料刻蚀解决方案，包括硅基材料、金属、III-V和其他化合物半导体
可提供高低温（-10℃至+150℃）工艺模式
可提供ALE解决方案，实现对刻蚀速率和均匀性的高精度控制
具备Bosch工艺能力，可提供高深宽比硅深槽或深孔刻蚀解决方案
适用于8英寸晶圆，并可向下兼容，提供单腔式和多腔式等多种腔室搭配方式
产品货期: 60天
整机质保期: 1年
培训服务: 安装调试现场免费培训
鲁汶等离子体刻蚀Pishow® A 系列的工作原理介绍
等离子体刻蚀Pishow® A 系列的使用方法?
鲁汶Pishow® A 系列多少钱一台?
等离子体刻蚀Pishow® A 系列可以检测什么？
等离子体刻蚀Pishow® A 系列使用的注意事项？
鲁汶Pishow® A 系列的说明书有吗？
鲁汶等离子体刻蚀Pishow® A 系列的操作规程有吗？
鲁汶等离子体刻蚀Pishow® A 系列报价含票含运吗？
鲁汶Pishow® A 系列有现货吗？
