看了化学气相沉积设备的用户又看了
等离子体增强型CVD设备 PD-3800L
批量加工设备
PD-3800L是一种能够沉积硅基薄膜（氧化硅、氮化硅、氧氮化硅和非晶硅）的锁载等离子体增强化学气相沉积（PECVD）系统。
该系统由于采用了大型反应室，并通过载盘装载多片晶圆进行批量处理，因此产量较高。在直径360mm的区域内可以沉积出具有优异的厚度均匀性和应力控制的薄膜，具有优异的稳定性和可重复性。用户友好的触摸屏界面用于参数控制和配方存储。该系统是大规模生产用薄膜沉积的理想选择，具有优异的重复性。
最大加工范围：ø360 mm (ø3" x 9, ø4" x 6, ø6" x 3)
优异的均匀性和应力控制
卓越的工艺稳定性和可重复性
坚固的系统，最低的运行/维护成本
用户友好的触摸屏界面，用于参数控制和配方存储。
SiH4-SiNx
SiH4-SiO2
液体前驱体(SN-2)SiNx。
TEOS-SiO2
自动传送装置(从盒式装载到ø360毫米的托架上)
产品货期: 60天
整机质保期: 1年
培训服务: 安装调试现场免费培训
SAMCO化学气相沉积（CVD）PD-3800L的工作原理介绍
化学气相沉积（CVD）PD-3800L的使用方法?
SAMCOPD-3800L多少钱一台?
化学气相沉积（CVD）PD-3800L可以检测什么？
化学气相沉积（CVD）PD-3800L使用的注意事项？
SAMCOPD-3800L的说明书有吗？
SAMCO化学气相沉积（CVD）PD-3800L的操作规程有吗？
SAMCO化学气相沉积（CVD）PD-3800L报价含票含运吗？
SAMCOPD-3800L有现货吗？
