¥60万
Diener
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PECVD
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欧洲
看了化学气相沉积设备的用户又看了
该PECVD系统可以沉积高质量SiO2薄膜、Si3N4薄膜、类金刚石薄膜、硬质薄膜、光学薄膜等。
主要技术参数：
PC控制软件
RF发生器 0~3000W 脉冲模式
腔体防腐处理，400*400*1500mm,240L
腔体加热80℃
带观察窗
多路工艺气体通道，MFC控制 防腐处理
HMDSO单体通道
易燃易爆气体安全阀
Gas Shower气浴电极
设备外尺寸2000*600*1700mm
进口真空泵组
电压 3项400V
保修期: 1年
是否可延长保修期: 是
现场技术咨询: 有
免费培训: 免费安装培训
免费仪器保养: 质保期内免费仪器保养
保内维修承诺: 质保期内免费非人为损坏免费维修
报修承诺: 24小时内到达现场并维修
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