¥100万 - 200万
维易科
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Firebird Batch Thermal ALD System
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美洲
看了原子层沉积设备的用户又看了
Veeco(之前称之为Cambridge Nanotech)已经有15年以上的ALD研发生产经验。2003年Cambridge Nanotech成立于哈佛大学，05年搬到Boston并生产出Thermal ALD - Savannah, 之后生产出Plasam ALD - Fuji、批量生产ALD-Phoenix。2017年被Veeco收购，并更新了Batch HVM ALD - Firebird。至今为止，Veeco在ALD设备已有15年多的经验，全球已安装五百多台ALD设备。
方式: Thermal batch ALD
优势:完全自动化的批量生产系统，最强生产能力（每月最多40000片），成本低，产量高，极优的一致性针对脆弱/温度敏感的衬底解决方案，包括LNO/LTO/玻璃模块化热管理，以实现最强工艺灵活性和产量
薄膜: 氧化物薄膜，包含封装层、光学涂层氧化物薄膜，包含封装层、光学涂层
反应腔体大小: 无缝晶片尺寸转换能力高达300mm
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