速度喷雾几何参量

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  • 喷雾式工业加湿机
    喷雾式工业加湿机 加湿器厂家新闻资讯报道:工业生产环境的湿度过低,可以直接影响到工厂企业车间的正常生产和产品的品质!另外,在低湿干燥的环境下进行生产作业也很容易导致空气中的粉尘增多,诱发呼吸道疾病,影响工人的身心健康,降低工作效率!而且,很多工厂企业的产品必须在适宜的湿度环境中生产出来才能达标;一般情况下,工厂企业将车间生产环境的温度控制在22℃左右,相对湿度控制在40-60%RH之间是较适宜的;在这种环境下,工人在工作中也会感觉到舒适,而且静电也在很大程度上得到了预防和消除;因此,现在很多的工厂企业都选择了使用正岛ZS-40Z喷雾式工业加湿机及ZS系列超声波喷雾加湿器来进行合理的加湿,以确保工业生产所需的适宜的湿度环境!正岛ZS-40Z喷雾式工业加湿机及ZS系列超声波喷雾加湿器产品,对于其他加湿方式的加湿器而言,具有【雾化颗粒细】 、【使用能耗低】 、【雾化能效高】,【加湿速度快】的显著优势。正岛ZS-40Z喷雾式工业加湿机及ZS系列超声波喷雾加湿器生产的ZS-40Z喷雾式工业加湿机及ZS系列超声波喷雾加湿器是采用超声波高频振荡的原理,从而达到均匀加湿的目的;具有空气加湿、净化、防静电、降温、降尘等多种用途;既可以较大空间进行均匀加湿,也可对特殊空间进行局部湿度补偿,具有较高的使用灵活性。点击此处查看喷雾式工业加湿机全部新闻图片备注:该系列产品可与环境试验设备以及环境监测仪器等温湿度相关仪器设备配套使用,也可作为其中的一个核心配件!欢迎您来电咨询喷雾式工业加湿机的详细信息!工业用加湿器种类有很多,不同品牌工业用加湿器价格及应用范围也会有所不同,而我们将会为您提供全方位的售后服务和优质的解决方案。正岛ZS-40Z喷雾式工业加湿机及ZS系列超声波喷雾加湿器控制方式,技术参数:查看更多喷雾式工业加湿机的详细信息尽在:正岛ZS-40Z喷雾式工业加湿机及ZS系列超声波喷雾加湿器工业用加湿器厂家记者核心提示:静电的危害对工业生产储存等所造成的影响和危害都是极大的,特别是在秋冬季节天气干燥的时候,车间生产中许多工厂企业都会发现大量的静电给他们产品的生产过程造成了巨大的损害,大多数的产品在被静电接触到之后直接损坏,甚至是报废,这无疑会造成不小的经济上的损失。因此,在这里正岛ZS-40Z喷雾式工业加湿机及ZS系列超声波喷雾加湿器建议工厂企业在车间,仓库等环境内使用相应的正岛加湿器来增加空气湿度,并使之保持在40-60%RH之间,那么就可以为你达到预防和消除静电的目的,从而确保工业生产的顺利进行和产品的品质。以上关于喷雾式工业加湿机的全部新闻资讯是正岛ZS-40Z喷雾式工业加湿机及ZS系列超声波喷雾加湿器为大家提供的!
  • 高效环保喷雾加湿机
    高效环保喷雾加湿机 新闻资讯报道:秋冬季节天干物燥,相对湿度过低易产生静电问题,这是绝大部分工厂或企业都会遇到的;静电问题不仅会妨碍工业生产的顺利进行和安全,导致机械设备线路短路、漏电而频频出现故障停机,而且还会击伤、击毁精密零部件或产品,大大降低产品的品质;另外,对工作人员的身心健康所造成的损害也是不小的;因此,工厂企业在这种情况之下就需要使用工业加湿器来进行合理的加湿;工业加湿器在现代化工厂或企业的使用场合非常多,无论是对于预防和消除静电,还是降低空气中的粉尘,或者在降温方面等都能起到非常大的作用;特别是在低温干燥的秋冬季节,很多工厂企业出现了空气干燥、湿度过低的情况,产生的静电和粉尘等所造成的诸多不利影响和危害,对工厂企业所带来的经济损失将会很大;不过,现在有了正岛ZS-40Z高效环保喷雾加湿机及ZS系列超声波工业加湿器;那么,就可以有效地避免空气干燥、湿度过低的情况发生!正岛ZS-40Z高效环保喷雾加湿机及ZS系列超声波工业加湿器产品,对于其他加湿方式的加湿器而言,ZEDO具有【雾化颗粒细】 、【使用能耗低】 、【雾化能效高】,【加湿速度快】的显著优势。正岛ZS-40Z高效环保喷雾加湿机及ZS系列超声波工业加湿器是采用超声波高频振荡的原理,从而达到均匀加湿的目的;具有空气加湿、净化、防静电、降温、降尘等多种用途;ZEDO既可以较大空间进行均匀加湿,也可对特殊空间进行局部湿度补偿,具有较高的使用灵活性。欢迎您来电咨询高效环保喷雾加湿机的详细信息!加湿器种类有很多,不同品牌加湿器价格及应用范围也会有所不同,而正 岛 电器 将会为您提供全方位的售后服务和优质的解决方案。正岛ZS-40Z高效环保喷雾加湿机及ZS系列超声波工业加湿器控制方式,技术参数:型号(手动)ZS-10ZS-20ZS-30ZS-40ZS-F60ZS-F2400型号(自动)ZS-10ZZS-20ZZS-30ZZS-40ZZS-F60ZZS-F2400Z加湿量(kg/h)369121824出雾口(mm)1*1101*1102*1102*1103*1104*110电源(v/hz)220/50220/50220/50220/50220/50220/50功率(w)20040060080012001400尺寸(cm)53*25*4053*25*4063*32*4863*32*4865*40*3665*40*36注:另有加湿量32kg/h(1750w)、48kg/h(2100w)等机型可根据客户需求进行定制加工 查看更多高效环保喷雾加湿机的详细信息尽在:杭 州 正 岛 电 器 设 备 有 限 公 司■加湿器选型需要考虑的因素较多,比如室内空间体积大小、环境温度、设备发热量、通风情况、空调排风都会影响室内环境的湿度以及加湿效果,在计算加湿量时一般需留出一定余量,也就是相应的加大加湿量,ZEDO而且要从最低湿度状态增湿到最理想湿度范围来综合计算该空间内所需的加湿量和相对应的加湿器型号。本站新闻记者ZEDO核心提示:现代工业技术的发展速度加快,工业生产的效率也得到快速提高,但是工业场所内还是会存在很多粉尘,影响车间内的生产效率及造成环境污染。工厂所采用的传统除尘装置成本高,并且需要将粉尘进行收集、处理,因此现在很多工厂开始选择一种新型的降尘方式来解决车间内的粉尘问题,这种方式就是正确合理的运用正岛ZS-40Z高效环保喷雾加湿机及ZS系列超声波工业加湿器来进行合理的加湿。正岛ZS-40Z高效环保喷雾加湿机及ZS系列超声波工业加湿器所喷出的细小水雾颗粒与空气中粉尘颗粒大小接近,使其更容易吸附在空气中的粉尘颗粒上,使粉尘变重落地,从而达到降尘的作用。与传统的除尘装置相比较而言,这种降尘方式是从源头上解决粉尘的,并且成本也更低,性价比更高!以上关于高效环保喷雾加湿机的全部新闻资讯是正 岛 电 器为大家提供的!
  • 大功率智能喷雾加湿机
    大功率智能喷雾加湿机 新闻资讯报道:小小的静电,虽然不起眼,也不容易被感知;但是它带来的后果可是不容小视的。静电放电现象会妨障工业生产的顺利进行,对产品造成不同程度的损害,导致产品品质下降;而且静电场还会给车间生产带来安全隐患。在很多工厂企业的生产中,如果车间环境湿度过低,空气也就越干燥,困扰他们的静电问题逐渐突显出来。 为了有效的避免静电所引起的这些问题,建议工厂企业在生产中做好相应的防静电措施的同时,还必须确保工业生产环境达到最适宜的湿度范围。不同行业对环境湿度的要求会有所差异,但只要通过使用正岛ZS-40Z大功率智能喷雾加湿机及ZS系列超声波工业加湿器对空气进行合理的加湿,都可以确保达到你所需的湿度标准,从而有效的预防静电产生,消除静电的隐患。 正岛ZS-40Z大功率智能喷雾加湿机及ZS系列超声波工业加湿器产品,对于其他加湿方式的加湿器而言,具有【雾化颗粒细】 、【使用能耗低】 、【雾化能效高】,【加湿速度快】的显著优势。正岛ZS-40Z大功率智能喷雾加湿机及ZS系列超声波工业加湿器是采用超声波高频振荡的原理,从而达到均匀加湿的目的;具有空气加湿、净化、防静电、降温、降尘等多种用途;既可以较大空间进行均匀加湿,也可对特殊空间进行局部湿度补偿,具有较高的使用灵活性。点击此处查看大功率智能喷雾加湿机全部新闻图片电话:0571- 86731596 13958115553欢迎您来电咨询大功率智能喷雾加湿机的详细信息!工业用加湿器种类有很多,不同品牌工业用加湿器价格及应用范围也会有所不同,而我们将会为您提供全方位的售后服务和优质的解决方案。正岛ZS-40Z大功率智能喷雾加湿机及ZS系列超声波工业加湿器控制方式,技术参数:查看更多大功率智能喷雾加湿机的详细信息尽在:正岛电器 ■注意事项--选型需要考虑的因素较多,比如室内空间体积大小、环境温度、设备发热量、通风情况、空调排风都会影响室内环境的湿度以及加湿效果,在计算加湿量时一般需留出一定余量,也就是相应的加大加湿量,而且要从最低湿度状态增湿到最理想湿度范围来综合计算该空间内所需的加湿量和相对应的型号。本站新闻记者核心提示:在秋冬干燥季节,发生静电现象是最为频繁的,这时就会很容易导致静电增强、飞尘增多等问题的产生;这些问题都是会造成大批的产品出现不良或报废的情况;工业生产厂家们需要立即行动起来采取有效的除静电措施,防患于未燃,才能保证产品的生产安全和品质!我们都知道,科学合理的加湿对于很多工业生产来说都是至关重要的一项工作内容;现在,一般的工厂企业只要根据其实际需求使用相应的正岛ZS-40Z大功率智能喷雾加湿机及ZS系列超声波工业加湿器,将车间生产环境保持在最适宜的湿度范围之内,即可有效的避免静电的产生,而且还可以大大减少飞尘对工业生产所产生的危害,才能确保产品在车间生产过程中的品质。以上关于大功率智能喷雾加湿机的全部新闻资讯是正岛电器为大家提供的!

速度喷雾几何参量相关的仪器

  • Spray Geometry and PatternationLaVision’s SprayMaster Geometry package extracts spray plume morphology and geometry information from backlight and light sheet spray images.Depending on the optical arrangement, the spray image obtains information about the spray pattern (radial spray cuts) or the spray plume shape and propagation (axial spray cuts).Analysis of multi-hole injectors (e.g. automotive fuel sprays) reveals geometry information for each individual spray cone separately.Radial spray cuts: spray patternationRadial cuts are derived from light sheet images in cross section with thespray axis.spray pattern area and its equivalent diametermass circle diameters according to SAE definitioncentroid position based on spray image intensitylargest and shortest radius of the pattern rimplots about radial and angular spray distribution to reveal the structural characteristics of spray plumesAxial spray cuts: plume geometry and propagationAxial cuts are aligned with the spray propagation direction. Measurementsare achieved using light sheets, global lighting or backlighting.spray cone angle measured e.g. at a given distance from the orificebent angle (deviation from orifice axis) and bothhalf angles to indicate the symmetry and direction of the spray plumetip penetration to represent the propagation of the sprayangular spray density plot to show the uniformity of the sprayProduct InformationSpray Geometry Software
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  • WD4000半导体无图晶圆几何形貌检测机可测各类包括从光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物体表面,从纳米到微米级别工件的厚度、粗糙度、平整度、微观几何轮廓、曲率等。自动测量Wafer厚度、表面粗糙度、三维形貌、单层膜厚、多层膜厚。1、使用光谱共焦对射技术测量晶圆Thickness、TTV、LTV、BOW、WARP、TIR、SORI等参数,同时生成Mapping图;2、采用白光干涉测量技术对Wafer表面进行非接触式扫描同时建立表面3D层析图像,显示2D剖面图和3D立体彩色视图,高效分析表面形貌、粗糙度及相关3D参数;3、基于白光干涉图的光谱分析仪,通过数值七点相移算法计算,达到亚纳米分辨率测量表面的局部高度,实现膜厚测量功能;4、红外传感器发出的探测光在Wafer不同表面反射并形成干涉,由此计算出两表面间的距离(即厚度),可适用于测量BondingWafer的多层厚度。该传感器可用于测量不同材料的厚度,包括碳化硅、蓝宝石、氮化镓、硅等。WD4000半导体无图晶圆几何形貌检测机兼容不同材质不同粗糙度、可测量大翘曲wafer、测量晶圆双面数据更准确。可实现砷化镓、氮化镓、磷化镓、锗、磷化铟、铌酸锂、蓝宝石、硅、碳化硅、玻璃不同材质晶圆的量测。测量功能1、厚度测量模块:厚度、TTV(总体厚度变化)、LTV、BOW、WARP、TIR、SORI、平面度、等;2、显微形貌测量模块:粗糙度、平整度、微观几何轮廓、面积、体积等。3、提供调整位置、纠正、滤波、提取四大模块的数据处理功能。其中调整位置包括图像校平、镜像等功能;纠正包括空间滤波、修描、尖峰去噪等功能;滤波包括去除外形、标准滤波、过滤频谱等功能;提取包括提取区域和提取剖面等功能。4、提供几何轮廓分析、粗糙度分析、结构分析、频率分析、功能分析等五大分析功能。几何轮廓分析包括台阶高、距离、角度、曲率等特征测量和直线度、圆度形位公差评定等;粗糙度分析包括国际标准ISO4287的线粗糙度、ISO25178面粗糙度、ISO12781平整度等全参数;结构分析包括孔洞体积和波谷。产品优势1、非接触厚度、三维维纳形貌一体测量WD4000半导体无图晶圆几何形貌检测机集成厚度测量模组和三维形貌、粗糙度测量模组,使用一台机器便可完成厚度、TTV、LTV、BOW、WARP、粗糙度、及三维形貌的测量。2、高精度厚度测量技术(1)采用高分辨率光谱共焦对射技术对Wafer进行高效扫描。(2)搭配多自由度的静电放电涂层真空吸盘,晶圆规格最大可支持至12寸。(3)采用Mapping跟随技术,可编程包含多点、线、面的自动测量。3、高精度三维形貌测量技术(1)采用光学白光干涉技术、精密Z向扫描模块和高精度3D重建算法,Z向分辨率高可到0.1nm;(2)隔振设计降低地面振动和空气声波振动噪声,获得高测量重复性。(3)机器视觉技术检测图像Mark点,虚拟夹具摆正样品,可对多点形貌进行自动化连续测量。4、大行程高速龙门结构平台(1)大行程龙门结构(400x400x75mm),移动速度500mm/s。(2)高精度花岗岩基座和横梁,整体结构稳定、可靠。(3)关键运动机构采用高精度直线导轨导引、AC伺服直驱电机驱动,搭配分辨率0.1μm的光栅系统,保证设备的高精度、高效率。5、操作简单、轻松无忧(1)集成XYZ三个方向位移调整功能的操纵手柄,可快速完成载物台平移、Z向聚焦等测量前准工作。(2)具备双重防撞设计,避免误操作导致的物镜与待测物因碰撞而发生的损坏情况。(3)具备电动物镜切换功能,让观察变得快速和简单。应用场景1、无图晶圆厚度、翘曲度的测量通过非接触测量,将晶圆上下面的三维形貌进行重建,强大的测量分析软件稳定计算晶圆厚度、粗糙度、总体厚度变化(TTV),有效保护膜或图案的晶片的完整性。2、无图晶圆粗糙度测量Wafer减薄工序中粗磨和细磨后的硅片表面3D图像,用表面粗糙度Sa数值大小及多次测量数值的稳定性来反馈加工质量。在生产车间强噪声环境中测量的减薄硅片,细磨硅片粗糙度集中在5nm附近,以25次测量数据计算重复性为0.046987nm,测量稳定性良好。部分技术规格品牌CHOTEST中图仪器型号WD4000系列测量参数厚度、TTV(总体厚度变化)、BOW、WARP、LTV、粗糙度等可测材料砷化镓、氮化镓、磷化镓、锗、磷化铟、 铌酸锂、蓝宝石、硅、碳化硅、氮化镓、玻璃、外延材料等厚度和翘曲度测量系统可测材料砷化镓 氮化镓 磷化 镓 锗 磷化铟 铌酸锂 蓝宝石 硅 碳化硅 玻璃等测量范围150μm~2000μm扫描方式Fullmap面扫、米字、自由多点测量参数厚度、TTV(总体厚度变 化)、LTV、BOW、WARP、平面度、线粗糙度三维显微形貌测量系统测量原理白光干涉干涉物镜10X(2.5X、5X、20X、50X,可选多个)可测样品反射率0.05%~100粗糙度RMS重复性0.005nm测量参数显微形貌 、线/面粗糙度、空间频率等三大类300余种参数膜厚测量系统测量范围90um(n= 1.5)景深1200um最小可测厚度0.4um红外干涉测量系统光源SLED测量范围37-1850um晶圆尺寸4"、6"、8"、12"晶圆载台防静电镂空真空吸盘载台X/Y/Z工作台行程400mm/400mm/75mm恳请注意:因市场发展和产品开发的需要,本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改,恕不另行通知,不便之处敬请谅解。
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  • WD4000无图晶圆几何量测系统采用高精度光谱共焦传感技术、光干涉双向扫描技术,完成非接触式扫描并建立3D Mapping图,实现晶圆厚度、TTV、LTV、Bow、Warp、TIR、SORI、等反应表面形貌的参数。测量功能1、厚度测量模块:厚度、TTV(总体厚度变化)、LTV、BOW、WARP、TIR、SORI、平面度、等;2、显微形貌测量模块:粗糙度、平整度、微观几何轮廓、面积、体积等。3、提供调整位置、纠正、滤波、提取四大模块的数据处理功能。其中调整位置包括图像校平、镜像等功能;纠正包括空间滤波、修描、尖峰去噪等功能;滤波包括去除外形、标准滤波、过滤频谱等功能;提取包括提取区域和提取剖面等功能。4、提供几何轮廓分析、粗糙度分析、结构分析、频率分析、功能分析等五大分析功能。几何轮廓分析包括台阶高、距离、角度、曲率等特征测量和直线度、圆度形位公差评定等;粗糙度分析包括国际标准ISO4287的线粗糙度、ISO25178面粗糙度、ISO12781平整度等全参数;结构分析包括孔洞体积和波谷。WD4000无图晶圆几何量测系统采用白光光谱共焦多传感器和白光干涉显微测量双向扫描技术,完成非接触式扫描并建立表面3D层析图像,实现Wafer厚度、翘曲度、平面度、线粗糙度、总体厚度变化(TTV)及分析反映表面质量的2D、3D参数。产品优势1、非接触厚度、三维维纳形貌一体测量WD4000无图晶圆几何量测系统集成厚度测量模组和三维形貌、粗糙度测量模组,使用一台机器便可完成厚度、TTV、LTV、BOW、WARP、粗糙度、及三维形貌的测量。2、高精度厚度测量技术(1)采用高分辨率光谱共焦对射技术对Wafer进行高效扫描。(2)搭配多自由度的静电放电涂层真空吸盘,晶圆规格最大可支持至12寸。(3)采用Mapping跟随技术,可编程包含多点、线、面的自动测量。3、高精度三维形貌测量技术(1)采用光学白光干涉技术、精密Z向扫描模块和高精度3D重建算法,Z向分辨率高可到0.1nm;(2)隔振设计降低地面振动和空气声波振动噪声,获得高测量重复性。(3)机器视觉技术检测图像Mark点,虚拟夹具摆正样品,可对多点形貌进行自动化连续测量。4、大行程高速龙门结构平台(1)大行程龙门结构(400x400x75mm),移动速度500mm/s。(2)高精度花岗岩基座和横梁,整体结构稳定、可靠。(3)关键运动机构采用高精度直线导轨导引、AC伺服直驱电机驱动,搭配分辨率0.1μm的光栅系统,保证设备的高精度、高效率。5、操作简单、轻松无忧(1)集成XYZ三个方向位移调整功能的操纵手柄,可快速完成载物台平移、Z向聚焦等测量前准工作。(2)具备双重防撞设计,避免误操作导致的物镜与待测物因碰撞而发生的损坏情况。(3)具备电动物镜切换功能,让观察变得快速和简单。应用场景1、无图晶圆厚度、翘曲度的测量通过非接触测量,将晶圆上下面的三维形貌进行重建,强大的测量分析软件稳定计算晶圆厚度、粗糙度、总体厚度变化(TTV),有效保护膜或图案的晶片的完整性。2、无图晶圆粗糙度测量Wafer减薄工序中粗磨和细磨后的硅片表面3D图像,用表面粗糙度Sa数值大小及多次测量数值的稳定性来反馈加工质量。在生产车间强噪声环境中测量的减薄硅片,细磨硅片粗糙度集中在5nm附近,以25次测量数据计算重复性为0.046987nm,测量稳定性良好。恳请注意:因市场发展和产品开发的需要,本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改,恕不另行通知,不便之处敬请谅解。部分技术规格型号WD4200厚度和翘曲度测量系统可测材料砷化镓 、氮化镓 、磷化 镓、锗、磷化铟、铌 酸 锂 、蓝宝石 、硅 、碳化 硅 、玻璃等测量范围150μm~2000μm测量参数厚度、TTV(总体厚度变 化) 、LTV 、BOW、WARP 、平面度、线粗糙度三维显微形貌测量系统测量原理白光干涉测量视场0.96mm×0.96mm可测样品反射率0.05%~ 100%测量参数显微形貌 、线/面粗糙度、空间频率等三大 类300余种参数系统规格晶圆尺寸4" 、6" 、8" 、 12"晶圆载台防静电镂空真空吸盘载台X/Y/Z工作台行程400mm/400mm/75mm工作台负载≤5kg外形尺寸1500× 1500×2000mm总重量约 2000kg如有疑问或需要更多详细信息,请随时联系中图仪器咨询。
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  • NQI专项“纳米几何特征参量计量标准器研究及应用示范”项目实施方案论证会暨启动会...

    [align=left] 9月8 日,"十三五"国家重点研发计划"国家质量基础的共性技术研究与应用"重点专项(以下简称"NQI专项")"纳米几何特征参量计量标准器研究及应用示范"项目实施方案论证会暨启动会在中国计量科学研究院和平里院区召开。来自北京航空航天大学、西安交通大学、哈尔滨工业大学、中国科学院微电子研究所、全国标准物质管理委员会、中科院自动化所等单位的专家,以及中国计量科学研究院院长方向、相关职能部门负责人和项目参与单位技术骨干等参加了论证会。我院承担了项目中的两项子课题,课题负责人曹丛参加了项目论证会。[/align][align=left]  西安交通大学蒋庄德院士代表项目组向咨询专家组介绍了项目总体情况和实施方案,各课题负责人分别汇报了课题实施方案。专家组认真听取了汇报,一致认为:项目实施方案目标明确、研究内容设置合理、技术路线切实可行、保障措施有力,同意通过论证。[/align][align=left]  该项目拟研制从16nm到2000nm的一维、二维栅格和线宽等几何特征参量计量标准器,实现高精度定值、校准和溯源,并建立从国家到地方直至产业的全链条、全覆盖的纳米几何量值传递溯源体系,面向集成电路、国防军工、先进制造和生物医药等典型产业开展应用示范。该标准器的研制和应用,将从根本上解决我国纳米计量标准器缺失,以及量传体系与产业脱节的问题,并将打破国外垄断,提升产品质量和国际竞争力。[/align]

  • 实验室喷雾干燥机的雾化机理

    [font=微软雅黑][font=微软雅黑]喷雾干燥机气流式喷嘴的雾化机理为三种类型,即滴状、丝状和膜关分裂。但气流式喷嘴在一般情况下属于膜状雾化,[/font] [font=微软雅黑]所以雾滴比较细,当雾滴群离开喷嘴时,其形状是一个被空气心充满的锥形薄膜,因而也称空气锥喷雾。空心锥的锥角[/font][/font][font='Times New Roman']?[/font][font=微软雅黑],一般称为喷雾角或雾化角。此锥形薄膜雾滴群称为雾炬或喷雾锥。[/font][font=微软雅黑]下表:二流体喷嘴的雾滴(或颗粒)尺寸范围(低黏度,牛顿型流体)[/font][font=&] [/font][table][tr][td][align=center][font=微软雅黑]空气[font=Times New Roman]/[/font][font=微软雅黑]液体(质量比)[/font][/font][/align][/td][td][align=center][font=微软雅黑]平均尺寸,[/font][font='Times New Roman']μ[/font][font=微软雅黑]m[/font][/align][/td][/tr][tr][td][align=center][font=微软雅黑]5:1[/font][/align][/td][td][align=center][font=微软雅黑]5~20[/font][/align][/td][/tr][tr][td][align=center][font=微软雅黑]([font=Times New Roman]2.5:1[/font][font=微软雅黑])[/font][font=Times New Roman]~[/font][font=微软雅黑]([/font][font=Times New Roman]5[/font][font=微软雅黑]:[/font][font=Times New Roman]1[/font][font=微软雅黑])[/font][/font][/align][/td][td][align=center][font=微软雅黑]20~30[/font][/align][/td][/tr][tr][td][align=center][font=微软雅黑]([font=Times New Roman]1.5:1[/font][font=微软雅黑])[/font][font=Times New Roman]~[/font][font=微软雅黑]([/font][font=Times New Roman]2.5[/font][font=微软雅黑]:[/font][font=Times New Roman]1[/font][font=微软雅黑])[/font][/font][/align][/td][td][align=center][font=微软雅黑]30~50[/font][/align][/td][/tr][tr][td][align=center][font=微软雅黑]([font=Times New Roman]0.5:1[/font][font=微软雅黑])[/font][font=Times New Roman]~[/font][font=微软雅黑]([/font][font=Times New Roman]1.5[/font][font=微软雅黑]:[/font][font=Times New Roman]1[/font][font=微软雅黑])[/font][/font][/align][/td][td][align=center][font=微软雅黑]50~200[/font][/align][/td][/tr][/table][font=微软雅黑]当气体和液体相对速度足够大时,一个正常的雾化状态是一个充满空气的锥形薄膜,薄膜不断地膨胀扩大,然后分裂成极细雾滴。薄膜的残余周边则分裂为较大的雾滴。[/font][font=微软雅黑][font=微软雅黑]雾化机理和喷雾角有关。一般来说,膜状分裂时的喷雾角要比单纯丝状分裂大一些。喷雾角取决于气流间的相对速度、喷嘴结构及物料性质。当液体流量很小时,喷雾角与气流速度无关。当气流速度超过[/font]300m/s[font=微软雅黑]时,喷雾角则与液体流量无关。一般而言,气流式喷嘴的喷雾角通常[/font][font=Times New Roman]20[/font][/font][sup][font=微软雅黑]o[/font][/sup][font=微软雅黑]~30[/font][sup][font=微软雅黑]o[/font][/sup][font=微软雅黑]。[/font][font=微软雅黑]液体喷嘴是圆形的,与气体喷嘴的环形通常必须是同心的。若喷嘴结构设计正确时,雾滴应均匀地分布在喷雾锥中,喷雾锥是对称的。如二者不同心时,雾化角就偏离中心线而不对称,有时出现液线,这时喷雾锥包含部分大雾滴,这是由于雾化空气分配不均匀的缘故。[/font]

  • 盐溶液浓度对盐水喷雾试验机的影响

    盐水喷雾试验乃针对各种材质之表面处理,包含涂料、电镀、无机及有机皮膜,阳极处理、防锈油等防腐处理后,测试其制品之耐腐蚀性。下面请跟随小编一起来了解一下盐溶液浓度在盐水喷雾试验机中所起到的作用。 众所周知,在做中性盐雾试验时,Nacl2的浓度与金属腐蚀失质量是息息相关的。盐水喷雾试验机在一定温度条件下,腐蚀速度主要是由两个因素来控制的,即盐溶液浓度和溶解在溶液中的氧含量。当溶液中氧含量能满足电化学反应时,腐蚀速度受盐浓度控制;反之,当盐浓度超过5%后,随浓度的增加,溶解的氧含量降低,无法满足电化学反应的需要,这时,腐蚀速度就由溶液中的氧的含量来控制。在5%左右浓度时腐蚀速度高,因此标准中一般都采用5%的Nacl2水溶液。 上面讲到了盐水喷雾试验机Nacl2盐溶液浓度是影响试验结果是否准确的主要因素,那么,如何来降低盐溶液浓度对于结果的影响呢。专家介绍,试验人员可定期对溶液浓度进行测量,测量时可采用密度法,一般5%的Nacl2溶液在25℃时的密度在1.029~1.041g/mL,用比重计即可快速准确地进行测量。 注:这里的试验样品主要是针对防腐涂料(如漆膜等),其他试验样品仅供参考。

速度喷雾几何参量相关的资料

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  • 表面改性纳升电喷雾针提高质谱灵敏度
    大家好,本周为大家分享一篇发表在J. Am. Soc. Mass Spectrom上的文章,Surface Modified Nano-Electrospray Needles Improve Sensitivity for Native Mass Spectrometry [1] 。该文章的通讯作者是来自美国亚利桑那大学的Michael T. Marty教授。非变性质谱(NMS)和电荷检测质谱(CD-MS)已成为表征各种蛋白质和高分子复合物的多功能工具。两者通常使用硼硅酸盐针进行纳米电喷雾电离(nESI)。但由于蛋白质在中性pH值下通常带正电荷,可能会吸附在带负电荷的玻璃nESI针表面,从而降低灵敏度,影响数据分析。为了提高NMS和CD-MS的灵敏度,作者用惰性表面改性剂修饰了nsEI针的表面。通过将聚乙二醇(PEG)共价连接到硅烷醇表面,钝化了玻璃表面,以减少非特异性吸附。首先,为确定表面改性是否能提高质谱灵敏度,作者团队采用PEG涂层的玻璃nESI针检测了两种非特异性吸附玻璃的蛋白:牛血清白蛋白(BSA)和溶菌酶。结果发现,相比于对照组,BSA和溶菌酶的信号强度均提高了2倍左右(图1)。PEG 涂层显着提高了nESI针头对标准蛋白质的MS灵敏度。图1.(A) 未涂层对照针和 (B) PEG 涂层针的 BSA 原始质谱显示信号强度。(C) 溶菌酶和 (D) BSA的PEG涂层(浅蓝色)和对照(灰色)nESI针的信号强度。接下来,作者利用搭载PEG表面涂层nESI针的CD-MS检测完整腺病毒 (AAV) 衣壳。结果发现,与采用未改良针的对照组相比,在较低浓度下,PEG改良针所收集的离子总数高出8倍以上(图2)。相比于一般的CD-MS检测,采用改良针的CD-MS检测的样品浓度更低,采集时间缩短。图2. AAV2 衣壳的 CD-MS 分析。(A) 对照组; (B) PEG 涂层针。 (C) 从空AAV2衣壳的5分钟 CD-MS 采集中收集的单个离子总数。接下来,作者研究了nESI针尖端尺寸和几何形状变化对实验结果的影响。实验发现,虽然改良针在较低浓度下显著提高了信号强度,但其针间差异很大。作者团队假设信号强度的偏差是由人工修剪nESI针的尖端直径差异引起的。为了最大限度地减少nESI针尖端尺寸和几何形状的变化,作者开发了一个针头拉拔器程序,以重复生产具有2 μm吸头直径的nESI针头。结果发现,PEG修饰的2 μm针的可明显提高检测信号强度,并且每次运行差异较小。相比于人工修剪的针头,2 μm针信号提升幅度更大。0.1 μm nESI针与2μm针两者检测到的蛋白的信号强度相似(图3)。基于以上结果,作者推测2 μm针检测到的信号值更高的原因可能是2 μm针的锥度更短。较短的锥度可能会在针尖附近产生更高的涂层密度。而手动剪断的针头具有较长的锥度,在拉拔过程中在尖端附近损坏PEG涂层,因此检测到的信号值偏低。而0. 1μm和2μm针尖上的锥度都比较短,涂层在接近针尖表面时可能完好无损,因此两者检测到的信号强度相似。图3. 具有 2 μm(左)和 0.1 μm(右)尖端直径的PEG涂层(浅蓝色)和未涂层对照(灰色)nESI 针的 BSA 最丰富电荷状态的信号强度。通过以上实验,作者已证实了PEG 修饰nESI可提高NMS与CD-MS的灵敏度。接下来,作者对其作用机制进行深入研究。首先,作者测试了灵敏度的提高是否是由于减少了对玻璃的非特异性吸附引起的。作者采用两种化学性质不同的涂层:PEG与多氟分子PFDCS修饰针头,两者均可减少蛋白的非特异性吸附,理论上均可改善质谱灵敏度。但结果发现,仅有PEG涂层针头可改善信号强度。之后,作者采用两种针头检测了泛素信号值。泛素在中性条件下不与玻璃发生吸附作用,理论上两者信号值无统计学差异,但结果发现,相比于PFDCS 修饰针头,PEG修饰针头组检测到的信号值提高了3倍。由此得出结论,PEG涂层针头不是通过减少蛋白与玻璃之间的非特异性吸附来提高质谱信号值的机制。最后,作者研究了表面改性针的毛细管作用,发现无修饰的硼硅酸盐毛细管毛细管作用最强,PEG毛细管具有中等强度的毛细管作用,而PFDCS毛细管几乎没有毛细管作用(图4A)。然后,在没有流体泵送或施加压力的静态条件下研究了不同nESI针的流速(图4B)。结果发现,PEG修饰的nESI针流速最高,而PFDCS修饰和对照nESI针的流速没有统计学差异。作者假设灵敏度的提高可能是由nESI针的流速增加导致的。由于传统针头中较高的毛细力,液体会紧紧地附着在玻璃上,降低给定ESI电压下的液体流量。而PEG修饰降低了毛细阻力,可能会增加流向尖端的液体,从而增加信号。而PFDCS修饰针头虽然具有较低毛细作用,但其流速较小,原因可能是需要一定强度的毛细作用才能获得最佳的流动速度。作者未来的实验将进行深入探索这一假设。ESI针的毛细作用照片。 (B) PFDCS修饰 (深蓝色)、PEG修饰 (浅蓝色)和未修饰 (灰色) 针的流速。总而言之,作者证明了PEG修饰的nESI针增加了多种分析物的质谱信号强度和灵敏度,展示了一种可以在较低浓度下提高难分析物的灵敏度、相对快速且成本低廉的方法。作者推测表面改性通过提高nESI针尖端流速以发挥提高质谱检测灵敏度的作用,但该推测仍需进一步证明。[1]Kostelic MM, Hsieh CC, Sanders HM, Zak CK, Ryan JP, Baker ES, Aspinwall CA, Marty MT. Surface Modified Nano-Electrospray Needles Improve Sensitivity for Native Mass Spectrometry. J Am Soc Mass Spectrom. 2022 Jun 1 33(6):1031-1037. doi: 10.1021/jasms.2c00087. Epub 2022 May 19. PMID: 35588532.
  • 为迎双十一上海比朗小型喷雾干燥机对折优惠!
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  • 质谱多通道旋转电喷雾离子源的研制和测试
    成果名称质谱多通道旋转电喷雾离子源的研制和测试单位名称北京大学联系人马靖联系邮箱mj@labpku.com成果成熟度□研发阶段 &radic 原理样机 □通过小试 □通过中试 □可以量产成果简介:质谱离子源是质谱分析中将样品分子转化成气相离子的关键装置,是所有类型质谱仪不可或缺的组成部分。发展新型的质谱离子源将有望改变质谱分析的方式和速度、对待测样品性质和状态的要求和它所能够应用的领域,为推动相关学科的发展奠定基础。该项目开发了一种质谱多通道旋转电喷雾离子源,与传统电喷雾离子源(ESI)不同的是该离子源通过旋转多个喷针使喷出的电喷雾均匀混合,得到的混合电喷雾与单个喷针产生的电喷雾相比覆盖面大且均匀,可以提高质谱检测信号的强度和稳定性。在研制过程中,课题组的主要工作包括:(1)使多个电喷针同时在旋转的情况下产生电喷雾,并使转速和溶液的流速可以调节;(2)将注射泵的动力传递给旋转的液路系统;(3)降低高速旋转时喷针的振动及偏离;(4)将电喷雾电压有效施加在高速旋转的电喷针上。通过以上工作,项目研制工作顺利完成,相关成果已申请国家专利。应用前景:该装置的研制将为我校和其它科研机构的质谱分析工作提供全新的多通道旋转电喷雾离子源,应用前景广阔。
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