涂层薄膜

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涂层薄膜相关的耗材

  • 超快薄膜偏振片
    超快薄膜偏振片1.适用于钛:蓝宝石和镱掺杂激光器2.高达0.3 J / cm2 @ 200 fs @ 800nm损伤阈值3.优化分散S和P的最小色散超快薄膜偏振片采用薄膜涂层技术,可在近红外波长范围内实现zui佳性能。这些偏振器具有高损伤阈值,非常适用于高功率激光器,包括Ti:蓝宝石和掺镱激光源。透射偏振器可在偏振器的两侧具有偏振涂层,而反射偏振器由输入面上的偏振涂层和输出面上的抗反射涂层组成。订购信息消声系数对比度波长范围 (nm)透射率 (%)20:1Tp:Ts20:1750 - 850Tp85 / Ts#88-23560:1Rs:Rp60:1750 - 850-#88-23620:1Tp:Ts20:1980 - 1090Tp85 / Ts#88-23760:1Rs:Rp60:1980 - 1090-#88-238技术数据
  • 悬浮在横向电磁场网格上的单层石墨烯薄膜
    由化学蒸气沉淀形成,转移到多碳孔支持膜横向电磁场的网格上,石墨烯悬浮没有底层,比碳孔高2微米。石墨烯薄膜生长方法:CVD合成、转移方法:干净转移,质量控制:光学显微镜、拉曼光谱、扫描电镜和透射电镜批签,大小:3毫米,外观(颜色):透明,透明度:97%,外观(形状):薄,覆盖率:95%,石墨烯层数:1,厚度(原理上):0.345毫微米,场效应管电子AI203迁移率:2,800cm2/Vs,场效应管SIO2/SI的电子迁移率:3,500cm2/Vs,表面电阻:170欧姆平方米,晶粒尺寸:约10μm,横向电磁场网格:类型:多孔碳支持膜?R2/4,孔大小:2微米,孔间距:4微米,孔直径:3毫米,涂层:镀金。
  • 安全涂层玻璃瓶
    安全涂层玻璃瓶规格l 为LC流动相导入氦气而特别设计。l 安全涂层,把伤害降低到最低。VICI Jour安全玻璃瓶有0.25、0.5、1和2L可供选择。这些玻璃瓶采用GL45螺纹,由抗化学腐蚀的硼硅酸盐3.3制成,外表涂布坚固的聚合物涂层,减少跌落破碎的机会。即使瓶子被打破,聚合物涂层会保护住玻璃碎片,溶液也会短暂的留在涂层当中。该涂层也可以抵御波长高达385 nm的紫外线以保护溶剂。这些安全涂层玻璃瓶不能高温灭菌。材质瓶:硼硅酸盐 3.3 玻璃盖: 聚丙烯浇注环:聚丙烯耐压0.8 bar (11.6 psi)特别提示此瓶不适用于压力高于0.8 bar(11.6 psi),仅适用于将持续氦气通入容器。安全涂层不能替代工作环境和实验室的安全措施。 安全涂层玻璃瓶描述货号安全涂层玻璃瓶,0.25L实心盖JR-9000-0011安全涂层玻璃瓶,0. 5L实心盖JR-9000-0012安全涂层玻璃瓶,1L实心盖JR-9000-0005安全涂层玻璃瓶,2L实心盖JR-9000-0010

涂层薄膜相关的仪器

  • 仪器简介:球磨型膜厚磨损测试仪 球磨型膜厚测试仪Calotest为您提供简单快速并且低成本的膜厚测量方法。一个半径精确已知的磨球由自身重力作用于镀膜试样表面并进行自转。在测试过程中,磨球与试样的相对位置以及施加于试样的压力保持恒定。磨球与试样间的相对运动以及金刚石颗粒研磨液的共同作用将试样表面磨损出一球冠形凹坑。随后的金相显微镜观测可以获得磨损坑内涂层和基体部分投影面积的几何参数。在得知了X和Y的长度后,涂层的厚度D可以通过简单的几何公式计算得出。 膜厚及磨损测试仪Calowear将这个原理更加深了一步。通过监测球体施加在试样上的载荷,我们可以更好的控制薄膜的磨损。研磨液以恒定速率自动滴加在球体与试样界面,构成一个稳定的三体磨损系统。 Calowear不是一次性的磨损试样表面,而是将磨损过程分成几个不同的阶段来完成。磨损坑的形状以及法向力的数值在每阶段的磨损后进行记录。由此,薄膜以及基体的磨损率可以精确的计算出来。 技术参数:主要技术参数 工作台尺寸: 50 x 50 mm 转动速率: 60 to 1200 rpm 标准磨球直径: 20, 25, 30mm 磨损时间范围: 10 - 90 sec or 1 - 9 min主要特点:特点 分为两款紧凑型和工业型薄膜与基体的磨损率测量 膜厚测量 适用于多种材料 可以导出数据进行更深入分析(例如: EXCEL 等)
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  • 厂家正式授权代理商:岱美有限公司联系电话:,(贾先生)联系地址:北京市房山区启航国际3期5号楼801公司网址:ThetaMetrisis是一家私有公司,成立于2008年12月,位于希腊雅典,是NCSR' Demokritos' 的微电子研究所的第一家衍生公司。ThetaMetrisis的核心技术是白光反射光谱(WLRS),它可以在几埃到几毫米的超宽范围内,准确而同时地测量堆叠的薄膜和厚膜的厚度和折射率。 FR-Mic: 微米级薄膜表征-厚度,反射率,折射率及消光系数测量仪一、产品简介: FR-Mic 是一款快速、准确测量薄膜表征应用的模块化解决方案,要求的光斑尺寸小到几个微米,如微图案表面,粗糙表面及许多其他表面。它可以配备一台专用计算机控制的 XY 工作台,使其快速、方便和准确地描绘样品的厚度和光学特性图。o 实时光谱测量o 薄膜厚度,光学特性,非均匀性测量,厚度映射o 使用集成的, USB 连接高品质彩色摄像机(CCD)进行成像 二、应用领域 o 大学 & 科研院所o 半导体(氧化物、氮化物、硅、电阻等)o MEMS 元器件 (光刻胶、硅薄膜等)o LEDo 数据存储元件o 弯曲基材(衬底)上的硬/软涂层o 聚合物涂层、粘合剂等o 生物医学( parylene—— 派瑞林,气泡壁厚,等等 )o 其他更多 … (如有需求,请与我们取得联系) 三、产品特点o 单点分析(无需预设值)o 动态快速测量o 包括光学参数(n和k,颜色)o 为演示保存视频o 600 多种的预存材料o 离线分析o 免费软件更新 四、技术参数 FR-Scanner 自动化超高速精准薄膜厚度测量仪 一、产品简介: FR-Scanner 是一种紧凑的台式工具,适用于自动测绘晶圆片上的涂层厚度。FR-Scanner 可以快速和准确测量薄膜特性:厚度,折射率,均匀性,颜色等。真空吸盘可应用于任何直径或其他形状的样片。 独特的光学模块可容纳所有光学部件:分光计、复合光源(寿命10000小时)、高精度反射探头。因此,在准确性、重现性和长期稳定性方面保证了优异的性能。FR-Scanner 通过高速旋转平台和光学探头直线移动扫描晶圆片(极坐标扫描)。通过这种方法,可以在很短的时间内记录具有高重复性的精确反射率数据,这使得FR-Scanner 成为测绘晶圆涂层或其他基片涂层的理想工具。测量 8” 样片 625 点数据60 秒 二、应用领域o 弯曲基材(衬底)上的硬/软涂层o 聚合物涂层、粘合剂等o 生物医学( parylene—— 派瑞林,气泡壁厚,等等 )o 半导体生产制造:(光刻胶, 电介质,光子多层结构, poly-Si,Si, DLC )o 光伏产业o 液晶显示o 光学薄膜o 聚合物o 微机电系统和微光机电系统o 基底: 透明 (玻璃, 石英, 等等) 和半透明 三、产品特点o 单点分析(无需预设值)o 动态快速测量o 包括光学参数(n和k,颜色)o 为演示保存视频o 600 多种的预存材料o 离线分析o 免费软件更新 四、技术参数FR-Scanner: 自动化超高速薄膜厚度测量仪 FR-pOrtable:一款USB驱动的薄膜表征工具 一、产品简介: FR-pOrtable 是 一 款独 特 的 便 携 式 测 量 仪器 , 可 对 透 明 和 半 透明 的 单 层 或 多 层 堆 叠薄 膜 进 行 精 确 的 无 损(非接触式)表征。使用 FR-pOrtable,用户可以在 380-1020nm 光谱范围内进行反射率和透射率测量及薄膜厚度测量。二、应用领域o 大学 & 科研院所o 半导体(氧化物、氮化物、硅、电阻等)o MEMS 元器件 (光刻胶、硅薄膜等)o LEDo 数据存储元件o 弯曲基材(衬底)上的硬/软涂层o 聚合物涂层、粘合剂等o 生物医学( parylene—— 派瑞林,气泡壁厚,等等 )o 其他更多 … (如有需求,请与我们取得联系) 三、应用领域 FR-pOrtable的紧凑尺寸以及定制设计的反射探头以及宽带长寿命光源确保了高精度和可重复的便携式测量。 FR-Portable既可以安装在提供的载物台上,也可以轻松转换为手持式厚度测量工具。放置在待表征的样品上方即可进行测量。 FR-Portable是用于工业环境(如R2R、带式输送机等)中涂层实时表征的可靠而精确的测厚仪。四、产品特点o 一键分析 (无需初始化操作)o 动态测量o 测量光学参数(n & k, 颜色),膜厚o 自动保存演示视频o 可测量 600 多种不同材料o 用于离线分析的多个设置o 免费软件更新服务 五、技术参数FR-pRo: 按需可灵活搭建的薄膜特性表征工具一、产品简介: FR-pRo 是一个模块化和可扩展平台的光学测量设备,用于表征厚度范围为1nm-1mm 的涂层.FR-pRo 是为客户量身定制的,并广泛应用于各种不同的应用 。 FR-pRo 可由用户按需选择装配模块,核心部件包括光源,光谱仪(适用于 200nm-2500nm 内的任何光谱系统)和控制单元,电子通讯模块此外,还有各种各种配件,比如:? 用于测量吸收率/透射率和化学浓度的薄膜/试管架,? 用于表征涂层特性的薄膜厚度工具,? 用于控制温度或液体环境下测量的加热装置或液体试剂盒,? 漫反射和全反射积分球通过不同模块组合,最终的配置可以满足任何终端用户的需求 二、应用领域o 弯曲基材(衬底)上的硬/软涂层o 聚合物涂层、粘合剂等o 生物医学( parylene—— 派瑞林,气泡壁厚,等等 )O 半导体生产制造:(光刻胶, 电介质,光子多层结构, poly-Si,Si, DLC )o 光伏产业o 液晶显示o 光学薄膜o 聚合物o 微机电系统和微光机电系统o 基底: 透明 (玻璃, 石英, 等等) 和半透明 三、产品特点o 单点分析(无需预设值)o 动态快速测量o 包括光学参数(n和k,颜色)o 为演示保存视频o 600 多种的预存材料o 离线分析o 免费软件更新 四、技术参数
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  • 薄膜/涂层残余应力仪 400-860-5168转1431
    kSA MOS US采用非接触MOS(多光束光学传感)激光技术;不但可以对薄膜的应力、表面曲率和翘曲进行准确的测量,而且还可二维应力 Mapping成像统计分析;同时准确测量应力、曲率随温度变化的关系。基于kSA MOS ,kSA MOS Ultra Scan使用二维激光阵列扫描绘制半导体晶圆、光学镜面、玻璃、透镜等各种抛光表面的二维曲率、翘曲度和薄膜应力分布图。kSA MOS Ultra Scan适用于室温条件下测量需求,实现晶元全自动2D扫描测量,同时获得3D图。部分参考用户:中国计量科学研究院电学与量子所、中国科学院上海微系统与信息技术研究所、中国科学院上海光学精密机械研究所、中国科学院长春光学精密机械与物理研究所、中国科学院上海技术物理研究所、北京航空材料研究院、苏州大学、中国科学院成都光电技术研究所中国科学院力学所、华南理工大学材料学院、中国空间技术研究院、阿里巴巴达摩院、清华大学、天津理工大学、上海大学、中国科学院兰州空间技术物理研究所、中国航空制造技术研究院、深圳瑞华泰薄膜科技股份有限公司;Harvard University ,Stanford University,Johns Hopkins University,Brown University , Karlsruhe Research Center,Max Planck Institute,IBM.,Seagate Research Center, Phillips Semiconductor, NEC,Nissan ARC, Nich ia Glass Corporation等。 相关产品: *实时原位薄膜应力仪(kSA MOS Film Stress Tester):同样采用先进的MOS技术,可装在各种真空沉积设备上(如:MBE, MOCVD, sputtering, PLD, PECVD, and annealing chambers ects),对于薄膜生长过程中的应力变化进行实时原位测量和二维成像分析; *薄膜热应力测量系统(kSA MOS Thermal-Scan Film Stress Tester) 技术参数:1.XY双向程序控制扫描平台扫描范围:300mm;2m(可选);二维应力分析2.扫描速度:可达20mm/s(x,y);3.XY双向扫描平台扫描小步进/分辨率:1 μm;4.平均曲率分辨率:20km,5×10-5 1/m (1-sigma);5.薄膜应力测量范围:3.2×106到7.8×1010dynes/cm2(或者3.2×105Pa to7.8×109Pa)(1-sigma);6.应力测量分辨率:优于0.32MPa或1% (1-sigma) 7.应力测量重复性:0.02MPa(1-sigma);8.平均曲率重复性:5×10-5 1/m (1 sigma) (1-sigma);9.程序化控制扫描模式:选定区域、多点线性扫描、全样品扫描;10.成像功能:样品表面2D曲率成像,定量薄膜应力成像分析;11.测量功能:曲率、曲率半径、应力强度、应力和翘曲等;12.二维激光阵列测量技术:不但可以对样品表面进行二维曲率成像分析;而且这种设计能保证所有阵列的激光光点一直在同一频率运动或扫描,从而有效的避免了外界振动对测试结果的影响;同时提高了测试的分辨率;主要特点: 1.MOS多光束技术(二维激光阵列); 2.自动光学追踪技术; 3.程序化控制扫描模式:选定区域、多点线性扫描、全面积扫描; 4.成像扫描功能:样品表面2D曲率成像,定量薄膜应力成像分析; 5.测量功能:曲率、曲率半径、薄膜应力、薄膜应力分布和翘曲等; 6.适用于各种薄膜应力测量,及半导体晶圆、光学镜面、玻璃、透镜等表面曲率、面型测量。实际应用:
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涂层薄膜相关的方案

  • K涂层薄膜对不同气体阻隔性能的测试
    对不同气体的阻隔性能是K涂层薄膜的重点测试性能指标之一。本文利用压差法原理设备VAC-V2压差法气体渗透仪分别测试了K涂层薄膜样品对氧气、氮气的阻隔性能,并介绍了试验原理、设备参数及适用范围、试验过程等内容,为K涂层薄膜对气体阻隔性能的测试研究提供参考。
  • 一种评价硬质薄膜涂层耐磨性能的新型微粒喷浆冲蚀(MSE)试验方法的开发
    MSE 试验可以不受基底材料的束缚,对硬质薄膜耐磨性进行单独评估。MSE 试验的高灵敏性也适合评估多层涂层及薄膜和基底间的界面层。同样适合评估其它类型的薄表面层如氧化物,硬漆,耐摩膜等。MSE微粒喷浆冲蚀法(定量测定)是用冲蚀磨损的方法评估涂层冲蚀磨损是指液体或固体以松散的小颗粒按一定的速度或角度对材料表面进行冲击所造成的一种材料损耗现象或过程。它广泛存在于机械、冶金、能源、建材、航空、航天等许多工业部门。MSE微粒喷浆冲蚀法(定量测定)是用冲蚀磨损的方法评估涂层,是世界最新的材料评估方法。MSE微粒喷浆冲蚀法是指恒定的压缩空气与浆料在喷嘴中混合后,最终高速喷射到涂层材料表面,持续对材料表面进行冲蚀,材料磨损量随表面强度而变化。再通过试验机将磨损量的变化转换成磨损率,以此来评估和对比各种材料表面强度。适用于所有涂层、镀层、镀膜,可很好地评估超硬、超软、透明、超薄、复合涂层等。固体微粒1.2μm,可产生10-50mm磨痕,样品尺寸为30mm*30mm*10mm,磨损面积为1mm2,喷射速度(100m/s),喷射角度为90度。
  • TiN 硬质薄膜涂层评估 MSE测量应用
    MSE微粒喷浆冲蚀法(定量测定)是用冲蚀磨损的方法评估涂层冲蚀磨损是指液体或固体以松散的小颗粒按一定的速度或角度对材料表面进行冲击所造成的一种材料损耗现象或过程。它广泛存在于机械、冶金、能源、建材、航空、航天等许多工业部门。MSE微粒喷浆冲蚀法(定量测定)是用冲蚀磨损的方法评估涂层,是世界最新的材料评估方法。MSE微粒喷浆冲蚀法是指恒定的压缩空气与浆料在喷嘴中混合后,最终高速喷射到涂层材料表面,持续对材料表面进行冲蚀,材料磨损量随表面强度而变化。再通过试验机将磨损量的变化转换成磨损率,以此来评估和对比各种材料表面强度。适用于所有涂层、镀层、镀膜,可很好地评估超硬、超软、透明、超薄、复合涂层等。固体微粒1.2μm,可产生10-50mm磨痕,样品尺寸为30mm*30mm*10mm,磨损面积为1mm2,喷射速度(100m/s),喷射角度为90度。

涂层薄膜相关的论坛

  • XRD、XRF看过来!10月14日马尔文X射线技术培训(纳米、多晶、涂层镀层、半导体薄膜测量)

    XRD、XRF看过来!10月14日马尔文X射线技术培训(纳米、多晶、涂层镀层、半导体薄膜测量)

    [font=&][color=#000000]马尔文帕纳科联合仪器信息网将于10月14日举办微观丈量“膜”力无限——X 射线分析技术应用于薄膜测量主题活动,特邀高校资深应用专家及马尔文帕纳科技术专家分享薄膜表征技术与应用干货,全面展示马尔文帕纳科针对薄膜材料测量的解决方案。此外,活动直播间还特别设置了答疑及抽奖多轮福利环节。[/color][/font][b][color=#006600]点击报名 [url=https://www.instrument.com.cn/webinar/meetings/malvernpanalytical2022/]微观丈量 膜力无限——马尔文帕纳科 X 射线分析技术应用于薄膜测量_网络讲堂_仪器信息网 (instrument.com.cn)[/url][/color][/b][font=&][color=#000000][b]背景介绍:[/b][/color][/font][font=&][color=#000000]薄膜,通常是指形成于基底之上、厚度在一微米或几微米以下的固态材料。薄膜材料广泛应用于不同的工业领域,譬如半导体、光学器件、汽车、新能源等诸多行业。沉积工艺是决定薄膜成分和结构的关键,最终影响薄膜的物性;对薄膜成分、厚度、微结构、取向等关键参数进行测量可以为薄膜沉积工艺的调整和优化提供依据,改善薄膜材料性能。[/color][/font][font=&][color=#000000][/color][/font][font=&][color=#000000][b]活动日程:[/b][/color][/font][table][tr][td=1,1,99]时间[/td][td=1,1,280]环节[/td][td=1,1,256]报告人[/td][/tr][tr][td=1,1,99][color=#000000]14:00-14:10[/color][/td][td=1,1,280][color=#000000]开场致词,公司介绍与薄膜应用概述[/color][/td][td=1,1,261][color=#000000]程伟,[/color][color=#000000]马尔文帕纳科 先进材料行业销售经理[/color][/td][/tr][tr][td=1,1,99][color=#000000]14:10-14:50[/color][/td][td=1,1,280][color=#000000][b]X射线衍射仪在纳米多层薄膜表征中的应用[/b][/color][/td][td=1,1,261][b][color=#000000]朱京涛,[/color][color=#000000]同济大学 教授[/color][/b][/td][/tr][tr][td=1,1,99][color=#000000]14:50-15:00[/color][/td][td=1,1,280][color=#000000]答疑 & 第一轮抽奖[/color][/td][td=1,1,261][color=#000000]定制马尔文帕纳科公仔一对[/color][/td][/tr][tr][td=1,1,99][color=#000000]15:00-15:30[/color][/td][td=1,1,280][color=#000000][b]多晶薄膜应力和织构分析[/b][/color][/td][td=1,1,261][b][color=#000000]王林,[/color][color=#000000]马尔文帕纳科 中国区XRD产品经理[/color][/b][/td][/tr][tr][td=1,1,99][color=#000000]15:30-15:40[/color][/td][td=1,1,280][color=#000000]答疑 & 第二轮抽奖[/color][/td][td=1,1,261][color=#000000]定制午睡枕[/color][/td][/tr][tr][td=1,1,99][color=#000000]15:40-16:25[/color][/td][td=1,1,280][color=#000000][b]X射线衍射及X射线荧光分析技术在半导体薄膜领域的应用[/b][/color][/td][td=1,1,261][b][color=#000000]钟明光,[/color][color=#000000]马尔文帕纳科 亚太区半导体销售经理[/color][/b][/td][/tr][tr][td=1,1,99][color=#000000]16:25-16:35[/color][/td][td=1,1,280][color=#000000]答疑、课程评价有礼[/color][/td][td=1,1,261]电脑包、公仔1对[/td][/tr][tr][td=1,1,99][color=#000000]16:35-16:55[/color][/td][td=1,1,280][color=#000000][b]X射线荧光光谱在涂层镀层分析中的应用[/b][/color][/td][td=1,1,261][b][color=#000000]熊佳星,[/color][color=#000000]马尔文帕纳科 中国区XRF产品经理[/color][/b][/td][/tr][tr][td=1,1,99][color=#000000]16:55-17:00[/color][/td][td=1,1,280][color=#000000]答疑 & 第三轮抽奖&结束语[/color][/td][td=1,1,261][color=#000000]倍思车载无线充电器[/color][/td][/tr][/table][img=,690,335]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2022/10/202210091517508512_6104_5138539_3.png!w690x335.jpg[/img][b][/b][font=&][color=#000000][b]重要内容抢先看:[/b][/color][/font][font=&][color=#000000]【同济大学,朱景涛教授】将分享[b]X衍射仪在纳米多层薄膜表征中的应用[/b],主要采用掠入射X射线反射、X射线衍射、X射线面内散射等测试方法,表征周期、非周期、梯度多层膜,以及膜层厚度、界面宽度、薄膜均匀性、结晶特性、粗糙度等信息;[/color][/font][color=#000000]【马尔文帕纳科中国区,XRD产品经理 王林】将分享X射线衍射法测量[b]多晶薄膜的残余应力和织构分析方法[/b];【马尔文帕纳科亚太区,半导体销售经理 钟明光】将展示马尔文帕纳科在[b]半导体薄膜领域[/b]的专业分析解决方案;【马尔文帕纳科中国区,XRF产品经理 熊佳星】将分享X射线荧光光谱在[b]涂层镀层无损分析[/b]中的应用。[b][color=#336666]专题页面:[url=https://www.instrument.com.cn/topic/malvernpanalytical.html][font=宋体]https://www.instrument.com.cn/topic/malvernpanalytical.html[/font][/url][/color][/b][/color]

  • 【分享】涂层研究的解决方案

    涂层研究的解决方案 提供一个宽阔范围的解决方案来满足您的涂层和薄膜测试研究和分析需求。如果您想运行您自己的测试,不但制造和销售世界上最先进的测试仪,还有最全面的保修、优质的客户服务、在线安装和深度培训等支持。如果您愿意由我们来测试,实验室提供一个宽阔范围的解决方案来满足您的测试需求,并且对您的数据严格保密。我们单一平台,多功能独特的被称赞的模块化设计的全计算机控制的UMT测试系统能熟练运行所有常见的涂层机械和摩擦测试,UMT也在世界范围内被使用在涂层测试中。下面是UMT系列测试仪常见的典型的涂层测试功能:划痕-附着力 带剥落附着力 柱栓下拉附着力 划痕和分层 纳米和微米硬度 杨氏模量和刚度 断裂韧性 摩擦系数 旋转和线性磨损 附件列出了一些典型的应用:多传感器涂层测试附着力和分层 | PDF file, 59 Kb 保护涂层抗划痕测试模块 | PDF file, 416 Kb 微划痕模块 | PDF 纳米压痕 | PDF UMT测试仪上的微钠硬度测试 | PDF file, 74Kb MEMS的保护层的耐久性 | PDF file, 318 Kb 透明薄膜评估的测试模块 | PDF file, 197 Kb 原子力显微镜 | PDF 钠观探伤法 | PFD file, 760 Kb 在所有这些和大量其它测试中,UMT可以自动综合控制几种试样的运动,线性速度从0.1µ m/s到30m/s(7个数量级),角速度从0.001 到 7,000 rpm,精确加载从1 µ N 到 1 kN(9个数量级)。在这些空前的范围内,UMT能够以高采样率自动在线显示大量过程参数。负载(伺服控制,常量或者改变,比如正弦曲线) 摩擦力,力矩和系数(静态和动态) 磨损量和磨损率 接触高频声发射 电子接触电阻 温度和湿度 [~116392~]

  • 涂层测厚仪有哪些作用

    涂层测厚仪有哪些作用

    涂层测厚仪主要功能是测量和控制各种涂层或薄膜的厚度,以确保产品的质量、性能和合规性。以下是涂层测厚仪的作用:  质量控制和质量保证:涂层厚测定仪可以用来监测产品表面的涂层厚度,确保涂层质量符合规定的标准和规范。这有助于提高产品的质量,并减少因涂层质量不良而导致的废品率。  涂层均匀性检测:通过涂层厚测定仪,可以检测涂层在不同部位的厚度差异,确保涂层均匀分布,避免涂层不均匀导致的产品性能问题。  工艺优化:制造商可以使用涂层厚测定仪来优化涂装工艺,以确保最佳的涂层厚度,从而提高产品性能、耐久性和外观。 合规性检测:在一些行业,涂层厚度必须符合法规和标准的要求,以确保产品的安全性和可靠性。涂层厚测定仪可以用于检测涂层的合规性。[img=,690,690]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2023/09/202309271039462615_8683_6098850_3.jpg!w690x690.jpg[/img]

涂层薄膜相关的资料

涂层薄膜相关的资讯

  • 专家约稿|辉光放电发射光谱仪的应用—涂层与超薄膜层的深度剖析
    摘要:本文首先简单回顾了辉光放电光谱仪(Glow Discharge Optical Emission Spectrometry,GDOES)的发展历程及特性,然后通过实例介绍了GDOES在微米涂层以及纳米超薄膜层深度剖析中的应用,并简介了深度谱定量分析的混合-粗糙度-信息深度(MRI)模型,最后对GDOES深度剖析的发展方向作了展望。1 GDOES发展历程及特性辉光放电发射光谱仪应用于表面分析及深度剖析已经有近100年的历史。辉光放电装置以及相关的光谱仪最早出现在20世纪30年代,但直到六十年代才成为化学分析的研究重点。1967年Grimm引入了“空心阳极-平面阴极”的辉光放电源[1],使得GDOES的商业化成为可能。随后射频(RF)电源的引入,GDOES的应用范围从导电材料拓展到了非导电材料,而毫秒或微秒级的脉冲辉光放电(Pulsed Glow Discharges,PGDs)模式的推出,不仅能有效地减弱轰击样品时的热效应,同时由于PGDs可以使用更高激发功率,使得激发或电离过程增强,大大提高了GDOES测量的灵敏程度,极大推动了GDOES技术的进步以及应用领域的拓展。GDOES被广泛应用于膜层结构的深度剖析,以获取元素成分随深度变化的关系。相较于其它传统的深度剖析技术,如俄歇电子能谱(AES)、X射线光电子能谱(XPS)和二次离子质谱(SIMS)或二次中性质谱(SNMS),GDOES具有如下的独特性[2]:(1)分析样品材料的种类广,可对导体/非导体/无机/有机…膜层材料进行深度剖析,并可探测所有的元素(包括氢);(2)分析样品的厚度范围宽,既可对微米量级的涂层/镀层,也可对纳米量级薄膜进行深度剖析;(3)溅射速率高,可达到每分钟几微米;(4)基体效应小,由于溅射过程发生在样品表面,而激发过程在腔室的等离子体中,样品基体对被测物质的信号几乎不产生影响;(5)低能级激发,产生的谱线属原子或离子的线状光谱,因此谱线间的干扰较小;(6)低功率溅射,属层层剥离,深度分辨率高,可达亚纳米级;(7)因为采用限制式光源,样品激发时的等离子体小,所以自吸收效应小,校准曲线的线性范围较宽;(8)无高真空需求,保养与维护都非常方便。基于上述优势,GDOES被广泛应用于表征微米量级的材料表面涂层/镀层、有机膜层的涂布层、锂电池电极多层结构和用于其封装的铝塑膜层、以及纳米量级的功能多层膜中元素的成分分布[3-6],下面举几个具体的应用实例。2 GDOES深度剖析应用实例2.1 涂层的深度剖析用于材料表面保护的涂层或镀层、食品与药品包装的柔性有机基材的涂布膜层、锂电池的多层膜电极,以及用于锂电池包装的铝塑膜等等的膜层厚度一般都是微米量级,有的膜层厚度甚至达到百微米。传统的深度剖析技术,如AES,XPS和SIMS显然无法对这些厚膜层进行深度剖析,而GDOES深度剖析技术非常适合这类微米量级厚膜的深度剖析。图1给出了利用Horiba-Profiler 2(一款脉冲—射频辉光放电发射光谱仪—Pulsed-RF GDOES,以下深度谱的实例均是用此设备测量),在Ar气压700Pa和功率55w条件下,测量的表面镀镍的铁箔GODES深度谱,其中的插图给出了从表面到Ni/Fe界面各元素的深度谱,测量时间与深度的转换是通过设备自带的激光干涉仪(DIP)对溅射坑进行原位测量获得。从全谱来看,GDOES测量信号强度稳定,未出现溅射诱导粗糙度或坑道效应(信号强度随溅射深度减小的现象,见下),这主要是因为铁箔具有较大的晶粒尺寸。同时还可以看到GDOES可连续测量到~120μm,溅射速率达到4.2μm/min(70nm/s)。从插图来看, Ni的镀层约为1μm,在表面有~100nm的氧化层,Ni/Fe界面分辨清晰。图1 表面镀镍铁箔的GODES深度谱,其中的插图给出了从表面到Ni/Fe界面的各元素的深度谱图2给出了在氩-氧(4 vol%)混合气气压750Pa、功率20w、脉冲频率3000Hz、占空比0.1875条件下,测量的用于锂电池包装铝塑膜(总厚度约为120μm)的GODES深度谱,其中的插图给出了铝塑膜的层结构示意图[7]。可以看出有机聚酰胺层主要包含碳、氮和氢等元素。在其之下碳、氮和氢元素信号的强度先降后升,表明在聚酰胺膜层下存在与其不同的有机涂层—粘胶剂,所含主要元素仍为碳、氮和氢。同时还可以看出在粘胶剂层下面的无机物(如Al,Cr和P)膜层,其中Cr和P源于为提高Al箔防腐性所做的钝化处理。很明显,图2测量的GDOES深度谱明确展现了锂电池包装铝塑膜的层结构。实验中在氩气中引入4 vol%氧气有助于快速溅射有机物的膜层结构,同时降低碳、氮信号的相对强度,提高了无机物如铬信号的相对强度,非常适合于无机-有机多层复合材料的结构分析,而在脉冲模式下,选用合适的频率和占空比,能够有效地散发溅射产生的热量,从而避免了低熔点有机物的碳化。图2一款锂电池包装铝塑膜的GDOES溅射深度谱,其中的插图给出了铝塑膜的层结构示意图[7]2.2 纳米膜层及表层的深度剖析纳米膜层,特别是纳米多层膜已被广泛应用于光电功能薄膜与半导体元器件等高科技领域。虽然传统的深度剖析技术AES,XPS和SIMS也常常应用于纳米膜层的表征,但对于纳米多层膜,传统的深度剖析技术很难对多层膜整体给予全面的深度剖析表征,而GDOES不仅可以给予纳米多层膜整体全面的深度剖析表征,而且选择合适的射频参数还可以获得如AES和SIMS深度剖析的表层元素深度谱。图3给出了在氩气气压750Pa、功率20w、脉冲频率1000Hz、占空比0.0625条件下,测量的一款柔性透明隔热膜(基材为PET)的GODES深度谱,如图3a所示,其中最具特色的就是清晰地表征了该款隔热膜最核心的三层Ag与AZO(Al+ZnO)共溅射的膜层结构,如图3b Ag膜层的GDOES深度谱所示。根据获得的溅射速率及Ag的深度谱拟合(见后),前两层Ag的厚度分别约为5.5nm与4.8nm[8]。很明显,第二层Ag信号较第一层有较大的展宽,相应的强度值也随之下降,这是源于GDOES对金属膜溅射过程中产生的溅射诱导粗糙度所致。图3(a)一款柔性透明隔热膜GDOES深度谱;(b)其中Ag膜层GDOES深度谱[8]图4给出了在氩气气压650Pa、功率20w、脉冲频率10000Hz、占空比0.5的同一条件下,测量的SiO2(300nm)/Si(111)标准样品和自然生长在Si(111)基片上SiO2样品的GODES深度谱[9]。如果取测量深度谱的半高宽为膜层的厚度,由此得到标准样品SiO2层的溅射速率为6.6nm/s(=300nm/45.5s),也就可以得到自然氧化的SiO2膜层厚度约为1nm(=6.6nm/s*0.15s)。所以,GDOES完全可以实现对一个纳米超薄层的深度剖析测量,这大大拓展了GDOES的应用领域,即从传统的钢铁镀层或块体材料的成分分析拓展到了对纳米薄膜深度剖析的表征。图4 (a)SiO2(300nm)/Si(111)标准样品与(b)自然生长在Si(111)基片上SiO2样品的GDOES深度谱[9]3 深度谱的定量分析3.1 深度分辨率对测量深度谱的优与劣进行评判时,深度分辨率Δz是一个非常重要的指标。传统Δz(16%-84%)的定义为[10]:对一个理想(原子尺度)的A/B界面进行溅射深度剖析时,当所测定的归一化强度从16%上升到84%或从84%下降到16%所对应的深度,如图5所示。Δz代表了测量得到的元素成分分布和原始的成分分布间的偏差程度,Δz越小表示测量结果越接近真实的元素成分分布,测量深度谱的质量就越高。但是随着科技的发展,应用的薄膜越来越薄,探测元素100%(或0%)的平台无法实现,就无法通过Δz(16%-84%)的定义确定深度分辨率,而只能通过对测量深度谱的定量分析获得(见下)。图5深度分辨率Δz的定义[10]3.2 深度谱定量分析—MRI模型溅射深度剖析的目的是获取薄膜样品元素的成分分布,但溅射会改变样品中元素的原始成分分布,产生溅射深度剖析中的失真。溅射深度剖析的定量分析就是要考虑溅射过程中,可能导致样品元素原始成分分布失真的各种因素,提出相应的深度分辨率函数,并通过它对测量的深度谱数据进行定量分析,最终获取被测样品元素在薄膜材料中的真实分布。对于任一溅射深度剖析实验,可能导致样品原始成分分布失真的三个主要因素源于:①粒子轰击产生的原子混合(atomic Mixing);②样品表面和界面的粗糙度(Roughness);③探测器所探测信号的信息深度(Information depth)。据此Hofmann提出了深度剖析定量分析著名的MRI深度分辨率函数[11]: 其中引入的三个MRI参数:原子混合长度w、粗糙度和信息深度λ具有明确的物理意义,其值可以通过实验测量得到,也可以通过理论计算得到。确定了分辨率函数,测量深度谱信号的归一化强度I/Io可表示为如下的卷积[12]: 其中z'是积分参量,X(z’)为原始的元素成分分布,g(z-z’)为深度分辨率函数,包含了深度剖析过程中所有引起原始成分分布失真的因素。MRI模型提出后,已被广泛应用于AES,XPS,SIMS和GDOES深度谱数据的定量分析。如果假设各失真因素对深度分辨率影响是相互独立的,相应的深度分辨率就可表示为[13]:其中r为择优溅射参数,是元素A与B溅射速率之比()。3.3 MRI模型应用实例图6给出了在氩气气压550Pa、功率17w、脉冲频率5000Hz、占空比0.25条件下,测量的60 Mo (3 nm)/B4C (0.3 nm)/Si (3.7 nm) GDOES深度谱[14],结果清晰地显示了Mo (3 nm)/B4C (0.3 nm)/Si (3.7 nm) 膜层结构,特别是分辨了仅0.3nm的B4C膜层, B和C元素的信号其峰谷和峰顶位置完全一致,可以认为B和C元素的溅射速率相同。为了更好地展现拟合测量的实验数据,选择溅射时间在15~35s范围内测量的深度剖析数据进行定量分析[15]。图6 60×Mo (3 nm)/B4C (0.3 nm)/Si (3.7 nm) GDOES深度谱[14]利用SRIM 软件[16]估算出原子混合长度w为0.6 nm,AFM测量了Mo/B4C/Si多层膜溅射至第30周期时溅射坑底部的粗糙度为0.7nm[14],对于GDOES深度剖析,由于被测量信号源于样品最外层表面,信息深度λ取为0.01nm。利用(1)与(2)式,调节各元素的溅射速率,并在各层名义厚度值附近微调膜层的厚度,Mo、Si、B(C)元素同时被拟合的最佳结果分别如图7(a)、(b)和(c)中实线所示,对应Mo、Si、B(C)元素的溅射速率分别为8.53、8.95和4.3nm/s,拟合的误差分别为5.5%、6.7%和12.5%。很明显,Mo与Si元素的溅射速率相差不大,但是B4C溅射速率的两倍,这一明显的择优溅射效应是能分辨0.3nm-B4C膜层的原因。根据拟合得到的MRI参数值,由(3)式计算出深度分辨率为1.75 nm,拟合可以获得Mo/B4C/Si多层薄膜中各个层的准确厚度,与HR-TEM测定的单层厚度基本一致[15]。图7 测量的GDOES深度谱数据(空心圆)与MRI最佳拟合结果(实线):(a) Mo层,(b) Si层,(c) B层;相应的MRI拟合参数列在图中[15]。4 总结与展望从以上深度谱测量实例可以清楚地看到,GDOES深度剖析的应用非常广泛,可测量从小于1nm的超薄薄膜到上百微米的厚膜;从元素H到Lv周期表中的所有元素;从表层到体层;从无机到有机;从导体到非导体等各种材料涂层与薄膜中元素成分随深度的分布,深度分辨率可以达到~1nm。通过对测量深度谱的定量分析,不仅可以获得膜层结构中原始的元素成分分布,而且还可以获得元素的溅射速率、膜层间的界面粗糙度等信息。虽然GDOES深度剖析技术日趋完善,但也存在着一些问题,比如在GDOES深度剖析中常见的溅射坑底部凸凹不平的“溅射坑道效应”(溅射诱导的粗糙度),特别是对多晶金属薄膜的深度剖析尤为明显,这一效应会大大降低GDOES深度谱的深度分辨率。消除溅射坑道效应影响一个有效的方法就是引入溅射过程样品旋转技术,使得各个方向的溅射均等。此外,缩小溅射(分析)面积也是提高溅射深度分辨率的一种方法,但需要考虑提高探测信号的强度,以免降低信号的灵敏度。另外,GDOES深度剖析的应用软件有进一步提升的空间,比如测量深度谱定量分析算法的植入,将信号强度转换为浓度以及溅射时间转换为溅射深度算法的进一步完善。作者简介汕头大学物理系教授 王江涌王江涌,博士,汕头大学物理系教授。现任广东省分析测试协会表面分析专业委员会副主任委员、中国机械工程学会高级会员、中国机械工程学会表面工程分会常务委员;《功能材料》、《材料科学研究与应用》与《表面技术》编委、评委。研究兴趣主要是薄膜材料中的扩散、偏析、相变及深度剖析定量分析。发表英文专著2部,专利十余件,论文150余篇,其中SCI论文110余篇。代表性成果在《Physical Review Letters》,《Nature Communications》,《Advanced Materials》,《Applied Physics Letters》等国际重要期刊上发表。主持国家自然基金、科技部政府间国际合作、广东省科技计划及横向合作项目十余项。获2021年广东省科技进步一等奖、2021年广东省高校科研成果转化路演赛“新材料”小组赛一等奖、2021年粤港澳高价值大湾区专利培育布局大赛优胜奖、2020年广东省高校科研成果转化路演赛“新材料”小组赛一等奖、总决赛一等奖。昆山书豪仪器科技有限公司总经理 徐荣网徐荣网,昆山书豪仪器科技有限公司总经理,昆山市第十六届政协委员;曾就职于美国艾默生电气任职Labview设计工程师、江苏天瑞仪器股份公司任职光谱产品经理。2012年3月,作为公司创始人于创立昆山书豪仪器科技有限公司,2019年购买工业用地,出资建造12300平方米集办公、研发、生产于一体的书豪产业化大楼,现已投入使用。曾获2020年朱良漪分析仪器创新奖青年创新入围奖;2019年昆山市实用产业化人才;2019年江苏省科技技术进步奖获提名;2017年《原子发射光谱仪》“中国苏州”大学生创新创业大赛二等奖;2014年度昆山市科学技术进步奖三等奖;2017年度昆山市科学技术进步奖三等奖;多次获得昆山市级人才津贴及各类奖励项目等。主持研发产品申请的已授权专利47项专利,其中发明专利 4 项,实用新型专利 25项,外观专利7项,计算机软件著作权 11项。论文2篇《空心阴极光谱光电法用于测定高温合金痕量杂质元素》,《Application of Adaptive Iteratively Reweighted Penalized Least Squares Baseline Correction in Oil Spectrometer 》第一编著人;主持编著的企业标准4篇;承担项目包括3项省级项目、1项苏州市级项目、4项昆山市级项目;其中:旋转盘电极油料光谱仪获江苏省工业与信息产业转型升级专项资金--重大攻关项目(现已成功验收,获政府补助660万元)、江苏省首台(套)重大装备认定、江苏省工业与信息产业转型升级专项资金项目、苏州市姑苏天使计划项目等;主持研发并总体设计的《HCD100空心阴极直读光谱仪》、《AES998火花直读光谱仪》、《FS500全谱直读光谱仪》《旋转盘电极油料光谱仪OIL8000、OIL8000H、PO100》均研发成功通过江苏省新产品新技术鉴定,实现了产业化。参考文献:[1] GRIMM, W. 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  • 有机硅涂层离型膜行业的主要趋势
    尽管许多相关合作伙伴面临着全球挑战,但离型膜行业仍在不断增长:新冠疫情爆发导致2020年成为艰难的一年,但令人欣慰的是,从化学品供应商到离型膜制造商,离型膜行业的全球强劲增长对所有相关组织而言是一个好消息。而对于那些依赖纸张或有机硅的企业而言,这一情况特别具有挑战性。由于离型膜行业对于纸张和有机硅的依赖性非常严重,因此纸张和有机硅的短缺尤其给这一行业带来了挑战。市场短缺使得纸张和有机硅供应商们奋力满足需求,同时市场价格出现了飙升。事实上,在有机硅市场,由于价格上涨和不稳定的供应,许多相关方在2020年和现在的2021年考虑替代材料。离型膜的供需状况似乎没有受到太大影响。APAC(亚太地区)业绩增长最快,市场份额最*大。其中,中国凭借着在有机硅生产领域处于世界领*先地位的强劲记录,在离型膜市场中的份额最*大。其他地区(例如美国,其次是欧洲)都显示出强劲的市场增长迹象。离型膜行业的发展方向:离型膜行业正转向更薄的材料(和涂层)以及更高的生产效率,以降低成本。无论是用于饮料瓶还是大量用于医疗领域,标签占据的离型膜市场份额最*大,遥遥领*先。医疗领域的高需求推动着市场生产更薄、更容易处理的标签。这意味着人们开始使用基于薄膜的合成材料,而非市场上唯*一的基材——纸张。这些离型膜所依赖的并非典型的纸张生产方式,而是由聚丙烯、聚酯和聚乙烯制成,因此可能比传统产品类型要薄得多。为什么这些材料越来越受欢迎?因为这些薄膜合成材料最*高可以减少60%的厚度,对环境和商业具有重大影响。除了产生的废物量更少、生产效率更高外,还更轻便,储存和运输时更高效,这意味着在使用的各个阶段节省大量资金。然而,市场无法持续推动离型膜变得更薄。如果太薄,其将无法发挥作用。多年来,以纸张为基础的离型膜已证明其自身的价值,因此不会在一夜之间被取代。在压敏标签等特定关键领域,其仍然是至关重要且不可或缺的产品。传统的离型膜正发生改变,以满足多种需求,而传统纸张和有机硅离型膜将不会随处可见,而且随着环境问题变得越来越重要,尤其是在中国,合成塑料离型膜已成为一股新兴力量,可能会在未来发挥更重要的作用。日立LAB-X5000能量色散X射线荧光(EDXRF)光谱仪能够让有机硅涂层的重量分析变得更加轻松。这款坚固耐用、结构紧凑的分析仪可在实验室或生产环境中提供可靠且具有可重复性的结果。内置的大气补偿功能允许操作人员在无需氦气的情况下进行分析,从而将每次分析的成本降至最*低。应用工程师对分析方法参数进行了优化,方便对玻璃纸和粘土涂层纸进行快速而简单的分析。新型LAB-X5000可作为用户的质量保证计划的一部分,让用户全天24小时以较低的生产成本确保产品符合规范。日立已针对各种应用领域进行研究,并专业提供离型膜XRF分析解决方案。
  • 石墨烯“三防”涂层技术问世 填补市场空白
    p style="text-indent: 2em "在工业生产中,涂层最常起到抗腐蚀、抗热、抗氧化等功能。像海洋这种高盐高湿的恶劣环境,电化学腐蚀能在极短的时间内将钢铁船变成一块废铁,因此常采用阴极保护与防腐涂层结合的方法来保护船体及一些暴露在烟雾等腐蚀条件下的工件、设备或部分等。/pp style="text-indent: 2em "但对于舰船燃气轮机等在高温环境下的部件来说,需要的涂层不仅要耐湿耐腐蚀,同时还要有优异的耐高温性能。最近,一种石墨烯“三防”涂层技术已在秦皇岛经济技术开发区研发成功,可应用于舰船燃气轮机、航空航天发动机高温部件保护以及舰船防盐雾及海生物腐蚀等,有力地填补了高温涂层技术应用在重盐雾地区的市场空白。/pp style="text-indent: 2em "这种石墨烯“三防”涂层技术由远科秦皇岛节能环保科技开发有限公司历时3年多时间研发成功,相关涂层材料在南海、东海重盐雾地区的高温部件上挂件测试,通过6000小时连续工作验证,使原基材在不改变属性的情况下,增加3倍以上的使用寿命,经国家权威部门认定,该产品具有防霉菌、防盐雾腐蚀、抗高温氧化功效,完全可以满足高温条件下发动机热部件1500小时的应用,解决了我国在这一领域的技术难题。/pp style="text-indent: 2em "据了解,这种石墨烯涂料主要是碳原子和稀土氧化物原子复合而成,这种复合性碳原子保护共性材料,使基础材料强度增强,形成了超保护薄膜,从而改变了隔热系数。/pp style="text-indent: 2em "据远科秦皇岛节能环保科技开发有限公司总经理闫俊良透露,随着我国在石墨烯涂层技术上取得突破,它的应用领域会逐渐扩展,“三防”涂层技术除可应用于我国舰船燃气轮机、航空发动机领域外,还可在各种远洋运输船、游轮等民用船舶上使用。这种材料一旦得到应用,预计每年可为我国节省维护费用上百亿元,并使各类装备的使用寿命和强度大幅提升。/p
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