激光直写系统

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激光直写系统相关的厂商

  • 上海费米激光科技有限公司专业从事激光精密微加工系统、自动化配套系统研发、生产和销售,为客户提供1~500μm特征加工线宽的激光微孔、微槽、微焊接、划线、切割、打标雕刻、特征成型等解决方案。  费米激光成功开发出了一系列精密激光加工系统,如“微米级激光微孔加工系统”、“光纤激光精密切割系统”、“紫外激光微加工系统”、“二维码激光打标追溯系统”、“配套自动化系统”等等,广泛应用于生物科技、消费电子、汽车配件、电子电路、精密器械、印刷制版、仪器仪表、五金机电、陶瓷洁具、金银首饰、工艺礼品等众多行业。  同时,费米激光致力于开发激光应用仿真平台,从材料、激光、光学、运动控制、加工过程监测等角度,为激光应用提供完善可靠的技术支撑
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  • 本公司是一家专业从事激光产品研发的高科技公司,拥有雄厚的技术设计和生产能力,终身致力于为国内外客户提供品质优良、性能出众、价格有竞争力之产品。目前已开发出多种半导体激光产品,其中激光标线器是一种方便实用的标线工具。可广泛用于作服装钉钮点光源定位、裁布机裁布辅助标线、缝纫机/裁剪机/钉钮机/自动手动断布机辅助标线定位、裁床裁剪对格与对条、电脑开袋机标线等等。方便快捷、直观实用。。  产品主要包括:半导体激光器、激光准直光源、激光平行光管、激光标线仪、光学透镜、实验室教学光源、激光功率计等。  半导体激光器主要包括绿光(532nm)系列激光器、红光(635nm、650nm、780nm)系列激光器和红外(808nm、850nm、980nm)系列激光器。  激光准直光源主要包括:D-系列(点状光斑)激光器、L-系列(一字线)激光器、S-系列(十字线)激光器、T1-系列(功率可调)激光器、T2-系列(频率调制)激光器,P-系列(平行光管)激光器,B-系列激光标线仪。其中D-系列激光器光束发散度可达0.1mrad;L-系列激光器线宽最小可达0.3mm;调制(T2)激光器调制范围0-10KHz。P-系列激光平行光管口径可达40mm,光束发散度可达0.02mrad。  激光功率计可标定532nm、635nm、650nm、780nm、808nm、850nm、980nm、1100nm各波段,工作同时可监测电流。  我公司激光产品及光学产品可广泛应用于科研、工业、勘探、测量及医疗等领域。可以根据用户的特殊要求设计加工专用激光器及光学系统,也可以提供激光系统应用和特殊用途的批量供应。“团结、自信、坚韧、进取”是我们的企业宗旨,我们将一如既往地为用户提供高品质的产品。
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  • 北方光科激光技术(北京)有限公司成立于2009年,是一家集专业研发、生产、销售激光设备于一体的智能激光技术企业。公司生产的自主品牌“昂泰科”激光设备,涵盖激光熔覆、激光焊接、激光切割、激光打孔、激光打标和激光清洗等激光加工领域。公司设备受到国内外客户一致好评,远销俄罗斯、印度、奥地利等国家。 北方光科专注为客户提供工程机械、煤矿、化工、石油、能源科技等各行业的工艺配套解决方案。高速激光熔覆技术主要用于提高零件表面的耐磨、耐腐蚀、耐高温、及抗氧化等性能,从而达到表面改性或修复的目标,满足了对材料表面特定性能的要求。可实现对平板类、圆柱类及异形类工件的激光修复,为企业降低成本、节约材料、优化加工系统。公司激光设备产品系列从20w至8000w均可为广大企业专机定制,解决企业由复杂的工序转换成自动化生产加工提高工作效率。公司拥有一支优秀的管理团队,从企业创新到发展,核心团队始终保持凝聚力,积极进取。作为国内最早从事矿山行业智能化,信息化的一个群体,积累了丰富的技术及管理经验。
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激光直写系统相关的仪器

  • 激光直写光刻机 400-860-5168转4796
    PicoMaster ATE-150 PicoMaster ATE-150是一款具有超高精度组件的多功能紫外激光写入器,专为用户提供在感光层中创建最高自由度的微结构而设计。系统的光栅化工作原理,搭配上高速扫描以及可调螺距步进激光头,确保了整个曝光制程在感光层表面准确而稳定地完成。系统优点v系统支持高达4095级的灰度、纯二进制模式;v系统对准精度最高小于250纳米,线宽均匀性小于50纳米;v系统最大支持6英寸基版,200毫米/秒扫描速度,150x150毫米曝光面积;v系统采取全封闭结构设计,必需的部件、控制架构和真空泵都在外壳内,便于快速安装;v系统连接到空气温度调节器机组开始供应空调空气时,内置堆式过滤器将产生干净的交叉气流; v系统运动平台由机械缓振系统支撑,它将过滤掉绝大多数的噪音振动,以确保工作时的振动最小v紧凑型光学模块,将整个光路包含其内,这使得光路尽可能地缩短,与传统光学装置相比,其指向稳定性将大大提高; v为获得最佳的光斑形状,光学模块设计了光束整形光学元件,配合长寿命的405纳米氮化镓激光二极管进行光刻制程; v搭配拥有自主专利的高数值孔径物镜,这使得市场上最小的高质量激光束光斑成为现实;v光学模组中,650纳米红色激光控制自动对焦系统可自动校正高度变化。v选项:可根据要求提供375纳米波长的光学模块替换405纳米光学模组。 v选项:对于要求较低的任务,可通过使用全自动数值孔径开关来选择较大的光斑大小。此开关允许系统使用更大的光斑尺寸来提高直写速度。 v选项:系统配备375 纳米光学模块后,将支持用户使用仅适用于I-line光源的光阻,而光斑尺寸会减小到270纳米,这将允许系统以更高的分辨率写入线条。 光学系统直写激光405纳米或375纳米激光寿命超过10000个工时,5年以上;激光强度光斑强度最大3毫瓦,可由软件控制;灰度控制4095级直写模式直写精度0.3微米, 0.6微米, 0.9微米曝光区域最大150x150毫米基版尺寸最小5x5毫米, 最大160x160毫米直写表征线宽尺寸最小0.3微米
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  • 传统的光刻工艺中所使用的铬玻璃掩模板需要由专业供应商提供,但是在研发环境中,掩模板的设计通常需要经常改变。激光直写光刻技术通过以软件设计电子掩模板的方法,克服了这一问题。与通过物理掩模板进行光照的传统工艺不同,激光直写是通过电脑软件控制,在光刻胶上直接曝光绘出所要的图案,无需掩膜工序。绝大多数利用电子束刻蚀制造的器件只有很小的一部分结构需要用到电子束刻蚀的高分辨率,而大部分曝光时间都浪费在了如电极连接等大面积结构的生成上。Microtech可以被用在混合模式刻蚀工艺上:只用费用昂贵、速度缓慢的电子束刻蚀加工细小的结构,用成本低廉的Microtech加工大面积部分。Microtech先进的对准机制可以使两部工序完美结合。因此Microtech也适用于已经拥有电子束刻蚀的实验环境。Microtech是直写刻蚀领域畅销品牌,其创新技术和稳定系统源自美国麻省理工林肯国家实验室,LW405D系列转为科研实验室和小型超净室设计开发的多功能光刻系统,适用于快速微纳米加工和小规模生产,除了可达高分辨的线宽外,其稳定性和多功能性也得到业界的一致认可和好评。Microtech做为世界上很早研发激光光刻技术的供应商,打破了以往的激光直写设备高昂价格壁垒,使得研究人员可以理工与传统光刻机相当的成本完成更具灵活性的激光直写光刻工艺。
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  • 是一个高价值的直写激光光刻机系统,面向大学和研究机构寻求扩大他们的能力。它用亚微米像素分辨率的405nm激光在光敏抗蚀剂涂层表面大面积书写。你可以写任何东西,从光掩模到基础科学或应用科学的研究原型,集成相机可以用来调整现有的功能写。我们对其进行了优化,以便于使用和简单维护,最大限度地利用现成的部件,而不牺牲书写质量或功能。直接激光书写光刻直接激光光刻技术通过消除光掩模生产对外部供应商的依赖,大大降低了微流体、微电子、微机械和材料科学研究等领域的成本和执行时间。其控制软件在PC上提供。它允许您从GDSII文件的单元格或直接从PNG图像导入要写入的设计。一切都是通过一个用户友好的图形界面来完成的,它允许您在执行之前预览要编写的设计。除了对每个设计应用旋转、反射、反转或比例调整等变换外,还可以在单个过程中组合多个设计。在确定了设计方案后,采用了所包含的工作台控制模块和共焦显微镜。使用它们,您可以设置基片上工艺的原点位置和感光表面上的焦平面。接下来执行该过程并将设计写在表面上。技术指标:XY工作台典型写入速度:100-120 mm/s最大面积:100x92 mm^2最小面积:没有最小面积单向定位台阶:X=0.16µ m,Y=1.00µ m慢速X轴上的机械噪声:1µ m快速Y轴上的机械噪声:1µ m多层对准精度:5-10µ m(可选旋转台,便于对准)实际最小特征尺寸:6-15µ m,取决于特征(示例见下图) 软件支持的格式:PNG、GDSII在软件转换:,旋转、反射、反转、重缩放、添加边框-可以在一个进程中编写来自不同文件的多个设计-通过3点线性或4点双线性聚焦测量进行倾斜/翘曲基板补偿-全床曲率补偿的网格型标定 光学-激光波长:405nm(可选375nm)-激光聚焦、对准和检测用共焦显微镜-二次独立黄色照明-激光光斑尺寸可以使用工业标准显微镜物镜改变 精度:-精细:0.8µ m-介质:2µ m-粗粒:5µ m 大面积包含目标的有效书写速度(单向书写):-精细:1.7 mm^2/min-中等:4.25 mm^2/min-粗糙度:10.6 mm^2/min在双向写入模式下速度加倍。
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激光直写系统相关的资讯

  • 1030万!哈尔滨工程大学电致发光器件综合特性测量系统及激光直写系统采购项目
    一、项目基本情况项目编号:HTCL-ZB-236129项目名称:哈尔滨工程大学电致发光器件综合特性测量系统及激光直写系统采购及服务预算金额:1030.000000 万元(人民币)最高限价(如有):1030.000000 万元(人民币)采购需求:1套电致发光器件综合特性测量系统,其他要求详见招标文件。1套激光直写系统,其他要求详见招标文件。合同履行期限:合同签订后12个月内完成所有设备到货、所有设备调试完毕并具备验收条件。本项目( 不接受 )联合体投标。二、获取招标文件时间:2023年11月06日 至 2023年11月10日,每天上午8:30至11:30,下午13:00至17:00。(北京时间,法定节假日除外)地点:黑龙江省招标有限公司方式:现场获取。售价:¥500.0 元,本公告包含的招标文件售价总和三、对本次招标提出询问,请按以下方式联系。1.采购人信息名 称:哈尔滨工程大学     地址:哈尔滨市南岗区南通大街145号        联系方式:0451-82519862      2.采购代理机构信息名 称:黑龙江省招标有限公司            地 址:哈尔滨市南岗区汉水路180号            联系方式:陆超、温智伟 电话:0451-82375252            3.项目联系方式项目联系人:陆超、温智伟电 话:  0451-82375252
  • 新型激光直写无掩模光刻机在孚光精仪发布问世
    孚光精仪在上海,天津同时发布一款新型激光直写式雾无掩模光刻系统。这款无掩模光刻机是一款高精度的激光直写光刻机。这套无掩模光刻机具有无掩模技术的便利,大大提高影印和新产品研发的效率,节省时间,是全球领先的无掩模光刻系统。这款激光直写无掩模光刻机直接用375nm或405nm紫外激光把图形写到光胶衬底上。 激光直写无掩模光刻系统特色尺寸:925x925x1600mm内置计算机控制接口激光光源:375nm或405nm视频辅助定位系统自动聚焦设置 详情浏览:http://www.f-opt.cn/guangkeji.html 激光直写无掩模光刻机参数线性写取速度:500mm/s位移台分辨率:100nm重复精度: 100nm晶圆写取面积:1—6英寸衬底厚度:250微米-10毫米激光点大小:1-100微米准直精度:500nm Email: info@felles.cn 或 felleschina@outlook.com Web: www.felles.cn (激光光学精密仪器官网) www.felles.cc (综合性尖端测试仪器官网) www.f-lab.cn (综合性实验室仪器官网) Tel: 021-51300728, 4006-118-227
  • 飞秒激光直写双刺激协同响应的水凝胶微致动器研究获进展
    在自然界中生物能够对外界刺激做出反应并产生特定的形状变化,这种响应行为对生物体的生存和繁衍至关重要。在众多材料中,水凝胶因其模量适中,刺激响应条件多样以及生物相容性好等因素而引起了广泛关注。随着仿生学以及材料科学的发展,能够感知和响应外部刺激的智能水凝胶致动器在软体机器人、传感和远程操控等领域显示出良好的应用前景。目前,微加工技术已经将响应型水凝胶致动器的尺寸缩小到微米级。然而,如何在微尺度下构建能够对复杂的微环境进行多重响应的水凝胶微致动器仍然是一个挑战。   近日,中国科学院理化技术研究所研究员郑美玲团队在双刺激协同响应的水凝胶微致动器的研究工作中取得进展。团队通过非对称飞秒激光直写加工制备了一种双刺激协同响应的水凝胶微致动器。该水凝胶微结构对pH/温度的双重协同响应是通过添加功能单体2-(二甲基氨基)乙基甲基丙烯酸酯实现的。通过水凝胶微结构的拉曼光谱分析,解释了不同pH和温度下协同响应的产生机制,并且展示了由pH或温度控制的聚苯乙烯微球的捕获。该研究为设计和制造可控的微尺度致动器提供了一种策略,并在微机器人和微流体中具有应用前景。研究成果发表于Small 。   飞秒激光直写加工技术由于具有超高的空间分辨率、三维加工能力和无需实体掩膜等特点,被广泛用于制备各种三维微结构。研究人员利用含有功能单体的光刻胶,通过调整激光功率、扫描速度和扫描策略实现了具有不对称交联密度的双重响应水凝胶微结构的制备(图1)。   进一步地,研究人员制备了含有三个不对称微臂的微致动器来提高对不同环境的刺激响应能力。该微致动器由三个交联密度交替分布的微臂组成。为了更加方便地展示水凝胶微致动器在不同温度及pH条件下的可控性,研究还使用了直径10微米的聚苯乙烯微球作为目标颗粒在不同条件下进行捕获(图2)。   此外,研究人员还描述了一种具有双刺激协同响应特性的微致动器(图3),其具有的更为丰富的形状变化是由温度升高时的氢键断裂与酸性条件下叔胺基的质子化同时作用产生的。该研究提出的双重刺激协同响应特性相较于单一响应刺激赋予了微制动器更大的可操控性,这一特性使其在微操纵和微型软体机器人方面具有潜在应用。图1 双刺激协同响应型水凝胶微致动器的制备与响应机制图2 双重刺激响应型水凝胶微致动器的捕获行为图3 水凝胶微致动器的双重刺激协同响应特性

激光直写系统相关的方案

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激光直写系统相关的论坛

  • 【分享】激光雷达/激光探测及测距系统

    【分享】激光雷达/激光探测及测距系统

    激光雷达可以按照所用激光器、探测技术及雷达功能等来分类。目前激光雷达中使用的激光器有二氧化碳激光器,Er:YAG激光器,Nd:YAG激光器,喇曼频移Nd:YAG激光器、GaAiAs半导体激光器、氦-氖激光器和倍频Nd:YAG激光器等。其中掺铒YAG激光波长为2微米左右,而GaAiAs激光波长则在0.8-0.904微米之间。根据探测技术的不同,激光雷达可以分为直接探测型和相干探测型两种。其中直接探测型激光雷达采用脉冲振幅调制技术(AM),且不需要干涉仪。相干探测型激光雷达可用外差干涉,零拍干涉或失调零拍干涉,相应的调谐技术分别为脉冲振幅调制,脉冲频率调制(FM)或混合调制。按照不同功能,激光雷达可分为跟踪雷达,运动目标指示雷达,流速测量雷达,风剪切探测雷达,目标识别雷达,成像雷达及振动传感雷达。激光雷达最基本的工作原理与无线电雷达没有区别,即由雷达发射系统发送一个信号,经目标反射后被接收系统收集,通过测量反射光的运行时间而确定目标的距离。至于目标的径向速度,可以由反射光的多普勒频移来确定,也可以测量两个或多个距离,并计算其变化率而求得速度,这是、也是直接探测型雷达的基本工作原理。由此可以看出,直接探测型激光雷达的基本结构与激光测距机颇为相近。相干探测型激光雷达又有单稳与双稳之分,在所谓单稳系统中,发送与接收信号共同在所谓单稳态系统中,发送与接收信号共用一个光学孔径。并由发射/接收(T/R)开头隔离。T/R开关将发射信号送往输出望远镜和发射扫描系统进行发射,信号经目标反射后进入光学扫描系统和望远镜,这时,它们起光学接收的作用。T/R开关将接收到的辐射送入光学混频器,所得拍频信号由成像系统聚焦到光敏探测器,后者将光信号变成电信号,并由高通滤波器将来自背景源的低频成分及本机振荡器所诱导的直流信号统统滤除。最后高频成分中所包含的测量信息由信号和数据处理系统检出。双稳系统的区别在于包含两套望远镜和光学扫描部件,T/R开关自然不再需要,其余部分与单稳系统的相同。美国国防部最初对激光雷达的兴趣与对微波雷达的相似,即侧重于对目标的监视、捕获、跟踪、毁伤评(SATKA)和导航。然而,由于微波雷达足以完成大部分毁伤评估和导航任务,因而导致军用激光雷达计划集中于前者不能很好完成的少量任务上,例如高精度毁伤评估,极精确的导航修正及高分辨率成像。较早出现的一种激光雷达称为“火池”,它是由美国麻省理工学院的林肯实验室投资,于60年代末研制的。70年代初,林肯实验室演示了火池雷达精确跟踪卫星,获得多普勒影像的能力。80年代进行的实验证明,这种CO2激光雷达可以穿透某些烟雾,识破伪装,远距离捕获空中目标和探测化学战剂。发展到80年代末的火池激光雷达,采用一台高稳定CO2激光振荡器作为信号源,经一台窄带CO2激光放大器放大,其频率则由单边带调制器调制。另有工作于蓝-绿波段的中功率氩离子激光与上述雷达波束复合,用于对目标进行角度跟踪,而雷达波束的功能则是收集距离――多普勒影像,实时处理并加以显示。两束波均由一个孔径为1.2M的望远镜发射并接收。据报道,美国战略防御局和麻省理工学院的研究人员于1990年3月用上述装置对一枚从弗吉尼亚大西洋海岸发射的探空火箭进行了跟踪实验。在二级点火后6分钟,火箭进入亚轨道,即爬升阶段,并抛出其有效负载,即一个形状和大小均类似于弹道导弹再入飞行器的可充气气球。该气球有气体推进器以提供与再入飞行器和诱饵的物理结构相一致的动力学特性。目标最初由L波段跟踪雷达和X波段成像雷达进行跟踪。并将这些雷达传感器取得的数据交给火池激光雷达,后者成功地获得了距离约800千米处目标的像。[~116966~][~116967~][~116968~][img]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2017/01/201701191651_624049_1602049_3.jpg[/img]

  • 【资料】美开发出利用激光分离细胞新系统

    近日,美国麻省理工学院利用造价低廉的激光开发出一种从样品中分离某些细胞的新系统。该系统能在普通的玻璃载玻片上分离出1万多种细胞,这将有助于研究人员轻松完成许多在以前看来不可能的生物实验。而且,与其他细胞分离方法相比,该系统分离速度快、操作简单且价格便宜。这一研究结果刊登在12月15日的《分析化学》(Analytical Chemistry)上。 此前,细胞分离系统都是将样品与可跟特定蛋白质或其他成分反应的标记物混合,然后根据样品是否发出荧光来分离细胞。新系统将根据细胞中某些特定部分的反应来进行更加细致的细胞分离。另外,系统还能根据反应速度的快慢以及持续时间的长短来分离细胞,而用传统分离办法完成这些工作是不可能的。 新系统仅利用一个固定在普通玻璃载玻片上的透明有机硅薄层。硅层中分布了很多小空穴,使样品溶液中的细胞能沉淀在其中。经过如此改装的载玻片就能帮助研究人员分离出上万个细胞。 通过显微镜,研究人员或计算机系统能仔细察看细胞是否在特定区域或时间发出荧光。一旦发现发出荧光的细胞,计算机将自动记录其位置。然后,所有被记录下来的细胞将在激光束的作用下从空穴中浮出,最后这些细胞经液体冲刷后就可收集到容器中。 该系统的研发人员称,用激光束使细胞从空穴中浮出来,就像用消防管的水推动一个充气球。但激光的作用非常轻柔,不会使细胞受到损伤。 与光镊等昂贵的分离技术不同,这个系统的成本仅为几千美元,因此可广泛应用于生物实验室和临床研究机构。研究人员预计,该系统将在临床试验与诊断、基因筛选以及克隆研究等方面发挥重要作用。(来源:科技日报 徐玢) (《分析化学》(Analytical Chemistry),79 (24), 9321 -9330, 2007. 10.1021/ac071366y S0003-2700(07)01366-2,J. R. Kovac and J. Voldman)

激光直写系统相关的耗材

  • 飞秒激光直写光刻系统配件
    秒激光直写光刻系统配件是专业为微纳结构的激光蚀刻而设计的激光直写光刻机,基于多光子聚合技术,适合市场上的各种光刻胶,能够以纳米精度和分辨率微纳加工各种三维结构。秒激光直写光刻系统配件特点激光光刻机3D模型制备直写光刻机直接激光刻划 激光光刻机整套系统到货即可使用激光光刻机提供100nm-10um的分辨率直写光刻机超小尺寸 激光光刻机3D模型的制备 这套三维光刻机由激光微加工系统软件控制,简单的3D模型通过这种软件即可生成,对于比较复杂的3D模型,用户可以通过Autodesk, AutoCAD等软件制作,然后导入到三维光刻机的软件中,这个软件支持.stl, dxf等格式的文件用于3D结构的制造。 激光光刻机激光直接读写 这套激光光刻机由飞秒激光光源,精密的3轴定位台和扫描镜组成。首先,待刻录的图形通过激光光刻机精密的激光聚焦系统直接从CAD设计中导入到光刻胶上。聚合物的双光子或多光子吸收用于形成高质量表面的3D结构。,这套激光蚀刻机提供纳米尺度分辨率和对聚合物的广泛选择,从而可以适合微纳光学,微流体,MEMS,功能表面制作等各种应用. 与CAD设计等同的3D结构形成后,未固化的光刻胶剩余物由有机溶剂洗掉,这样只留下蚀刻的微纳结构呈现在基板上。 激光光刻机后续工序: 在所需的微纳结构形成后,它被浸入到几种不同的溶剂中,以除去蚀刻过程中留下的液态聚合物。激光光刻机全部过程都是自动化的,重要参数可以根据要求而设定:浸入时间,温度等.对于特殊的样品或加工对象,可以使用紫外光或干燥机处理。秒激光直写光刻系统配件应用 ?激光光刻机用于纳米光子器件(三维光子晶体) ? 三维光刻机用于微流控芯片 ? 三维光刻机用于微光学(光学端面微结构制作) ? 激光光刻机制作机微机械 ?激光蚀刻机制作微型光机电系统 ? 激光光刻机,三维光刻机用于生物医学
  • 微结构加工服务 激光微加工 微结构激光刻蚀
    上海屹持光电技术有限公司专业提供各种微纳结构加工服务典型案例: FIB加工微纳结构 紫外光刻微纳结构单晶硅反应离子刻蚀图片 ICP刻蚀微纳结构纳米压印点线图微流控细胞打印EBL 刻写微纳阵列FIB用于器件电极沉积激光直写图案激光直写器件微纳结构加工主要设备1,电子束曝光系统;2,聚焦离子束/ 扫描电子显微镜双束系统;3,双面对准接触式紫外光刻机;4,单面对准紫外光刻机;5,金属高密度等离子体刻蚀机;6,硅刻蚀高密度等离子体刻蚀机;7,反应等离子体刻蚀机;8,纳米压印机。
  • 激光脉冲选通系统
    高重复频率(10KHz、20KHz、50KHz、100KHz)激光脉冲选通系统高速激光脉冲选通系统专门为再生激光放大种子注入和脉冲提取而设计,也适合激光脉冲拾取/斩波、锁模脉冲选通、Q开关和倒腔应用。该高速激光脉冲选通系统适合腔内和腔外两种应用,脉冲上升时间和下降时间短至3ns, 它提供了可靠、全固态、高电压开关设计和优良的电光普克尔盒方案。高速激光脉冲选通系统利用高速HV MOSFET开关电路和普克尔盒技术,提供了4种重复频率/电压范围,它使用方便,寿命长,可靠性强,无噪音。高速激光脉冲选通系统高压MOSFET开关模块比较适合RTP电光调制器在550&mdash 2000nm范围内的半波电压,也适合BBO电光调制器在200-532nm上的电压需求。用户只需要旋转控制器面板上的旋钮,就能使得系统在全部电压范围上工作---从小于四分之一电压到半波电压而损失其效率或改变上升和下降时间。与该高速激光脉冲选通系统相配备的电光调Q模块主要有两种:一种是1147型RTP普克尔盒,另一种是1150系列BBO普克尔盒。这两种普克尔和的资料在普克尔和专栏中给出。高速激光脉冲选通系统参数:光谱范围:200-2200nm最大输出脉冲@PRF: 10KHz, 20Khz, 50KHz, 100KHz上升时间:3-4ns光学脉宽:输入输出脉冲延迟:50ns-1000ns输出脉冲抖动:更多高速激光脉冲选通系统,激光脉冲选通系统,脉冲选通系统内容请浏览:
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