激光直写系统

PicoMaster ATE-150 PicoMaster ATE-150是一款具有超高精度组件的多功能紫外激光写入器，专为用户提供在感光层中创建最高自由度的微结构而设计。系统的光栅化工作原理，搭配上高速扫描以及可调螺距步进激光头，确保了整个曝光制程在感光层表面准确而稳定地完成。系统优点v系统支持高达4095级的灰度、纯二进制模式；v系统对准精度最高小于250纳米，线宽均匀性小于50纳米；v系统最大支持6英寸基版，200毫米/秒扫描速度，150x150毫米曝光面积；v系统采取全封闭结构设计，必需的部件、控制架构和真空泵都在外壳内，便于快速安装；v系统连接到空气温度调节器机组开始供应空调空气时，内置堆式过滤器将产生干净的交叉气流； v系统运动平台由机械缓振系统支撑，它将过滤掉绝大多数的噪音振动，以确保工作时的振动最小v紧凑型光学模块，将整个光路包含其内，这使得光路尽可能地缩短，与传统光学装置相比，其指向稳定性将大大提高； v为获得最佳的光斑形状，光学模块设计了光束整形光学元件，配合长寿命的405纳米氮化镓激光二极管进行光刻制程； v搭配拥有自主专利的高数值孔径物镜，这使得市场上最小的高质量激光束光斑成为现实；v光学模组中，650纳米红色激光控制自动对焦系统可自动校正高度变化。v选项：可根据要求提供375纳米波长的光学模块替换405纳米光学模组。 v选项：对于要求较低的任务，可通过使用全自动数值孔径开关来选择较大的光斑大小。此开关允许系统使用更大的光斑尺寸来提高直写速度。 v选项：系统配备375 纳米光学模块后，将支持用户使用仅适用于I-line光源的光阻，而光斑尺寸会减小到270纳米，这将允许系统以更高的分辨率写入线条。 光学系统直写激光405纳米或375纳米激光寿命超过10000个工时，5年以上；激光强度光斑强度最大3毫瓦，可由软件控制；灰度控制4095级直写模式直写精度0.3微米, 0.6微米, 0.9微米曝光区域最大150x150毫米基版尺寸最小5x5毫米, 最大160x160毫米直写表征线宽尺寸最小0.3微米

传统的光刻工艺中所使用的铬玻璃掩模板需要由专业供应商提供，但是在研发环境中，掩模板的设计通常需要经常改变。激光直写光刻技术通过以软件设计电子掩模板的方法，克服了这一问题。与通过物理掩模板进行光照的传统工艺不同，激光直写是通过电脑软件控制，在光刻胶上直接曝光绘出所要的图案，无需掩膜工序。绝大多数利用电子束刻蚀制造的器件只有很小的一部分结构需要用到电子束刻蚀的高分辨率，而大部分曝光时间都浪费在了如电极连接等大面积结构的生成上。Microtech可以被用在混合模式刻蚀工艺上：只用费用昂贵、速度缓慢的电子束刻蚀加工细小的结构，用成本低廉的Microtech加工大面积部分。Microtech先进的对准机制可以使两部工序完美结合。因此Microtech也适用于已经拥有电子束刻蚀的实验环境。Microtech是直写刻蚀领域畅销品牌，其创新技术和稳定系统源自美国麻省理工林肯国家实验室，LW405D系列转为科研实验室和小型超净室设计开发的多功能光刻系统，适用于快速微纳米加工和小规模生产，除了可达高分辨的线宽外，其稳定性和多功能性也得到业界的一致认可和好评。Microtech做为世界上很早研发激光光刻技术的供应商，打破了以往的激光直写设备高昂价格壁垒，使得研究人员可以理工与传统光刻机相当的成本完成更具灵活性的激光直写光刻工艺。

是一个高价值的直写激光光刻机系统，面向大学和研究机构寻求扩大他们的能力。它用亚微米像素分辨率的405nm激光在光敏抗蚀剂涂层表面大面积书写。你可以写任何东西，从光掩模到基础科学或应用科学的研究原型，集成相机可以用来调整现有的功能写。我们对其进行了优化，以便于使用和简单维护，最大限度地利用现成的部件，而不牺牲书写质量或功能。直接激光书写光刻直接激光光刻技术通过消除光掩模生产对外部供应商的依赖，大大降低了微流体、微电子、微机械和材料科学研究等领域的成本和执行时间。其控制软件在PC上提供。它允许您从GDSII文件的单元格或直接从PNG图像导入要写入的设计。一切都是通过一个用户友好的图形界面来完成的，它允许您在执行之前预览要编写的设计。除了对每个设计应用旋转、反射、反转或比例调整等变换外，还可以在单个过程中组合多个设计。在确定了设计方案后，采用了所包含的工作台控制模块和共焦显微镜。使用它们，您可以设置基片上工艺的原点位置和感光表面上的焦平面。接下来执行该过程并将设计写在表面上。技术指标：XY工作台典型写入速度：100-120 mm/s最大面积：100x92 mm^2最小面积：没有最小面积单向定位台阶：X=0.16µ m，Y=1.00µ m慢速X轴上的机械噪声：1µ m快速Y轴上的机械噪声：1µ m多层对准精度：5-10µ m（可选旋转台，便于对准）实际最小特征尺寸：6-15µ m，取决于特征（示例见下图） 软件支持的格式：PNG、GDSII在软件转换：，旋转、反射、反转、重缩放、添加边框-可以在一个进程中编写来自不同文件的多个设计-通过3点线性或4点双线性聚焦测量进行倾斜/翘曲基板补偿-全床曲率补偿的网格型标定 光学-激光波长：405nm（可选375nm）-激光聚焦、对准和检测用共焦显微镜-二次独立黄色照明-激光光斑尺寸可以使用工业标准显微镜物镜改变 精度：-精细：0.8µ m-介质：2µ m-粗粒：5µ m 大面积包含目标的有效书写速度（单向书写）：-精细：1.7 mm^2/min-中等：4.25 mm^2/min-粗糙度：10.6 mm^2/min在双向写入模式下速度加倍。

PicoMaster ATE-200无掩模激光直写光刻机●250纳米分辨率（375纳米激光源）●300纳米分辨率（405纳米激光源）●4095灰阶●业界最具实力的成套全息设计软件●最大230x230毫米基板尺寸 PicoMaster 200 是一款具有超高精度组件的多功能紫外激光写入器，专为用户提供在感光层中创建最高自由度的微结构而设计。系统的光栅化工作原理，搭配上高速扫描以及可调螺距步进激光头，确保了整个曝光制程在感光层表面准确而稳定地完成。PicoMaster 200 广泛应用于半导体光刻，LED芯片，微流控芯片，微纳结构，灰度光刻 ，三维加工全息影像等多个领域。系统优点：√ 系统支持高达4095级的灰度、纯二进制模式；√ 系统对准精度最高小于250纳米，线宽均匀性小于50纳米；√ 系统最大支持9英寸基版，400毫米/秒扫描速度，200x200毫米曝光面积；√ 系统采取全封闭结构设计，必需的部件、控制架构和真空泵都在外壳内，便于快速安装；√ 统连接到空气温度调节器机组开始供应空调空气时，内置堆式过滤器将产生干净的交叉气流； √ 系统运动平台由机械缓振系统支撑，它将过滤掉绝大多数的噪音振动，以确保工作时的振动最小激光直写：√ 系统使用405纳米（可升级375纳米）激光源在感光层上曝光，不需订购或制作掩模，图案可随用户设计而改变；√ 系统不使用掩模版，只需在基版上涂胶后用紫外激光聚焦进行曝光，激光在靶区被连续地调制到规定的剂量； √ 光刻胶在激光照射下会改变其化学结构，曝光后很容易溶解在显影剂中，只需暴露部分区域就可以形成目标的图案。 无掩模激光直写系统性能规格：

MicroMaster 激光直写光刻机MicroMaster 是一款多功能的紫外激光写入器，具有高精度的组件，专为用户在感光层上设计创建最高自由度的微结构。 MicroMaster 是一个完整的操作系统。它拥有405纳米波长光学模块，能够在光阻层中写入最小0.8微米的结构。这个用户友好的工具支持高达4095级的灰度或纯二进制模式，并允许3D光学结构，表面结构以及掩模项目。 激光控制的实时自动对焦和激光强度控制，确保整个曝光过程中的高质量成像。 MicroMaster 广泛应用于半导体光刻, LED芯片, 微流控芯片, 微纳结构, 灰度光刻, 三维加工, 全息影像等多个领域。MicroMaster 无掩模激光直写系统性能规格

德国Nanoscribe公司2018年底全新推出的微纳3D打印系统 - Photonic Professional GT2 (PPGT2)为2014年该公司在美国旧金山举行的的西部光电展上赢得 Prism Award（俗称为光学领域奥斯卡奖的棱镜奖）的Photonic Professional GT (PPGT)的升级版本。相对于PPGT，该升级系统为样品加工部件增强了防护设施，使得该系统在非理想的环境光和震动条件下都能够稳定操作。此外，拥有更简便操作的新系统真正实现了CAD模型的快速成像，所见即所得。PPGT2系统在保持并优化了基于双光子聚合技术的超高精度3D打印的同时，使得所能加工的样品高度和体积也得到了大大的提高 - 160nm最低打印线宽/100*100mm2最大打印面积/8mm最大打印高度，大大拓宽了原设备的应用领域。作为德国全进口的3D打印设备，Nanoscribe双光子微纳米激光直写系统PPGT2在保持并优化了基于双光子聚合技术的超高精度3D打印的同时，也从系统本身以及用户界面等各个方面进行了面向客户需求的重新设计。作为全球zui高精度的微纳3D打印系统，该系统的高度自动化，高度易用性的特点使得多个高精尖领域的微纳米精度的3D加工可以轻松的实现，拓展了人类精密加工的应用范围。技术参数产地：德国全进口技术：逐层双光子光固化三维最小横向特征尺寸：160nm横向分辨率：400nm最佳纵向分辨率：1000nm层厚：0.3-5.0μm普通样品最高打印高度：8mm专用于科学研究和快速成型，可应用于：微流道微机械生物医学工程微机电系统机械超材料光学超材料和表面等离子元微光学等更多有待开发的微纳米结构纳糯三维科技（上海）有限公司作为德国Nanoscribe独资子公司扩大了亚太地区业务范围，同时也加强了售后服务支持。

PicoMaster XF ATE-500 是一款具有超高精度的多功能紫外激光直写设备，它具有每毫米超过1200条线的输出能力，特别适合用户在光敏层上自由地创造微结构。独有的全息设计软件，提供了许多预先安装的全息效果及其光栅、结构的运算方法，它们可以很轻松地将把这些效果组合起来，十分利于用户的产品开发。同时软件也允许用户添加自己的算法和结构，来定制数据库、完善产品设计。系统优点v使用GLV （Grating Light Valve）技术，可实现高达1000个单位像素的激光束高速并行直写；v构建独立设计库，可完成最高自由度的3D光刻，并支持标准图像源、个性化的3D设计源；v支持最大 0.5米 x 0.5米的激光直写面积，低规格条件下，直写只需55个小时；v选择关闭灰度写入功能，直写相同曝光面积，其直写速度将提升2倍；v可定制更大幅面的无掩模激光直写系统解决方案.大幅面无掩模激光直写系统应用效果性能规格

PicoMaster ATE-100 无掩模激光直写光刻机●250纳米分辨率（375纳米激光源）●300纳米分辨率（405纳米激光源）●4095灰阶●业界最具实力的成套全息设计软件●最大125x125毫米基板尺寸PicoMaster 100 采用波长405纳米二极管激光器，它拥有市场上最小的300纳米激光分辨率。升级375纳米激光源，可以更好地兼容市面上I-line光刻胶材，从而满足更高级别的应用需求。备用光学模块，将大大的降低机器停机时间。更为人性化的软件设计，大大提升了用户实际操作效率，它将是您科学研究、实验开发、设计创新，理想的光学伙伴。PicoMaster 100广泛应用于半导体光刻, LED芯片,微流控芯片,微纳结构,灰度光刻,三维加工,全息影像等多个领域。PicoMaster 100 无掩模激光直写系统性能规格

PicoMaster XF ATE-800 是一款具有超高精度的多功能紫外激光直写设备，它具有每毫米超过1200条线的输出能力，特别适合用户在光敏层上自由地创造微结构。独有的全息设计软件，提供了许多预先安装的全息效果及其光栅、结构的运算方法，它们可以很轻松地将把这些效果组合起来，十分利于用户的产品开发。同时软件也允许用户添加自己的算法和结构，来定制数据库、完善产品设计。系统优点使用GLV （Grating Light Valve）技术，可实现高达1000个单位像素的激光束高速并行直写；构建独立设计库，可完成最高自由度的3D光刻，并支持标准图像源、个性化的3D设计源；支持最大 0.8米 x 0.8米的激光直写面积，低规格条件下，整幅面激光直写只需48个小时；选择关闭灰度写入功能，直写相同曝光面积，其直写速度将提升2倍；可定制更大幅面的无掩模激光直写系统解决方案；

Dilase 250 一款桌面式精密激光直写设备 Dilase 250是一款桌面式精密激光直写设备，非常适用于快速打样、光刻掩模版加工以及微加工应用。Dilase 250采用KLOE公司研发的光路设计，具有较大的聚焦景深，该设计辅以自动控制的参考标准，使之在无需设置自动聚焦的情况下保证良好的直接精度和重复性。 我们专注于核心技术：激光光源：Dilase 250激光光源的波长可以配置为375nm或405nm，从而满足市场上大多数的商业化光刻胶的直写应用。包括激光探头在内的Dilase250的整个光路系统都是固定的，这保证了设备在工作过程中的稳定性和可靠性。 激光光斑聚焦系统采用光学管技术，光源经过滤波、均一、聚焦等处理，形成直写光斑，实现高精度激光直写。 样品台样品台采用该精度位移台，驱动样品按照软件设定的图形进行移动，在此过程中，激光头保持在固定位置，实现大尺寸、高精度、无拼接图形直写。 技术特色： 1. 超大可视窗口Dilase 250配备了一个超大可视窗口，可以直观地观测整个工作过程；同时，该窗口也方便操作人员完成上下料。 2. 高深宽比结构加工Dilase 250独特的聚焦光路设计使之可以轻松完成深宽比20：1的微结构的加工，同时可定制满足50：1深宽比结构加工。 3. zui大直写面积：100mm*100mm设备配置的精密位移台满足100mm*100mm尺寸样品的直写，位移台放置在大理石台面上，并具备防震设计，保证设备的稳定性。 4. 激光光源采用高稳定性固态激光器，波长375nm或405nm可选，工作寿命大于10000小时，无需预热等待。 5. 友好的操作系统硬件方面设备配置预装直写软件的电脑一台，设备上装有主开关和急停开关，操作窗装有安全传感器，只有在操作窗口关闭情况下激光器才会开启，保证操作人员的安全。设备预装了DilaseSoft直写软件，兼容LWO、GDS2、DXF格式文件。 6. 不同直写模式实现高速和高精度兼得Dilase250是市场上一款具备三种直写模式的激光直写设备，即扫描模式、矢量模式和扫描+矢量模式，实现高速和高精度兼得。 规格参数 性能参数分辨率： 100nm线性直写速度： 100mm.s-1样品台位移精度：100nm standard 40nm optional重复性误差：100nm多层对位精度： 1μm定位精度：3μm / 100mm直写精度：100nm +/- 3μm正交性：1mRad 激光光源波长： 375nm 或者 405nm激光光斑： 1um-50um可选 样品载台：样品大小：From 3x3mm2 to 4" Up to 5" for squarezui大直写面积：100mm * 100mm样品厚度：250um – 5mm

双光子聚合激光直写3D纳米光刻机MicroFAB-3D双光子聚合3D纳米光刻机是一款超紧凑、超高分辨率交钥匙型3D打印机。双光子聚合3D纳米光刻机基于双光子聚合(TPP)激光直写技术，兼容多种高分子材料，包括生物材料。MicroFAB-3D 3D纳米光刻机帮助您以亚微米的分辨率生产出前所未有的复杂的微部件，MicroFAB-3D的zui小特征尺寸可低至0.2um宽，为微流体、微光学、细胞培养、微机器人或元材料领域开辟了新的前景。MicroFAB-3D具有开放性和适应性，可以满足您的个性需求。双光子聚合激光直写3D纳米光刻机关键特性：较高的直写精度和分辨率(可达0.2um)（已有客户使用此设备实现低至67nm分辨率的结构）直写速度快兼容任何CAD模型和文件兼容广泛的聚合物，以及生物材料紧凑的设计适用于层流架适用于无菌、无尘室以及工业环境双光子聚合激光直写3D纳米光刻机核心优势：新的TPP切片工具复杂的3D结构下高直写速度三维微零件无形状限制适用于微部件、微流体、超材料、细胞培养、微机器人、微力学、组织工程、表面结构或任何你可能拥有的微制造理念的技术。双光子聚合激光直写3D纳米光刻机规格指标：双光子聚合激光直写3D纳米光刻机适用材料：我们为我们的双光子聚合激光直写3D纳米光刻机提供了10种zhuanli光刻胶，这些树脂的各种性能允许您探索许多应用领域。我们的系统可与各种商业上可用的光刻胶兼容，如Ormocomp, SU8, FormLabs树脂，NOA-line树脂，甚至水凝胶或蛋白质等。这些光刻胶可能是生物兼容的，甚至已被认证实现微型医疗设备。如果您想使用定制的、自制的聚合物，我们也可以帮助您调整系统以适应您的工艺。关于昊量光电昊量光电 您的光电超市！上海昊量光电设备有限公司致 力于引 进国 外创 新性的光电技术与可 靠产品！与来自美国、欧洲、日本等众多知 名光电产品制造商建立了紧 密的合作关系。代理品牌均处于相关领域的发展前 沿，产品包括各类激光器、光电调制器、光学测量设备、精 密光学元件等，所涉足的领域涵盖了材料加工、光通讯、生物医疗、科学研究、国 防及前沿的细分市场比如为量 子光学、生物显微、物联传感、精 密加工、激光制造等。我们的技术支持团队可以为国内前 沿科研与工业领域提 供完 整的设备安装，培训，硬件开发，软件开发，系统集成等优 质服务，助力中国智 造与中国创 造! 为客户提供适合的产品和提 供完 善的服务是我们始终秉承的理念！

德国海德堡 激光直写光刻机DWL 66+科研用激光直写系统具有多种直写模块，实现不同精度直写需求能于结构上进行灰度曝光 DWL 66+激光光刻系统是具经济效益的高分辨率图像产生器，适用于小批量掩模板制作和直写需求。该系统的功能和灵活性使其成为Life Science, Advanced Packaging, MEMS, Micro-Optics, Semiconductor以及所有其他需要微结构应用的刻研工具。DWL 66+的客户群包括全球200多所顶尖大学和研究机构，许多系统功能是与这些机构合作开发，及先进技术不断改进以增加高分办率：DWL 66+的最小结构尺寸为300 nm，提供了极高的分辨率，优于或等于研发领域中最强大的光学光刻系统。 基本的DWL 66+包含创造和分析微结构所需的所有功能。它可以用于掩模板制作或直写在任何涂有光刻胶的平坦材料上，多样化选择可提高灵活性，使系统适用于更多应用领域。

MLA300批量生产高效能数字光刻解决方案 The Maskless Aligner for Volume Production批量生产高效能数字光刻解决方案批量生产能力，并且实现2μm线宽高分辨率，高产速及高效能。MLA300的特点是搭配全自动硅片自动装取片装置，以及操作软件提供简易的自动化工作流程。在全球半导体产业中，MLA300运用在IC传感器，分立器件，微机电设备(MEMS)，集成电路(ASIC)，OLED显示器，Mirco LED及封装应用的生产领域。关于我们Stella InternationalStella International携手光刻技术领航者-海德堡仪器公司，共同为客户带来*的综合应用效能，同时建立紧密的合作伙伴关系。为了服务客户更广泛多元的应用领域，Stella International于2016年在苏州成立海德堡仪器演示中心，以海德堡原厂伙伴技术支援，提供客户技术交流平台以及各式前段打样的基础研究，这些年来已服务许多的国内知名大学，研究院所与企业前期研发单位。品牌介绍德国海德堡 高精密无掩膜激光直写设备HEIDELBERG MASKLESS AND LASER LITHOGRAPHY SYSTEM德国海德堡设备(Heidelberg Instruments)，创始于1984年，在激光直写设备的发展和设计上持续地改良、在各种应用上客制化。应用范围包括：微电脑和纳米科技, MEMS, 平面屏幕, BGA, ASICS, TFT, Plasma Displays, Micro Optics, 和其他相关领域。销售横跨欧洲、美国、亚洲等超过50几个国家、700个以上销售据点，用于研发、快速原型制作和工业生产系统，是企业研究和发展的伙伴。

DALI是由Aresis、CENN Nano center 和 LPKF 联合研发的高精度无掩膜纳米光刻机，是一款性能稳定，操作简单，对环境要求低，界面友好，零维护的桌面型高精度激光直写设备。其采用的是AOD声光调制器来控制激光进行高精度光刻，可以实现优于80nm平滑的边缘结构，100-150nm最小结构间距，最高400nm套刻精度，是实验室级微纳加工与器件制作不二选择。DALI凭借优异的性能，目前已广泛应用到微电子、微器件、纳米光学、材料科学、自旋电子学等研究领域。先进的AOD技术，定位分辨率优于0.1nmA. 可以获得任意平滑、锐利的结构边缘B. 可高分辨调整特征结构间的距离C. 可以实现亚微米级精细结构的构建主要特点：# 最小特征结构小于1μm# 针对I-line光刻胶进行优化（SU-8，AZ，……）# 超快与超高精度定位，光斑定位分辨率＜1nm# 可构建高深宽比结构（可达10:1）# 12nm-1μm光斑间距调节以获得超高平滑度# 100-150nm最小结构间距# 最高400nm套刻精度# 适用于从CAD设计到各种结构的快捷构建# 具备非平表面直写能力产品优势1. 超稳定，长寿命375nm激光器相对于其它各种光源，在精密光学仪器应用中，激光光源在光束质量，稳定性，耐用性等方面具有无与伦比的优越性。DaLI无掩膜纳米光刻机采用最优的激光光源，以保证超一流的性能和用户体验。2. 广泛的适应性DaLI无掩膜纳米光刻机广泛适用于各种I-line光刻胶，AZ系列正胶，SU-8系列负胶等，在各种厚胶与薄胶应用中有着出色的表现。3. 非平表面直写功能4. 整机恒温系统，保证最佳的性能DaLI无掩膜纳米光刻机采用了超越光刻技术极限的亚纳米级AOD激光操控技术，光斑定位精度可达0.1nm。为充分发挥AOD技术的优势，我们建立了整机恒温系统，控温精度可达±0.1℃，将设备所有部件和温差形变和热漂移降到最低，从而实现真正的高精度光刻。5. 准确的图形结构6. 工作范围与曝光拼接大光斑直写工具单个工作区域 为 900μm X 900μm；小光斑直写工具单个工作区域为 300μm X 300μm工作区域100mm X 100mm 工作区域间的平滑过渡机制（软拼接与硬拼接）；DaLI的软拼接可以将曝光扫描线延伸到临近区域，并梯度降低激光强度（红线）。在临近区域，激光强度梯度增加（蓝线），从而获得干净均一的拼接图案7. 用户友好的操作软件DaLI控制软件通过USB接口与设备快速通讯，可以对设计图中的区块和每一个微结构的曝光参数进行设置，对图形设计的预览和快速栅格化，对样品的观察、准直、调平等。该软件具备图形设计和展示功能，可选用多种绘图工具，支持对 dxf, gerber, bm 等格式文件的导入与修改。8. 更好的深宽比

DWL66+多功能无掩膜激光直写机 / 光刻机The Maskless Aligner for Volume Production多种直写模块及灰度光刻 实现各种精度需求DWL66+ 激光光刻系统是具经济效益、具有高分辨率的图形发生器。适用于小批量掩膜版制作和直写需求。DWL66+拥有多种选配模块,例如:正面和背面对准系统；405nm和375nm波长的激光发生器；进阶选配：精度校准和自动上下板加载系统。DWL66+的高度灵活和可定制的解决方案，专门为您的应用量身定做，已成为生命科学、先进封装、MEMS、微光学、半导体和所有其他需要微结构的应用中必不可缺少的光刻研究工具。关于我们Stella InternationalStella International携手光刻技术领航者-海德堡仪器公司，共同为客户带来综合应用效能，同时建立紧密的合作伙伴关系。为了服务客户更广泛多元的应用领域，Stella International于2016年在苏州成立海德堡仪器演示中心，以海德堡原厂伙伴技术支援，提供客户技术交流平台以及各式前段打样的基础研究，这些年来已服务许多的国内知名大学，研究院所与企业前期研发单位。总代理 品牌介绍德国海德堡 高精密无掩膜激光直写设备HEIDELBERG MASKLESS AND LASER LITHOGRAPHY SYSTEM德国海德堡设备(Heidelberg Instruments)，创始于1984年，在激光直写设备的发展和设计上持续地改良、在各种应用上客制化。应用范围包括：微电脑和纳米科技, MEMS, 平面屏幕, BGA, ASICS, TFT, Plasma Displays, Micro Optics, 和其他相关领域。销售横跨欧洲、美国、亚洲等超过700个以上销售据点，用于研发、快速原型制作和工业生产系统，是企业研究和发展的伙伴。

小型台式无掩膜光刻机- MA1200小型台式无掩膜光刻机- MicroWriter ML3是英国公司专为实验室设计开发，为微流控、SAW、半导体、自旋电子学等研究领域提供方便高效的微加工方案。传统的光刻工艺中所使用的铬玻璃掩膜板需要由专业供应商提供，但是在研发环境中，掩膜板的设计通常需要经常改变。无掩膜光刻技术通过以软件设计电子掩膜板的方法，克服了这一问题。与通过物理掩膜板进行光照的传统工艺不同，激光直写是通过电脑控制一系列激光脉冲的开关，在光刻胶上直接曝光绘出所要的图案。MA1200 是一款多功能激光直写光刻系统，具有结构小巧紧凑(70cm x 70cm x 70cm)，无掩膜直写系统的灵活性，还拥有高直写速度，高分辨率的特点。采用集成化设计，全自动控制，可靠性高，操作简便。适用于各种实验室桌面。 产品特点 Focus Lock自动对焦功能Focus Lock技术是利用自动对焦功能对样品表面高度进行探测，并通过Z向调整和补偿，以保证曝光分辨率。光学轮廓仪MicroWriter ML3 配备光学轮廓探测工具，用于匀胶后沉积层，蚀刻层，MEMS等前道结构的形貌探测与套刻。Z向高精度100 nm，方便快捷。标记物自动识别点击“Bulls-Eye”按钮，系统自动在显微镜图像中识别光刻标记。标记物被识别后，将自动将其移动到显微镜中心位置。直写前预检查软件可以实时显微观测基体表面，并显示预直写图形位置。通过实时调整位置、角度，直到设计图形按要求与已有结构重合，保证直写准确。简单的直写软件MicroWriter 由一个简单直观的Windows界面软件控制。工具栏会引导使用者进行简单的布局设计、基片对准和曝光的基本操作。该软件在Windows10系统下运行。Clewin 掩膜图形设计软件● 可以读取多种图形设计文件（DXF, CIF, GDSII, 等）● 可以直接读取TIFF, BMP 等图片格式● 书写范围只由基片尺寸决定

MLA150先进无掩膜激光直写机 / 光刻机The Advanced Maskless Aligner适合研发团队与中小批量生产的客户MLA150专属为研发型以及中小批量生产的客户而设计的激光直写解决方案。区别于过去传统的工艺技术而开发的无掩膜激光直写技术，将设计图形直接曝光到涂覆有光刻胶的衬底材料上；曝光后，如果需要修改图形结构，可以直接通过CAD软件修改原始图形，然后重新曝光即可，无需花费重新制版的时间。主要产业应用有：生命科学、微流体、MEMS、微光学、传感器、材料研究等有微纳米结构需求的科研领域。关于我们Stella InternationalStella International携手光刻技术领航者-海德堡仪器公司，共同为客户带来综合应用效能，同时建立紧密的合作伙伴关系。为了服务客户更广泛多元的应用领域，Stella International于2016年在苏州成立海德堡仪器演示中心，以海德堡原厂伙伴技术支援，提供客户技术交流平台以及各式前段打样的基础研究，这些年来已服务许多的国内知名大学，研究院所与企业前期研发单位。总代理 品牌介绍德国海德堡 高精密无掩膜激光直写设备 / 光刻机HEIDELBERG MASKLESS AND LASER LITHOGRAPHY SYSTEM德国海德堡设备(Heidelberg Instruments)，创始于1984年，在激光直写设备的发展和设计上持续地改良、在各种应用上客制化。应用范围包括：微电脑和纳米科技, MEMS, 平面屏幕, BGA, ASICS, TFT, Plasma Displays, Micro Optics, 和其他相关领域。销售横跨欧洲、美国、亚洲等超过50几个国家、700个以上销售据点，用于研发、快速原型制作和工业生产系统，是企业研究和发展的伙伴。

德国海德堡Heidelberg激光直写光刻机DWL 2000/4000科研型与量产型兼具的激光直写设备高速、高灵活度与高精度的光学系统4096阶灰阶光刻功能DWL2000和DWL4000激光光刻系统为快速、灵活的高分辨率图形产生器，用于制作光罩和直写。这些系统的写入面积高达200x200mm2与400x400mm2，是MEMS、BioMEMS、Micro Optics、ASICs、Micro Fluidics、Sensors，CGH以及所有其他微结构应用里，需快速构图于光罩和硅片的完美方案。除了高分辨率的2D图形之外，还提供灰度光刻曝光模式，可在厚光刻胶中创建复杂的3D结构。与其他技术相较，此光刻技术能够在大面积中产出3D微结构。优化评估灰度曝光的特殊软件工具，减少新图像设计的循环时间。为了确保最低的表面粗糙度和形状一致性，该系统支持高达4096灰度级，在业界中具备无与伦比的性能。常见的应用包括部份大型的跨国公司制造用于电信或照明产业的晶圆级光学器件，其他新应用包括显微镜制造以及生物学和生命科学领域的器件制造。

德国海德堡Heidelberg激光直写光刻机 MLA150德国高精密激光直写绘图机非接触式曝光可支持高效数位光刻与灰度光刻MLA150专为便于操作而设计，涵盖过去30年中开发的激光直写设备的所有技术知识。它提供了单层和多层应用所需的所有功能，由于MLA150曝光是非接触式的，因此它可以克服无光罩曝光技术的局限性。与其他图形产生器不同的地方不仅在于MLA150易于使用，还有极快的曝光速度。使用小至1微米的结构曝光100x100mm2的区域仅需要不到10分钟。透过使用三个不同分辨率的集成摄像头，可在2分钟内完成多层应用中的套刻对位，套刻对准精度优于500nm。MLA150无光罩激光直写设备直接曝光图形的灵活性能，可提升在Life Science, MEMS, Micro-Optics, Semiconductor, Sensors, Actuators, MOEMS, Material Research, Nano-Tubes, Graphene及任何其他需要微结构等领域的工作效率。 功能基板到9 x 9”标准版:1μm结构高分辨率版本:结构可达600纳米2暴露面积150 x 150毫米(200 x 200平方毫米可选)非接触式曝光光源为405 nm和375 nm基于SLM光引擎多种数据输入格式校准精度为500纳米背面对齐实时自动对焦抵制数据库自动标记和序列化

德国海德堡 Heidelberg 激光直写光刻机 MLA150 德国高精密激光直写绘图机非接触式曝光可支持高效数位光刻与灰度光刻 MLA150专为便于操作而设计，涵盖过去30年中开发的激光直写设备的所有技术知识。它提供了单层和多层应用所需的所有功能，由于MLA150曝光是非接触式的，因此它可以克服无光罩曝光技术的局限性。与其他图形产生器不同的地方不仅在于MLA150易于使用，还有极快的曝光速度。使用小至1微米的结构曝光100x100mm2的区域仅需要不到10分钟。透过使用三个不同分辨率的集成摄像头，可在2分钟内完成多层应用中的套刻对位，套刻对准精度优于500nm。MLA150无光罩激光直写设备直接曝光图形的灵活性能，可提升在Life Science, MEMS, Micro-Optics, Semiconductor, Sensors, Actuators, MOEMS, Material Research, Nano-Tubes, Graphene及任何其他需要微结构等领域的工作效率。 功能基板到9 x 9”标准版:1μm结构高分辨率版本:结构可达600纳米暴露面积150 x 150毫米(200 x 200平方毫米可选)非接触式曝光光源为405 nm和375 nm基于SLM光引擎多种数据输入格式校准精度为500纳米背面对齐实时自动对焦抵制数据库自动标记和序列化

μMLA桌面式无掩膜激光直写机 / 光刻机The Table-Top Maskless Aligner适合科研领域的实验室与学术研究所μMLA是新一代桌面式激光直写仪的技术，在科研微结构的应用领域中是一台入门级的工具。μMLA具有灵活性和可定制性，可支持毫米大小范围的样品。主要产业应用有：半导体芯片、微机电、微流体、微光学、传感器、掩膜版以及其它有微纳米结构需求的科研领域。关于我们Stella InternationalStella International携手光刻技术领航者-海德堡仪器公司，共同为客户带来综合应用效能，同时建立紧密的合作伙伴关系。为了服务客户更广泛多元的应用领域，Stella International于2016年在苏州成立海德堡仪器演示中心，以海德堡原厂伙伴技术支援，提供客户技术交流平台以及各式前段打样的基础研究，这些年来已服务许多的国内知名大学，研究院所与企业前期研发单位。总代理 品牌介绍德国海德堡 高精密无掩膜激光直写设备 / 光刻机HEIDELBERG MASKLESS AND LASER LITHOGRAPHY SYSTEM德国海德堡设备(Heidelberg Instruments)，创始于1984年，在激光直写设备的发展和设计上持续地改良、在各种应用上客制化。应用范围包括：微电脑和纳米科技, MEMS, 平面屏幕, BGA, ASICS, TFT, Plasma Displays, Micro Optics, 和其他相关领域。销售横跨欧洲、美国、亚洲等超过700个以上销售据点，用于研发、快速原型制作和工业生产系统，是企业研究和发展的伙伴。

PicoMaster XF 500-H 是一款具有超高精度的多功能紫外激光直写设备，它具有每毫米超过1200条线的输出能力，特别适合用户在光敏层上自由地创造微结构。独有的全息设计软件，提供了许多预先安装的全息效果及其光栅、结构的运算方法，它们可以很轻松地将把这些效果组合起来，十分利于用户的产品开发。同时软件也允许用户添加自己的算法和结构，来定制数据库、完善产品设计。系统优点v使用GLV （Grating Light Valve）技术，可实现高达1000个单位像素的激光束高速并行直写；v构建独立设计库，可完成最高自由度的3D光刻，并支持标准图像源、个性化的3D设计源；v支持最大 0.5米 x 0.5米的激光直写面积，低规格条件下，直写只需55个小时；v选择关闭灰度写入功能，直写相同曝光面积，其直写速度将提升2倍；v可定制更大幅面的无掩模激光直写系统解决方案.

MPO 100双光子聚合 (TPP) 多用途工具 Multi-user Tool for 3D Lithography and 3D Microprinting3D微打印多用途光刻工具双光子聚合 (TPP) 多用途工具，用于微结构的 3D 光刻和 3D 微打印，应用于光学、光子学、力学和生物医学工程。 3D 模块打印平台- MPO 100 提供 3D 高精度光刻以及 3D 微打印的高产量，并能够在单个工艺步骤中以高吞吐量生产复杂的微结构。关于我们Stella InternationalStella International携手光刻技术领航者-海德堡仪器公司，共同为客户带来*的综合应用效能，同时建立紧密的合作伙伴关系。为了服务客户更广泛多元的应用领域，Stella International于2016年在苏州成立海德堡仪器演示中心，以海德堡原厂伙伴技术支援，提供客户技术交流平台以及各式前段打样的基础研究，这些年来已服务许多的国内知名大学，研究院所与企业前期研发单位。品牌介绍德国海德堡 高精密无掩膜激光直写设备HEIDELBERG MASKLESS AND LASER LITHOGRAPHY SYSTEM德国海德堡设备(Heidelberg Instruments)，创始于1984年，在激光直写设备的发展和设计上持续地改良、在各种应用上客制化。应用范围包括：微电脑和纳米科技, MEMS, 平面屏幕, BGA, ASICS, TFT, Plasma Displays, Micro Optics, 和其他相关领域。销售横跨欧洲、美国、亚洲等超过50几个国家、700个以上销售据点，用于研发、快速原型制作和工业生产系统，是企业研究和发展的伙伴。

Super Lithography 3D 纳米光刻系统提供纳米级高精度的无掩膜光刻和纳米级3D 微纳结构打印，配合定制的软件系统，可以智能完成高精度无掩膜光刻的制造和其它纳米级 3D 器件的激光直写光刻。

德国海德堡Heidelberg激光直写光刻机DWL 2000/4000科研型与量产型兼具的激光直写设备高速、高灵活度与高精度的光学系统4096阶灰阶光刻功能DWL2000和DWL4000激光光刻系统为快速、灵活的高分辨率图形产生器，用于制作光罩和直写。这些系统的写入面积高达200x200mm2与400x400mm2，是MEMS、BioMEMS、Micro Optics、ASICs、Micro Fluidics、Sensors，CGH以及所有其他微结构应用里，需快速构图于光罩和硅片的完美方案。除了高分辨率的2D图形之外，还提供灰度光刻曝光模式，可在厚光刻胶中创建复杂的3D结构。与其他技术相较，此光刻技术能够在大面积中产出3D微结构。优化评估灰度曝光的特殊软件工具，减少新图像设计的循环时间。为了确保最低的表面粗糙度和形状一致性，该系统支持高达4096灰度级，在业界中具备无与伦比的性能。常见的应用包括部份大型的跨国公司制造用于电信或照明产业的晶圆级光学器件，其他新应用包括显微镜制造以及生物学和生命科学领域的器件制造。

DWL2000/ DWL4000超高精密无掩膜激光直写机 / 光刻机High Resolution Pattern Generators高灵活度与高精度光刻的解决方案DWL2000和DWL4000 激光光刻系统是快速及高灵活性的高分辨率图型发生器，用于制作掩膜版和可直接于产品上进行激光直写，写入面积高达200x200 mm2,与400x400 mm2 。在二维曝光技术表现出色，分辨率为低至500nm，可选配自动加载系统， 除了高分辨率的二維图型之外，还提供灰度曝光模式，可在厚光刻胶中创建复杂的2.5D结构。应用领域包括：MEMS、BioMEMS，微光学、集成电路(ASIC)、微流体、传感器。关于我们Stella InternationalStella International携手光刻技术领航者-海德堡仪器公司，共同为客户带来综合应用效能，同时建立紧密的合作伙伴关系。为了服务客户更广泛多元的应用领域，Stella International于2016年在苏州成立海德堡仪器演示中心，以海德堡原厂伙伴技术支援，提供客户技术交流平台以及各式前段打样的基础研究，这些年来已服务许多的国内知名大学，研究院所与企业前期研发单位。总代理 品牌介绍德国海德堡 高精密无掩膜激光直写设备HEIDELBERG MASKLESS AND LASER LITHOGRAPHY SYSTEM德国海德堡设备(Heidelberg Instruments)，创始于1984年，在激光直写设备的发展和设计上持续地改良、在各种应用上客制化。应用范围包括：微电脑和纳米科技, MEMS, 平面屏幕, BGA, ASICS, TFT, Plasma Displays, Micro Optics, 和其他相关领域。销售横跨欧洲、美国、亚洲等超过700个以上销售据点，用于研发、快速原型制作和工业生产系统，是企业研究和发展的伙伴。

PicoMaster 200无掩模激光直写光刻机●250纳米分辨率（375纳米激光源）●300纳米分辨率（405纳米激光源）●4095灰阶●业界最具实力的成套全息设计软件●最大230x230毫米基板尺寸 PicoMaster 200 是一款具有超高精度组件的多功能紫外激光写入器，专为用户提供在感光层中创建最高自由度的微结构而设计。系统的光栅化工作原理，搭配上高速扫描以及可调螺距步进激光头，确保了整个曝光制程在感光层表面准确而稳定地完成。PicoMaster 200 广泛应用于半导体光刻，LED芯片，微流控芯片，微纳结构，灰度光刻 ，三维加工全息影像等多个领域。系统优点：√ 系统支持高达4095级的灰度、纯二进制模式；√ 系统对准精度最高小于250纳米，线宽均匀性小于50纳米；√ 系统最大支持9英寸基版，400毫米/秒扫描速度，200x200毫米曝光面积；√ 系统采取全封闭结构设计，必需的部件、控制架构和真空泵都在外壳内，便于快速安装；√ 统连接到空气温度调节器机组开始供应空调空气时，内置堆式过滤器将产生干净的交叉气流； √ 系统运动平台由机械缓振系统支撑，它将过滤掉绝大多数的噪音振动，以确保工作时的振动最小激光直写：√ 系统使用405纳米（可升级375纳米）激光源在感光层上曝光，不需订购或制作掩模，图案可随用户设计而改变；√ 系统不使用掩模版，只需在基版上涂胶后用紫外激光聚焦进行曝光，激光在靶区被连续地调制到规定的剂量； √ 光刻胶在激光照射下会改变其化学结构，曝光后很容易溶解在显影剂中，只需暴露部分区域就可以形成目标的图案。

作为提供飞秒激光直写光纤 Bragg 光栅（FBG）的厂商，engionic Femto Gratings GmbH（FemtoFiberTec ）提供的 FBG 为多个领域开创全新的传感机遇，可根据客户要求在严苛的环境下对温度，应变，应力，振动，速度，加速度等多变量进行测量。并可根据客户要求参数进行定制。 FsFBG应用范围1、特殊、恶劣环境测温度/应变： A、高温燃气轮机，超超临界发电机，流化床燃烧器； B、强电磁场，微波感应加热器，受电弓，燃料电池； C、强辐射，核反应堆，聚变装置，核废料容器； D、同步辐射装置，FEL； E、低温，超导磁体； F、抗氢暗化，抗水汽腐蚀， G、化学反应器，煤液化装置，油气勘产。 2、长距离，大面积，长寿命温度/形变传感；智能蒙皮。可焊接，可植入碳纤维，碳化硅纤维，金属基，陶瓷基复合材料（FBG 阵列长达公里，而相邻两FBG 的距离可短至毫米。由于其极高的温度稳定性和光栅区极强的折射率调制，飞秒激光直写的 FBG 在恶劣和特种的环境中依然稳定工作）。 3、高功率光纤激光器反射器，选模，稳频，整形；光纤通讯（解）复用器，耦合器，色散补偿，增益平坦化。 光纤Bragg光栅（FsFBG)传感器性能优势： 1、更稳定：石英FsFBG可长期稳定于1000℃，远远高于常规FBG的300℃，如果是蓝宝石，耐温1700度。 2、更耐用：直接透过光纤涂覆层（丙烯酸酯，聚酰亚胺，硅胶，碳，有机改性陶瓷）刻珊，无需“剥离-再涂覆”。 3、更灵活：无掩模板，无光敏化在掺杂/纯石英/氟化物*/蓝宝石*/多芯光纤的纤芯或者包层任意位置，刻制Bragg波长大于800nm，反射率0.01%-99%的FBG及超结构-，啁啾-，反相FBG*。 4、更先进：飞秒激光刻制的栅点折射率调制大，栅区可短至毫米，实现点传感，可能解决温度-应变交叉敏感。 5、应用在高氢浓度，高湿度环境 (无氢暗化和氢腐蚀现象)。 6、FsFBG及其阵列性价比远优于任何常规FBG，一栅起订，裸纤到系统一站解决。 具体案例: 分布式温度传感(DTS) 基于 FBG 技术的分布式温度传感相对于诸如热电偶等非光学传感的优势包括： 1、传感距离更长，可达公里。位置精度更高，可达厘米； 2、单一光纤完成传感系统所有功能，无需电缆供能，无需额外功耗，无需额外组网； 3、无机械磨损，抗电磁干扰，抗振动干扰，寿命长达数十年； 4、适于危险环境； 5、单一光纤上多 FBG 可复用，串行测量，高性价比。 FBG 的光纤传感优于基于 Raman 或 Brillouin 散射的分布式温度传感的优势包括传感速率高，信噪比好。 定制产品 根据客户要求参数定制的FBG，订货数量无限制，交货周期短。 FBG类型1、单个 FBG2、波分复用传感阵列3、准分布式传感阵列 FBG参数1、Bragg 波长:1460 纳米-1640 纳米（应要求提供其他波长）2、波长误差 0.2 纳米3、反射带宽（FWHM）: 0.1纳米至几纳米4、反射率: 10-4 to99%5、边带抑制(切趾): 可达20分贝6、FBG长度：0.06毫米至12毫米7、低偏振相关性（可选）：0-5皮米8、极低散射损耗（可选）：＜0.2dB 光纤类型1、标准单模光纤（掺锗光纤）2、弯曲不敏感光纤（例如沟槽光纤）3、纯石英光纤4、抗辐射光纤（例如掺氟光纤）5、特种光纤和特种材料，例如蓝宝石光纤，光纤激光的有源光纤，单模塑料光纤 光纤涂覆层1、丙烯酸酯涂覆层（标准丙烯酸酯耐温85℃，高温丙烯酸酯耐温180℃）2、聚酰亚胺(PI)涂覆层长期耐温300℃，短期耐高温高达400℃3、ORMOCER涂覆层耐温至200℃4、阻水阻氢的气密碳涂覆层，金涂覆层5、在上述涂覆层上再额外涂覆耐候层或者医用缓冲层（例如PEEK） FBG强度1、聚酰亚胺涂敷层 FBG 使用温度达300摄氏度2、FBG本身稳定性达1000摄氏度3、光纤机械强度大于200kpsi参数类型参数值波长范围1460nm～1620nm（更多波长可定制）定制中心波长偏差±0.2nm反射率0.1%~99.9%3dB 带宽0.4nm （可定制）栅区长度5mm（可定制）边模抑制比≥15dB涂层丙烯酸酯/聚酰亚胺纤芯类型掺锗/纯石英/耐辐照光纤抗拉强度≥150kpsi光纤接口FC/APC（可选）工作温度-250℃~1000℃注：可按客户需求定制单点或多点光栅串

作为提供飞秒激光直写光纤 Bragg 光栅（FBG）的厂商，engionic Femto Gratings GmbH（FemtoFiberTec ）提供的 FBG 为多个领域开创全新的传感机遇，可根据客户要求在严苛的环境下对温度，应变，应力，振动，速度，加速度等多变量进行测量。并可根据客户要求参数进行定制。 FsFBG应用范围1、特殊、恶劣环境测温度/应变： A、高温燃气轮机，超超临界发电机，流化床燃烧器； B、强电磁场，微波感应加热器，受电弓，燃料电池； C、强辐射，核反应堆，聚变装置，核废料容器； D、同步辐射装置，FEL； E、低温，超导磁体； F、抗氢暗化，抗水汽腐蚀， G、化学反应器，煤液化装置，油气勘产。 2、长距离，大面积，长寿命温度/形变传感；智能蒙皮。可焊接，可植入碳纤维，碳化硅纤维，金属基，陶瓷基复合材料（FBG 阵列长达公里，而相邻两FBG 的距离可短至毫米。由于其极高的温度稳定性和光栅区极强的折射率调制，飞秒激光直写的 FBG 在恶劣和特种的环境中依然稳定工作）。 3、高功率光纤激光器反射器，选模，稳频，整形；光纤通讯（解）复用器，耦合器，色散补偿，增益平坦化。 光纤Bragg光栅（FsFBG)传感器性能优势： 1、更稳定：石英FsFBG可长期稳定于1000℃，远远高于常规FBG的300℃，如果是蓝宝石，耐温1700度。 2、更耐用：直接透过光纤涂覆层（丙烯酸酯，聚酰亚胺，硅胶，碳，有机改性陶瓷）刻珊，无需“剥离-再涂覆”。 3、更灵活：无掩模板，无光敏化在掺杂/纯石英/氟化物*/蓝宝石*/多芯光纤的纤芯或者包层任意位置，刻制Bragg波长大于800nm，反射率0.01%-99%的FBG及超结构-，啁啾-，反相FBG*。 4、更先进：飞秒激光刻制的栅点折射率调制大，栅区可短至毫米，实现点传感，可能解决温度-应变交叉敏感。 5、应用在高氢浓度，高湿度环境 (无氢暗化和氢腐蚀现象)。 6、FsFBG及其阵列性价比远优于任何常规FBG，一栅起订，裸纤到系统一站解决。 具体案例: 分布式温度传感(DTS) 基于 FBG 技术的分布式温度传感相对于诸如热电偶等非光学传感的优势包括： 1、传感距离更长，可达公里。位置精度更高，可达厘米； 2、单一光纤完成传感系统所有功能，无需电缆供能，无需额外功耗，无需额外组网； 3、无机械磨损，抗电磁干扰，抗振动干扰，寿命长达数十年； 4、适于危险环境； 5、单一光纤上多 FBG 可复用，串行测量，高性价比。 FBG 的光纤传感优于基于 Raman 或 Brillouin 散射的分布式温度传感的优势包括传感速率高，信噪比好。 定制产品 根据客户要求参数定制的FBG，订货数量无限制，交货周期短。 FBG类型1、单个 FBG2、波分复用传感阵列3、准分布式传感阵列 FBG参数1、Bragg 波长:1460 纳米-1640 纳米（应要求提供其他波长）2、波长误差 0.2 纳米3、反射带宽（FWHM）: 0.1纳米至几纳米4、反射率: 10-4 to99%5、边带抑制(切趾): 可达20分贝6、FBG长度：0.06毫米至12毫米7、低偏振相关性（可选）：0-5皮米8、极低散射损耗（可选）：＜0.2dB 光纤类型1、标准单模光纤（掺锗光纤）2、弯曲不敏感光纤（例如沟槽光纤）3、纯石英光纤4、抗辐射光纤（例如掺氟光纤）5、特种光纤和特种材料，例如蓝宝石光纤，光纤激光的有源光纤，单模塑料光纤 光纤涂覆层1、丙烯酸酯涂覆层（标准丙烯酸酯耐温85℃，高温丙烯酸酯耐温180℃）2、聚酰亚胺(PI)涂覆层长期耐温300℃，短期耐高温高达400℃3、ORMOCER涂覆层耐温至200℃4、阻水阻氢的气密碳涂覆层，金涂覆层5、在上述涂覆层上再额外涂覆耐候层或者医用缓冲层（例如PEEK） FBG强度1、聚酰亚胺涂敷层 FBG 使用温度达300摄氏度2、FBG本身稳定性达1000摄氏度3、光纤机械强度大于200kpsi参数类型参数值波长范围1460nm～1620nm（更多波长可定制）定制中心波长偏差±0.2nm反射率0.1%~99.9%3dB 带宽0.4nm （可定制）栅区长度5mm（可定制）边模抑制比≥15dB涂层丙烯酸酯/聚酰亚胺纤芯类型掺锗/纯石英/耐辐照光纤抗拉强度≥150kpsi光纤接口FC/APC（可选）工作温度-250℃~1000℃注：可按客户需求定制单点或多点光栅串

NanoFrazor Scholar适合科研领域的中小型实验净房与纳米加工的学术研究领域 Thermal Scanning Probe Lithography Toolwith In-situ Imaging and Grayscale Patterning Capabilities适合科研领域的中小型实验净房与纳米加工的学术研究领域原位成像和灰度光刻模块的热探针光刻解决方案NanoFrazor Scholar特别适合纳米加工研究的学术单位，用于在1D/2D 材料，例如量子点和纳米数组上制作量子器件的纳米结构，其独特的功能使能够应用任何新材料。例如，灰度光子学设备、纳米流道结构或用于细胞生长的仿生基质等进阶应用；通过加热探针对材料进行局部改性，例如化学反应和物理相变。关于我们Stella InternationalStella International携手光刻技术领航者-海德堡仪器公司，共同为客户带来*的综合应用效能，同时建立紧密的合作伙伴关系。为了服务客户更广泛多元的应用领域，Stella International于2016年在苏州成立海德堡仪器演示中心，以海德堡原厂伙伴技术支援，提供客户技术交流平台以及各式前段打样的基础研究，这些年来已服务许多的国内知名大学，研究院所与企业前期研发单位。品牌介绍德国海德堡 高精密无掩膜激光直写设备HEIDELBERG MASKLESS AND LASER LITHOGRAPHY SYSTEM德国海德堡设备(Heidelberg Instruments)，创始于1984年，在激光直写设备的发展和设计上持续地改良、在各种应用上客制化。应用范围包括：微电脑和纳米科技, MEMS, 平面屏幕, BGA, ASICS, TFT, Plasma Displays, Micro Optics, 和其他相关领域。销售横跨欧洲、美国、亚洲等超过50几个国家、700个以上销售据点，用于研发、快速原型制作和工业生产系统，是企业研究和发展的伙伴。