德国Elmitec低温光发射电子显微镜LEEM III

我们的LEEM产品系列涵盖了研究人员寻找额外的实验室表征工具的需求，以增加现有系统，以及灵活和可升级的主要调查仪器。

最紧凑的LEEM, LEEMIV，是一种“法兰上”的仪器，可以安装在预先存在的腔室中，使用任何类型的机械手盒安装在适当的CF 200法兰上。因此，客户可以使用自己的he冷却机械手或其他扫描探针仪器中使用的墨盒。虽然LEEM IV紧凑且易于使用，但它提供了优于20 nm的出色分辨率。

对具有高成像和电子动能分辨率的XPEEM感兴趣的用户将在SPELEEM中找到理想的仪器。成像能量分析仪的最高动能分辨率为~115 meV，空间分辨率优于10 nm。对于更苛刻的分辨率，请访问我们的像差校正LEEM页面。此外，色散面成像允许在15 eV内实时对光谱变化进行直接动态研究，例如在薄膜生长或相变期间。

LEEM III系统非常紧凑，提供了很高的科学灵活性。晶体表面的直接实时成像使生长、分解、熔化、相变过程和表面扩散的动态研究成为可能。该系统使用简单，具有先进的计算机控制，易于校准。这使用户能够充分利用他们的研究时间。

LEEM III也可以使用几个组件进行升级，甚至扩展其能力。自旋极化电子枪可用于高横向分辨率的快速磁畴成像。

可以添加成像能量分析仪来解析光发射电子的动能并进行XPEEM，例如使用he等离子体放电光源(hv≈21 eV)或聚焦的实验室x射线源。

亮点:

最高分辨率(< 8nm)，最佳分辨率:4.6 nm

Leem, leed, mem, uv - peek, teem

快速样品交换

特高压原位晶体生长观察

宽样品温度范围(~ 100k至1800k)

先进的计算机控制