原子层沉积系统
原子层沉积系统

¥400万

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Picosun

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R-200

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欧洲

  • 一般经销商
  • 营业执照已审核
核心参数


芬兰PICOSUN公司是ALD技术发明人Tuomo Suntola创立的,与Picosun专家队伍被称为ALD的梦之队。

Suntola于1974年发明ALD技术,因此获得半导体行业European SEMI 2004奖。

PICOSUN公司凭借其杰出的生产型与科研型产品,于2022年6月加入美国应用材料公司。


PICOSUN产品分为科研型与生产型。

科研型产品有:

标准型PICOSUN™ R-200 Standard,只有热法原子层沉积系统

高级型PICOSUN™ R-200 Advanced,有热法原子层沉积系统等离子体增强原子层沉积系统

高级型ALD可以添加前沿的微波等离子体辅助增强模块Microwave Plasma, 这种微波等离子体增强原子层沉积系统在颗粒、薄膜致密性表现更好,同时有可能沉积具有挑战性的一些氮化物薄膜,如氮化硅等。


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售后服务承诺

保修期: 1年

是否可延长保修期:

现场技术咨询:

免费培训: 1次

免费仪器保养:

保内维修承诺: 非人为损坏免费维修

报修承诺: 如需要可3个工作日内到达用户现场。

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