曝光模式： 接触式
产地类别： 进口
分辨率： 详见资料
光源： 详见资料
光源波长： 详见资料
光强均匀性： 详见资料
曝光面积： 详见资料
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德国海德堡 Heidelberg 激光直写光刻机 MLA150
德国高精密激光直写绘图机
非接触式曝光
可支持高效数位光刻与灰度光刻
MLA150专为便于操作而设计，涵盖过去30年中开发的激光直写设备的所有技术知识。它提供了单层和多层应用所需的所有功能，由于MLA150曝光是非接触式的，因此它可以克服无光罩曝光技术的局限性。
与其他图形产生器不同的地方不仅在于MLA150易于使用，还有极快的曝光速度。使用小至1微米的结构曝光100x100mm2的区域仅需要不到10分钟。透过使用三个不同分辨率的集成摄像头，可在2分钟内完成多层应用中的套刻对位，套刻对准精度优于500nm。
MLA150无光罩激光直写设备直接曝光图形的灵活性能，可提升在Life Science, MEMS, Micro-Optics, Semiconductor, Sensors, Actuators, MOEMS, Material Research, Nano-Tubes, Graphene及任何其他需要微结构等领域的工作效率。
功能
基板到9 x 9”
标准版:1μm结构
高分辨率版本:结构可达600纳米
暴露面积150 x 150毫米(200 x 200平方毫米可选)
非接触式曝光
光源为405 nm和375 nm
基于SLM光引擎
多种数据输入格式
校准精度为500纳米
背面对齐
实时自动对焦
抵制数据库
自动标记和序列化
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保修期: 1年
是否可延长保修期: 否
现场技术咨询: 无
免费培训: 免费安装及技术培训
免费仪器保养: 6个月一次。
保内维修承诺: 经确认质量问题，免费更换。
报修承诺: 24小时内到达现场并开始维修
激光直写光刻机MLA150的工作原理介绍
激光直写光刻机MLA150的使用方法?
MLA150多少钱一台?
激光直写光刻机MLA150可以检测什么？
激光直写光刻机MLA150使用的注意事项？
MLA150的说明书有吗？
激光直写光刻机MLA150的操作规程有吗？
激光直写光刻机MLA150报价含票含运吗？
MLA150有现货吗？
