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本设备为单靶磁控镀膜仪，可用于金属薄膜的制备，在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用，也可实验室SEM样品制备。
本套配置采用石英真空腔体，镀膜过程全向可视，便于实验的观察记录，腔体设计开启方便，易于清理，十分适合实验室使用。同时设备配有旋转加热样品台，可以有效提高薄膜的均匀性和成膜的质量。整机采用模块化设计，操作逻辑简单，操作界面直观，利于上手。
设备的真空获得系统采用两级真空泵组，前级泵为大抽速机械泵，有效缩从常压至低真空的时间，主泵为涡轮分子泵，抽速高，真空获取速度更快。 整体真空获得系统干净快速。
技术参数
样品台 | 尺寸 | 150mm | 加热温度 | ≤500℃ |
旋转速度 | 1-20r/min | 控温精度 | ±1℃ | |
磁控溅射头 | 数量 | 2英寸 x1 | 冷却方式 | 水冷 |
真空腔体 | 腔体尺寸 | φ270mm X 200mm | 观察窗口 | 全向可视 |
腔体材料 | 高纯石英 | 开启方式 | 顶盖拆卸式 | |
真空系统 | 机械泵 | CY240 | 抽气接口 | KF16 |
抽气速率 | 1.1L/s | |||
分子泵 | CY600 | 抽气接口 | KF40 | |
抽气速率 | 600L/s | 排气接口 | KF40 | |
真空测量 | 电阻规+电离规 | |||
极限真空 | 10-5Pa数量级 | 供电电源 | AC;220V 50/60Hz | |
电源配置 | 直流电源数量 | 1台 | 输出功率 | ≤500W |
输出电压 | ≤600V | 响应时间 | ＜5ms | |
射频电源数量 | 1台 | 输出功率 | ≤1000W | |
功率稳定度 | ≤5W | |||
膜厚监控系统 | 膜厚仪测量分辨率 | ±0.03Hz | 测量精度 | ±0.5% |
测量上限 | 50000 | 测量速度 | 100~1000ms | |
水冷系统 | 水箱容积 | 9L | 流量 | 10L/min |
其他 | 供电电压 | AC220V,50Hz | 整机功率 | 3kw（主机+真空泵） |
保修期: 1年
是否可延长保修期: 否
现场技术咨询: 有
免费培训: 2人次技术培训
免费仪器保养: 一年一次
保内维修承诺: 免费维修
报修承诺: 24小时内响应
