上海伯东美国 KRi 考夫曼离子源 KDC 75
上海伯东美国 KRi 考夫曼离子源 KDC 75

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考夫曼

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KDC 75

--

美洲

  • 金牌
  • 第17年
  • 一般经销商
  • 营业执照已审核
核心参数
  • 产地: 美国
  • 类别: 考夫曼离子源
  • 应用: 真空镀膜

因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准

KRI 考夫曼离子源 KDC 75
上海伯东代理美国原装进口 KRI 考夫曼离子源 KDC 75:紧凑栅极离子源,离子束直径 14 cm ,可安装在 8“CF法兰. 适用于中小型腔内, 考夫曼离子源 KDC 75 包含2个阴极灯丝, 其中一个作为备用,KDC 75 提供紧密聚焦的电子束特别适合溅射镀膜. 标准配置下离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 250 mA.
 

KRI 考夫曼离子源 KDC 75 技术参数

型号

KDC 75 / KDC 75L(低电流输出)

供电

DC magnetic confinement

 - 阴极灯丝

2

 - 阳极电压

0-100V DC

电子束

OptiBeam™

 - 栅极

专用, 自对准

 -栅极直径

7.5 cm

中和器

灯丝

电源控制

KSC 1212 或 KSC 1202

配置

-

 - 阴极中和器

Filament, Sidewinder Filament  或LFN 2000

 - 安装

移动或快速法兰

 - 高度

7.9'

 - 直径

5.5'

 - 离子束

聚焦
平行
散设

 -加工材料

金属
电介质
半导体

 -工艺气体

惰性
活性
混合

 -安装距离

6-24”

 - 自动控制

控制4种气体

* 可选: 一个阴极灯丝; 可调角度的支架

KRI 考夫曼离子源 KDC 75 应用领域
溅镀和蒸发镀膜 PC
辅助镀膜(光学镀膜)IBAD
表面改性, 激活 SM
离子溅射沉积和多层结构 IBSD
离子蚀刻 IBE


客户案例: 超高真空离子刻蚀机 IBE, 真空度 5E-10 torr, 系统配置
美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 75
考夫曼离子源 KDC 75


若您需要进一步的了解考夫曼离子源, 请查看官网或咨询叶女士
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售后服务承诺

产品货期: 365天

整机质保期: 1年

培训服务: 提供付费培训

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考夫曼镀膜机KDC 75的工作原理介绍

镀膜机KDC 75的使用方法?

考夫曼KDC 75多少钱一台?

镀膜机KDC 75可以检测什么?

镀膜机KDC 75使用的注意事项?

考夫曼KDC 75的说明书有吗?

考夫曼镀膜机KDC 75的操作规程有吗?

考夫曼镀膜机KDC 75报价含票含运吗?

考夫曼KDC 75有现货吗?

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