产地类别： 进口
仪器种类： FIB-SEM
(电子光学系统）发射源： 肖特基场发射
（电子光学系统）分辨率： 0.9 nm @15 keV
（电子光学系统）探针电流： – 400 nA
（电子光学系统）视野范围： 7 mm @ WD=6 mm, >50 mm @ 最大工作距离
（离子光学系统）发射源： 氙等离子
（离子光学系统）分辨率： <15 nm @ 30 keV
（离子光学系统）探针电流： 1 pA – 2 µA
（离子光学系统）视野范围： 1 mm
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TESCAN AMBER X 是完美结合了分析型等离子 FIB 和超高分辨（UHR）扫描电镜的综合分析平台，能够很好的应对传统的 Ga 离子 FIB-SEM 难以完成的困难挑战。
TESCAN AMBER X 配置了氙（Xe）等离子 FIB 镜筒和 BrightBeam™ 电子镜筒，能够同时提供高效率、大面积样品刻蚀，以及无漏磁超高分辨成像，适用于各类传统或新型材料的二维成像以及大尺度的 3D 结构表征。拥有 AMBER X 不仅能够满足您现阶段对材料探索的需求，也为您将来的研究工作做好充分的准备。
AMBER X 等离子 FIB 不但能轻松应对常规的样品研磨和抛光工作，而且能快速制备出宽度可达1 毫米的截面。氙等离子束对样品的损伤最小，且不会导致注入引起的污染和非晶化。氙是一种惰性元素，所以可以实现对铝等材料进行无污染的样品制备和加工，不用担心传统镓离子 FIB 加工时由于镓离子污染或注入可能导致的微观结构和/或机械性能改变。
镜筒内 SE 和 BSE 探测器经过优化，可以在 FIB-SEM 重合点位置获得高质量的图像。TESCAN AMBER X 更有利于安装各类附件的几何设计为样品的综合分析提供了前所未有的潜力，而且还能够进行多模态的 FIB-SEM 层析成像。
TESCAN Essence™ 是一款支持用户可根据需求自定义界面的模块化软件。因此，TESCAN AMBER X 可以轻松的从一个多用户、多用途的工作平台转变为用于高效率、大面积 FIB 样品加工的专用工具。
主要特点：
● 高效率、大面积样品刻蚀，最大宽度可达1毫米的截面。
● 无镓离子污染的样品加工。
● 无漏磁的场发射扫描电镜，实现超高分辨成像和显微分析。
● 镜筒内二次电子和镜筒内背散射电子探测器。
● 束斑优化，可确保高效率、多模态 FIB-SEM 断层扫描的效果。
● 超大的视野范围，便于样品导航。
● 可轻松操作的模块化电镜控制软件 Essence™。
保修期: 1年
是否可延长保修期: 是
现场技术咨询: 有
免费培训: 免费上海应用中心培训
免费仪器保养: 3月1次
保内维修承诺: 免费维修，更换零部件
报修承诺: 8小时响应，3天内到达现场
泰思肯聚焦离子束TESCAN AMBER X的工作原理介绍
聚焦离子束TESCAN AMBER X的使用方法?
泰思肯TESCAN AMBER X多少钱一台?
聚焦离子束TESCAN AMBER X可以检测什么？
聚焦离子束TESCAN AMBER X使用的注意事项？
泰思肯TESCAN AMBER X的说明书有吗？
泰思肯聚焦离子束TESCAN AMBER X的操作规程有吗？
泰思肯聚焦离子束TESCAN AMBER X报价含票含运吗？
泰思肯TESCAN AMBER X有现货吗？
