仪器种类： 普通真空快速退火炉
产地类别： 国产
样品尺寸： 4英寸（100mm）
温度范围： 1200℃
最高升温速率： 100℃/s
降温速率： 200℃/min(1000℃-->400℃)
退火温度准确性： ≤0.1℃
退火温度均匀性： ≤0.5%
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快速退火炉LRTP-1200，采用红外辐射加热技术，可实现大尺寸样品（4英寸）快速升温和降温，同时搭配超高精度温度控制系统，可达到极佳的温场均匀性，对材料的快速热处理(RTP)、快速退火(RTA)、快速热氧化(RTO)、快速热氮化(RTN)等研究工作起到重要作用。
快速退火炉应用案例
l 快速热处理，快速退火，快速热氧化，快速热氮化
l 离子注入/接触退火
l SiAu, SiAl, SiMo合金化
l 太阳能电池片键合
l 电阻烧结
l 低介电材料热处理
l 晶体化，致密化
l 其他热工艺需求
快速退火炉产品特点
l 可测大尺寸样品 可测单晶片样品的最大尺寸为4英寸（100mm）。
l 快速控温与高真空 最高升温速率可达100℃/s，真空度最高可达到10Pa。
l 程序设定与气路扩展 最多可创建和存储32个程序、8个PID设定，实现不同温度段的精确测试。最多可扩展至4条工艺气路（MFC），应用不同气氛环境（真空、氮气、氩气、氧气、氢氮混合气体等）。
l 全自动智能控制 采用全自动智能控制，包括温度、时间、气体流量、真空、气氛、冷却水等均可实现自动控制。
l 超高安全系数 采用炉门安全温度开启保护、温控器开启权限保护以及设备急停安全保护三重安全措施，全方位保障仪器使用安全。
快速退火炉技术参数
型号 | LRTP-1200 |
最高温度 | 1200℃ |
最高升温速率 | 100℃/s |
最快降温速度 | 200℃/min(1000℃-->400℃) |
控温精度 | ≤0.1℃ |
温场均匀性 | ≤0.5% |
腔体冷却 | 水冷方式，独立冷却源 |
衬底冷却 | 氮气吹扫 |
工艺气路 | MFC控制，4路(可选氮气、氩气、氧气、氢氮混合气等) |
主机尺寸 | 450×625×535，单位mm |
