Technoorg Linda 立达TEM离子减薄仪(IV8)

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立达IV8 TEM(透射)低能量离子减薄仪(Gentle Mill GM3) 

特色

1. Gentle Mill:采用先进的热阴极低能量离子源

2. 计算机式操作具有独特的专利技术

3. 对样品无损坏并可将离子束诱导的无定形物减至最小限度

4. 可用于最终抛光， 很容易对先前在标准高能离子减薄仪上或FIB上处理过的样品进行清洁及改善性

        能。

5. 适用于XTEM(截面透射电镜)、HRTEM(高分辨透射电镜)或STEM(扫描透射电镜之样品制备。

实际应用

技术参数：

离子能量：100 - 2000 eV，连续可调 

离子电流密度：最大10 mA/cm2

离子束电流：7 - 90 uA，连续可调

离子束直径：750 - 1200 um (FWHM) 

减薄速率：2000 eV离子能量及30度离子束入射角时，c-Si上的减薄速率为28 um/h 
减薄角度：0 - 45°，电子调节步长为0.1° 
计算机控制样品平面旋转摇摆（0- 120°角度范围，电子调节步长为10°） 
出众的厚度范围：涵盖TEM样品厚度（30 - 200 um）