¥50万 - 100万
Technoorg
暂无样本
SC-2000
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欧洲
产地类别： 进口
最大样品尺寸： 20 mm (l) x 16 mm (w) x 5.5 mm (th)
减薄角度： (30), (45), (90)
离子能量： up to 10keV,100eV to 2keV
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特色
SC-2000机台同时具备高能量源和低能量源。
藉由90、45、30度不同角度的样品架做斜面切割来达到横切面的样品制备程序。
适用于传统SEM和EBSD的最后一道抛光和清洁程序。
装载锁定系统提供更快、更简单的样品交换。
自动参数设定及操作。
具备样品转动及震动装置。
研磨过程中的即时监控采用高分辨率的CMOS摄影机和TFT显示器辅助。
低能量枪用于表面柔和的抛光和清洁。
高能量枪用于高速研磨。
选配的超高能量枪特别推荐用在离子研磨超硬材质或极快速的研磨。
使用高能量枪快速的斜切后使用低能量枪温和的把表面清洁干净，此流程适用于半导体不良分析以及其他具备分析目的的截面SEM样品。
系统提供了一个基础的离子研磨的解决方案，包含解决、清洁经过用一般研磨机造成
硬力破坏的SEM样品以及准备用于无表面破坏的EBSD技术。
实际案例
