制备多晶硅太阳电池的氮化硅涂层沉积设备
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制备多晶硅太阳电池的氮化硅涂层沉积设备

¥5万 - 10万

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MVSystems

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SiNx-PECVD

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美洲

  • 铜牌
  • 第11年
  • 一般经销商
  • 营业执照已审核
核心参数

用于制备多晶硅太阳电池的氮化硅涂层沉积设备 MVS

Silicon Nitride Coating Systems for Multi-crystalline Silicon Solar Cells

Throughput: >475 wafers/hr

SiNx uniformity: < ?5%

产率:>475硅片/小时。

氮化硅膜不均匀性:< 5%。




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