膜厚测量仪
膜厚测量仪

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半球

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亚洲

  • 铜牌
  • 第11年
  • 一般经销商
  • 营业执照已审核
核心参数

产品特点:                                                           

薄膜到厚膜的测量范围、UV~NIR光谱分析。

高性能的低价光学薄膜测量仪。

藉由绝对反射率光谱分析膜厚。

完整继承FE-3000高端机种90%的强大功能。

无复杂设定,操作简单,短时间内即可上手。

非线性最小平方法解析光学常数(n:折射率、k:消光系数)。


产品规格:                                                            

型号FE-300VFE-300UVFE-300NIR
对应膜厚标准型薄膜型厚膜型超厚膜型
样品尺寸最大8寸晶圆(厚度5mm
膜厚范围100nm~40μm10nm~20μm3μm~30μm15μm~1.5mm
波长范围450nm~780nm300nm~800nm900nm~1600nm1470nm~1600nm
膜厚精度±0.2nm以内±0.2nm以内--
重复再现性(2σ)0.1nm以内0.1nm以内--
测量时间0.1s10s以内
测量口径Φ3mm
光源卤素灯UV用D2卤素灯卤素灯
通讯界面USB
尺寸重量280W×570D×350Hmm,约24kg
软件功能
标准功能波峰波谷解析、FFT解析、最适化法解析、最小二乘法解析
选配功能材料分析软件、薄膜模型解析、标准片解析

 应用范围:                                                            

半导体晶圆膜(光阻、SOI、SiO2等)

光学薄膜(OC膜、AR膜、ITO、IZO膜等)


应用范例:                                                            

PET基板上的DLC膜

Si基板上的SiNx

 

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