高精度激光干涉样品台
高精度激光干涉样品台

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XENOS

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XeMove

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欧洲

  • 银牌
  • 第11年
  • 一般经销商
  • 营业执照已审核
该产品已下架
核心参数
科研工作者在做电子束曝光以及纳米刻蚀应用时,普通电镜或FIB的样品台由于精度限制很难达到很好的加工精度和拼接精度. XeMove超高精度样品台可以配合几乎所有主流电镜或FIB系统使用,利用激光干涉原理可以提高精度到10nm!
可配套电子束曝光做大范围纳米图形生成与高精度拼接,也可以配套FIB进行高精度纳米刻蚀沉积,以及满足半导体用户和反向工程用户对样品台高精度的要求!

Specifications

Measurement resolution: 10nm
Stitching + Overlay Accuracy: +/- 100 nm
Travel ranges available: 55 to 120 mm, depending on model
Travel speed: 2 mm/s
Yaw-, Roll- and Pitch- error: < 0,002°
Controlled axis: X and Y, Z controlled via SEM main stage
Vacuum and Materials: < 10-6 mbar, completely oil free and non-magnetic design

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高精度激光干涉样品台信息由溢鑫科创科技集团为您提供,如您想了解更多关于高精度激光干涉样品台报价、型号、参数等信息,溢鑫科创客服电话:400-860-5168转2856,欢迎来电或留言咨询。
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